Trockenchemische Ätzanlage (RIE) Referenznummer der Bekanntmachung: M/HSB1/MT741/EIT2.1_MP
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Ergebnisse des Vergabeverfahrens
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Neubiberg
NUTS-Code: DE21H München, Landkreis
Postleitzahl: 85577
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: http://www.evergabe-online.de/
Abschnitt II: Gegenstand
Trockenchemische Ätzanlage (RIE)
Auftragsgegenstand ist die Lieferung, Installation und Inbetriebnahme einer Trockenchemischen Ätzanlage (RIE) inkl. Schulung
Neubiberg
Die Universität der Bundeswehr plant im Rahmen des DTEC Projekts die Beschaffung einer trockenchemischen Ätzanlage (einer RIE (reaktive ion etch) Anlage). Dabei wird ein erprobtes System gesucht, welches zur Ätzung von dielektrischen Schichten (z.B. Siliziumnitrid, Siliziumoxid, Polymere und Fotolacke) und von Silizium geeignet ist. Die zu ätzenden Schichten befinden sich dabei auf Siliziumsubstraten. Substratformate sind hier vorwiegend Wafer mit den Durchmessern 100 mm, 150 mm und 200 mm; es sollen aber auch kleinere Formate und Bruchstücke in der Anlage geätzt werden. Es werden auch doppelseitig polierte Wafer prozessiert. Einzelheiten ergeben sich aus der Leistungsbeschreibung.
Siehe Leistungsbeschreibung. Die Anlage muss mit einem in die Software integrierbaren Laserinterferometer-System nachrüstbar sein - bestehend aus Lichtquelle (670nm, x-y Tisch und Eintrittsfenster (>= 25 mm)). Der Preis für das System ist als Option im Angebot anzugeben.
Abschnitt IV: Verfahren
Abschnitt V: Auftragsvergabe
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland
Telefon: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]
Internet-Adresse: https://www.bundeskartellamt.de