Materialanalysemikroskop mit Schichtdickenmessystem - PR58991-2270-W Referenznummer der Bekanntmachung: PR58991-2270-W
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Ergebnisse des Vergabeverfahrens
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
NUTS-Code: DE212 München, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://vergabe.fraunhofer.de/
Abschnitt II: Gegenstand
Materialanalysemikroskop mit Schichtdickenmessystem - PR58991-2270-W
Materialanalysemikroskop mit Schichtdickenmessystem
Fraunhofer EMFT
Hansastraße 27d
80686 München
1 Stück Damit bei der physikalischen Analyse einer integrierten Schaltung auf ihre jeweiligen Metalllagen exakt delayert werden kann, muss das, zwischen diesen Lagen befindliche IMD-Material über chemische Prozesse abgetragen werden. Im Falle von aktuellen Cu-Technologien der ICs betragen diese IMD-Schichtendicken teils wenige 10 nm. Für die Prozessentwicklung und -durchführung ist es demnach von äußerster Wichtigkeit, solche (semi-)transparenten IMD-Schichtdicken präzise messen zu können. Aus diesem Grund soll ein Schichtdickenmesssystem auf Mikroskopbasis mit den nachfolgenden Kriterien beschafft werden.
EFRE Mittel (REACT Projekt)
Abschnitt IV: Verfahren
Abschnitt V: Auftragsvergabe
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse: https://www.fraunhofer.de