Öffentliche Ausschreibung München 2022 PVD Cluster - PR21040-2480-W Referenznummer der Bekanntmachung: PR21040-2480-W 2022-12-16

PVD Cluster - PR21040-2480-W Referenznummer der Bekanntmachung: PR21040-2480-W

Bekanntmachung vergebener Aufträge

Ergebnisse des Vergabeverfahrens

Lieferauftrag

Rechtsgrundlage:

Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1)Name und Adressen

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
NUTS-Code: DE212 München, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://vergabe.fraunhofer.de/

I.2)Informationen zur gemeinsamen Beschaffung

Der Auftrag wird von einer zentralen Beschaffungsstelle vergeben

I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers

Andere: Research Society e. V.

I.5)Haupttätigkeit(en)

Andere Tätigkeit: Research and Development

Abschnitt II: Gegenstand

II.1)Umfang der Beschaffung

II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

PVD Cluster - PR21040-2480-W

Referenznummer der Bekanntmachung: PR21040-2480-W

II.1.2)CPV-Code Hauptteil

42990000 Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke

II.1.3)Art des Auftrags

Lieferauftrag

II.1.4)Kurze Beschreibung:

PVD Cluster

II.1.6)Angaben zu den Losen

Aufteilung des Auftrags in Lose: nein

II.1.7)Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.)

Wert ohne MwSt.: [Betrag gelöscht] EUR

II.2)Beschreibung

II.2.3)Erfüllungsort

NUTS-Code: DED21 Dresden, Kreisfreie Stadt

Hauptort der Ausführung:

Fraunhofer IPMS

An der Bartlake 5

01109 Dresden

II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

1pc The equipment should meet all requirements of this specification and the applicable documents. Any changes or additions to the equipment specification made after purchase must be mutually agreed upon by the vendor and Fraunhofer IPMS The full system including all subsystems has to be chemically stable and compatible to cleanroom class 6 EN ISO 14644-1. Cleanroom integrity has to be secured. The full system has to comply with the technical general tender specification (TGTS). All cables and connections need to be clearly marked at both ends and at the equipment with reference to the delivered equipment documentation. Option: 5.1.1 Additional FOUP load ports 5.1.2 Dual handling system 5.1.3 Pre clean chamber 5.1.4 Additional deposition processes 5.1.5 PLD deposition chamber 5.1.6 Evaporation deposition chamber 5.1.7 In situ thickness monitoring 5.1.8 Analytics option 5.1.9 Analytic system 5.1.10 High temperature stage 5.1.11 Extended warranty 5.1.12 Maintenance training 5.1.13 Service contract 5.2.1 Cleaning 5.2.2 Plasma monitoring 5.2.3 UHV upgrade 5.2.4 High temperature stage 5.2.5 Evaporation chamber wall cooling system upgrade 5.2.6 Sputter chamber target movement 5.2.7 Mass spectrometry 5.2.8 Additional sputter deposition processes 5.2.9 Additional PLD deposition processes 5.2.10 Additional evaporation deposition processes 5.2.11 Quenching chamber 5.2.12 Chemical cleaning chamber 5.2.13 Ion beam trimming chamber 5.2.14 Post anneal chamber 5.2.15 CVD deposition chamber 5.2.16 ALD deposition chamber 5.2.17 Film thickness analytics 5.2.18 Additional deposition processes 5.2.19 Further analytics or deposition chambers 5.2.20 System extension

II.2.5)Zuschlagskriterien

Qualitätskriterium - Name: Techical Details / Gewichtung: 65,00

Preis - Gewichtung: 35,00

II.2.11)Angaben zu Optionen

Optionen: ja

Beschreibung der Optionen:

5.1.1 Additional FOUP load ports 5.1.2 Dual handling system 5.1.3 Pre clean chamber 5.1.4 Additional deposition processes 5.1.5 PLD deposition chamber 5.1.6 Evaporation deposition chamber 5.1.7 In situ thickness monitoring 5.1.8 Analytics option 5.1.9 Analytic system 5.1.10 High temperature stage 5.1.11 Extended warranty 5.1.12 Maintenance training 5.1.13 Service contract 5.2.1 Cleaning 5.2.2 Plasma monitoring 5.2.3 UHV upgrade 5.2.4 High temperature stage 5.2.5 Evaporation chamber wall cooling system upgrade 5.2.6 Sputter chamber target movement 5.2.7 Mass spectrometry 5.2.8 Additional sputter deposition processes 5.2.9 Additional PLD deposition processes 5.2.10 Additional evaporation deposition processes 5.2.11 Quenching chamber 5.2.12 Chemical cleaning chamber 5.2.13 Ion beam trimming chamber 5.2.14 Post anneal chamber 5.2.15 CVD deposition chamber 5.2.16 ALD deposition chamber 5.2.17 Film thickness analytics 5.2.18 Additional deposition processes 5.2.19 Further analytics or deposition chambers 5.2.20 System extension

II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union

Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein

II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1)Beschreibung

IV.1.1)Verfahrensart

Verhandlungsverfahren

IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem

IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)

Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja

IV.2)Verwaltungsangaben

IV.2.1)Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren

Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2022/S 084-223875

IV.2.8)Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems

IV.2.9)Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Auftrags-Nr.: 1

Bezeichnung des Auftrags:

PVD Cluster

Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja

V.2)Auftragsvergabe

V.2.1)Tag des Vertragsabschlusses:

05/12/2022

V.2.2)Angaben zu den Angeboten

Anzahl der eingegangenen Angebote: 1

Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 1

Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 1

Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0

Anzahl der elektronisch eingegangenen Angebote: 1

Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein

V.2.3)Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Oetervraa
NUTS-Code: DK01 Hovedstaden
Postleitzahl: 9750
Land: Dänemark
E-Mail: [gelöscht]

Der Auftragnehmer ist ein KMU: ja

V.2.4)Angaben zum Wert des Auftrags/Loses (ohne MwSt.)

Gesamtwert des Auftrags/Loses: [Betrag gelöscht] EUR

V.2.5)Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3)Zusätzliche Angaben:

VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren

VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland

VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse: https://www.fraunhofer.de

VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:

12/12/2022

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