Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
NUTS-Code: DE212 München, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://vergabe.fraunhofer.de/

Der Auftrag wird von einer zentralen Beschaffungsstelle vergeben

Andere: Forschung und Entwicklung

Andere Tätigkeit: Forschung und Entwicklung

Nasschemische Inline-Prozessanlage

Referenznummer der Bekanntmachung: E_035_352731

Lieferauftrag

Nasschemische Inline-Prozessanlage

Aufteilung des Auftrags in Lose: nein

Wert ohne MwSt.: [Betrag gelöscht] EUR

NUTS-Code: DE131 Freiburg im Breisgau, Stadtkreis

Hauptort der Ausführung:

Fraunhofer Institut ISE

Micronas (z.Hd. Fraunhofer ISE, Geb 3)

Hans-Bunte-Str. 19

79108 Freiburg

1 Stück Gegenstand der Beschaffung ist eine nasschemische Prozessanlage zur einseitigen und zweiseitigen Bearbeitung von Siliziumwafern bei der Herstellung von Solarzellen. Die Anlage ist auf einen vollautomatischen Betrieb auszulegen, d.h. das initiale Ansetzen von Ätzbädern, der Transport der Wafer durch die Anlage, die Nachdosierung verbrauchter Chemikalien sowie das Entleeren und Spülen der Anlage erfolgen automatisch und können über ein Bedienerpanel gesteuert werden. Optionen: > 1.2 Nicht benötigter Platz soll mit Hilfe eines Verdrängungskörpers ausgestattet werden, um die Menge der verwendeten Chemikalien so gering wie möglich zu halten. > 5.12 Die Transportgeschwindigkeit ist im Bereich zwischen 1,1 m/min und 4 m/min (optional auch 0,2 m/min und 4 m/min) einstellbar > 5.13 Es sind innerhalb der Anlage zwei unterschiedliche Transportgeschwindigkeiten realisierbar, eine im vorderen Bereich des Ätzprozesses und eine im hinteren Bereich der Reinigungsbecken. > 5.14 Die Trennung beider Geschwindigkeits¬bereiche soll durch kleine Umbaumaßnahmen (z.B. Versetzen einer Kupplung) versetzbar sein. > 12.29 Es ist eine einmalige Wartung durch den Hersteller kurz vor Ende der Gewährleistung anzubieten. Diese Position ist im Angebot gesondert auszuweisen. > 21. Saure Texturierung > 23.56 Im Nachreinigungsbecken wird ein doppelter Ozon-Reinigungsschritt enthaltenermöglicht, also die Sequenz (O3 - HF - O3 - HF) (siehe Pos. 188) > 30.70 Das Spülwasser aus dem Prozessbereich darf nicht ungehindert in den Vorlagetank gelangen, sondern wird über eine Spülwasserleitung entsorgt. Somit soll verhindert werden, dass Spülwässer aus dem Prozessbereich die Chemie im Vorlagetank verdünnen. >32.86 Das Becken verfügt über eine analoge Levelmessung im oberen Prozessbereich (stehende Welle) > 32.87 Leitwertmessung > 33.101 Das Becken verfügt über eine analoge Levelmessung im oberen Prozessbereich (stehende Welle) > 34.118 Das Becken verfügt über eine analoge Levelmessung im oberen Prozessbereich (stehende Welle) >34.128 Eine Dosiervorrichtung für Additive aus 5l- oder 10l-Kanistern ist anzubieten. > 35.139 Das Becken verfügt über eine analoge Levelmessung im oberen Prozessbereich (stehende Welle) >36.157 Das Becken verfügt über eine analoge Levelmessung im oberen Prozessbereich (stehende Welle) >36.170 Das Becken ist für einen doppelten Reinigungsprozess auszulegen (siehe Anhang) Diese Position ist im Angebot gesondert auszuweisen. >40.195 Es ist eine Vorrichtung zur Oxidation der trockenen Wafer mit Hilfe von gasförmigem Ozon anzubieten. Diese Position ist im Angebot gesondert auszuweisen. >54. 218. Die Anlage soll zuvor definierte Daten in Datenbausteinen in der SPS zum Auslesen zur Verfügung stellen. Diese Daten können beispielsweise Badtemperaturen, Umwälzgeschwindigkeiten, Ventilzustände, Heiz-/Kühlzustände etc. sein. 219. Die Anlage ist mit einem OPC-UA-Server auszustatten. Die zu übertragenden Daten sind mit dem Fraunhofer ISE abzustimmen. 220. Die Anlage verfügt über eine eigene SQL-Datenbank mit Prozessdaten. >60.229 Die Anlage verfügt über ein gespiegeltes Festplattensystem, um einen Festplatten¬defekt automatisch zu überbrücken. Alternativ ist auch eine Spiegelung/Backup über mobile Datenträger möglich. >66.246 Diese Schnittstelle ist dahingehend zu erweitern, dass die hier definierten spezifischen Anforderungen des Anlagenkonzepts für Anlagen mit automatisiertem Carrier Be- und Entladesystem bezüglich des virtuellen Materialtrackings erfüllt werden (vgl. Pos 75). Die Details hierzu sind mit dem Auftraggeber in einer gesonderten Spezifikation auszuarbeiten. >71.256 Die Menge der entsorgten HF-haltigen Medien wird von der Anlage erfasst werden.

Qualitätskriterium - Name: Technische Ausführung / Gewichtung: 50,00

Qualitätskriterium - Name: Lieferzeit / Gewichtung: 15,00

Preis - Gewichtung: 35,00

Optionen: ja

Beschreibung der Optionen:

> 1.2 Nicht benötigter Platz soll mit Hilfe eines Verdrängungskörpers ausgestattet werden, um die Menge der verwendeten Chemikalien so gering wie möglich zu halten. > 5.12 Die Transportgeschwindigkeit ist im Bereich zwischen 1,1 m/min und 4 m/min (optional auch 0,2 m/min und 4 m/min) einstellbar > 5.13 Es sind innerhalb der Anlage zwei unterschiedliche Transportgeschwindigkeiten realisierbar, eine im vorderen Bereich des Ätzprozesses und eine im hinteren Bereich der Reinigungsbecken. > 5.14 Die Trennung beider Geschwindigkeits¬bereiche soll durch kleine Umbaumaßnahmen (z.B. Versetzen einer Kupplung) versetzbar sein. > 12.29 Es ist eine einmalige Wartung durch den Hersteller kurz vor Ende der Gewährleistung anzubieten. Diese Position ist im Angebot gesondert auszuweisen. > 21. Saure Texturierung > 23.56 Im Nachreinigungsbecken wird ein doppelter Ozon-Reinigungsschritt enthaltenermöglicht, also die Sequenz (O3 - HF - O3 - HF) (siehe Pos. 188) > 30.70 Das Spülwasser aus dem Prozessbereich darf nicht ungehindert in den Vorlagetank gelangen, sondern wird über eine Spülwasserleitung entsorgt. Somit soll verhindert werden, dass Spülwässer aus dem Prozessbereich die Chemie im Vorlagetank verdünnen. >32.86 Das Becken verfügt über eine analoge Levelmessung im oberen Prozessbereich (stehende Welle) > 32.87 Leitwertmessung > 33.101 Das Becken verfügt über eine analoge Levelmessung im oberen Prozessbereich (stehende Welle) > 34.118 Das Becken verfügt über eine analoge Levelmessung im oberen Prozessbereich (stehende Welle) >34.128 Eine Dosiervorrichtung für Additive aus 5l- oder 10l-Kanistern ist anzubieten. > 35.139 Das Becken verfügt über eine analoge Levelmessung im oberen Prozessbereich (stehende Welle) >36.157 Das Becken verfügt über eine analoge Levelmessung im oberen Prozessbereich (stehende Welle) >36.170 Das Becken ist für einen doppelten Reinigungsprozess auszulegen (siehe Anhang) Diese Position ist im Angebot gesondert auszuweisen. >40.195 Es ist eine Vorrichtung zur Oxidation der trockenen Wafer mit Hilfe von gasförmigem Ozon anzubieten. Diese Position ist im Angebot gesondert auszuweisen. >54. 218. Die Anlage soll zuvor definierte Daten in Datenbausteinen in der SPS zum Auslesen zur Verfügung stellen. Diese Daten können beispielsweise Badtemperaturen, Umwälzgeschwindigkeiten, Ventilzustände, Heiz-/Kühlzustände etc. sein. 219. Die Anlage ist mit einem OPC-UA-Server auszustatten. Die zu übertragenden Daten sind mit dem Fraunhofer ISE abzustimmen. 220. Die Anlage verfügt über eine eigene SQL-Datenbank mit Prozessdaten. >60.229 Die Anlage verfügt über ein gespiegeltes Festplattensystem, um einen Festplatten¬defekt automatisch zu überbrücken. Alternativ ist auch eine Spiegelung/Backup über mobile Datenträger möglich. >66.246 Diese Schnittstelle ist dahingehend zu erweitern, dass die hier definierten spezifischen Anforderungen des Anlagenkonzepts für Anlagen mit automatisiertem Carrier Be- und Entladesystem bezüglich des virtuellen Materialtrackings erfüllt werden (vgl. Pos 75). Die Details hierzu sind mit dem Auftraggeber in einer gesonderten Spezifikation auszuarbeiten. >71.256 Die Menge der entsorgten HF-haltigen Medien wird von der Anlage erfasst werden.

Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein

Auftragsvergabe ohne vorherige Bekanntmachung eines Aufrufs zum Wettbewerb im Amtsblatt der Europäischen Union (für die unten aufgeführten Fälle)

Erläuterung:

Patentlierte Technologie erforderlich

Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja

Auftrags-Nr.: 1

Nasschemische Inline-Prozessanlage

Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja

09/11/2021

Anzahl der eingegangenen Angebote: 1

Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 0

Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 0

Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0

Anzahl der elektronisch eingegangenen Angebote: 1

Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Gütenbach
NUTS-Code: DE131 Freiburg im Breisgau, Stadtkreis
Postleitzahl: 78148
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]

Der Auftragnehmer ist ein KMU: nein

Gesamtwert des Auftrags/Loses: [Betrag gelöscht] EUR

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse: https://www.fraunhofer.de

09/11/2021