ECM Anlage zum Abtrag von Metallschichten auf flachen Substraten Referenznummer der Bekanntmachung: E_035_356355
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Ergebnisse des Vergabeverfahrens
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
NUTS-Code: DE212 München, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://vergabe.fraunhofer.de/
Abschnitt II: Gegenstand
ECM Anlage zum Abtrag von Metallschichten auf flachen Substraten
E_035_356355 MalOle-KauAnj
ECM Anlage zum Abtrag von Metallschichten auf flachen Substraten
ISE (N)
Berliner Allee 30
79110 Freiburg
Das Fraunhofer ISE plant die Anschaffung einer (gepulsten) ECM Laboranlage zur Abtragung von Metallschichten von Leiterplatten und vergleichbaren dünnen und flächigen Substraten (z.B. Folien und Solarzellen) Angeschafft werden soll eine Anlage zum gepulsten elektrochemischen Abtragen (ECM / PECM) von Metallschichten von Kupfer und Aluminium (soweit möglich auch andere Metalle und möglichst große Flexibilität der Anlage in dieser Hinsicht) von flachen (<5mm Materialstärke) nicht leitenden Substraten wie Leiterplattenmaterial FR4, Foliensubstrat Polyimid, PP oder PE in Formaten von mindestens 156x156mm², besser 459x264mm², noch besser 459x428mm². Die zusätzliche Möglichkeit der Bearbeitung vollmetallischer Substrate mit größerer Dicke ("klassisches" ECM / PECM) erhöht die Einsatzmöglichkeiten am Institut und ist daher von Vorteil.
Abschnitt IV: Verfahren
Abschnitt V: Auftragsvergabe
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse: https://www.fraunhofer.de