Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER - E_019_250426 Referenznummer der Bekanntmachung: E_019_250426
Auftragsbekanntmachung
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
NUTS-Code: DE212 München, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://vergabe.fraunhofer.de/
Abschnitt II: Gegenstand
Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER - E_019_250426
E_019_250426 MalOle-bla Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER (Hoch Ionisierte Plasmen zur Schichtabscheidung für Tribo-Anwendungen und Materials Engineering)
IWM
Wöhlerstraße 11
79108 Freiburg
Kurzbeschreibung
Multifunktionale Beschichtungsanlage mit modernster Quellentechnologie (Arc, HIPIMS, PA-CVD, Ionenquelle). Geforderte Kernkomponenten der Anlage:
-Probenheizer bis 250 °C Substrattemperatur für Precleaning
-PACVD-Beschichtungsquelle
-2 x HiPIMS-Quellen HiPIMS peak current > 1 A/cm²; peak voltage > 1kV; umschaltbar auf HF > 5W/cm² / DC > 6W/cm²;
-Ionenquelle/Ionenätzer zur Substratreinigung und ionengestützter Abscheidung (IBAD)
-1 x ARC-Quelle
-Mindestens 1 Position als 'Reserve', nachrüstbar mit weiterer Quelle
-Heizer an einer Magnetron-Quellenposition, Tmax >= 800 °C am Substrat
-Einlass für Reaktivgase O2, N2, CH4, H2
-Downstream-Druckregelung über Schieberventil
-Prozesskontrolle: glasfaserspektrometrische Beobachtung der Plasmaentladung o.ä., Sichtfenster für optische Beobachtung
-Separate Kammer für Schichtanalytik über Ramananalyse, XPS-Analyse o.Ä. (die Analytik selbst ist nicht Bestandteil der Ausschreibung)
-Umfangreiche Möglichkeiten zum Substrathandling
-Substrat HF-biasfähig, Flächenleistung > 0,5 W/cm²
-Software/Steuerung: Erfassung aller relevanten Prozessparameter (Druck- Leistung, Temperatur, etc.); Erzeugung Datenfiles als Excel o.ä.; grafische Darstellung, Schnittstelle der Steuerung zu z.B. Labview
I. 2. Heizer im Kammer 2, analog zu erstem Heizer (Pos 32)
II. Rohrmagnetron für eine freie Quellenposition
III. in Kammer 2: aktive Kühlmöglichkeit für Substrat während der Arc-Beschichtung, z.B. über ausfahrbaren Kühlfinger. Kann je nach Anlagenkonzept neben dem vorhandenen Heizer oder im Austausch für den Heizer ausgeführt werden
IV. weitere HiPims-Quelle, dabei beschichtbare Fläche bis zu 350 mm x 350 mm mit Dickenkonstanz ±5%
V. Mimik zum Verfahren der HiPIMS-Quellen zum Einstellen des Abstandes Quelle-Substrat; Verfahrweg mind. 80 mm
VI. Zusätzlich in Kammer 1 eine induktiv gekoppelte, impedanzangepasste PA-CVD Quelle, 13,56 MHz mit wassergekühlter Spule, Leistung > 1000 W
VII. statt Arc-Quelle: filtered arc-Quelle. Dabei können mehrere kleine Quellen zu einer großen Quelle zusammengefasst werden
VIII. Möglichkeit zur Abkopplung von Kammer 3 ohne Vakuumunterbrechung.
IX. Weiteres Chargierfahrzeug für planare oder rotationssymmetrische Substrate
X. Chargierfahrzeug mit herausnehmbarer Kassette zum erleichterten Handling kleiner Proben, passend zur Transferstange in der Analytik-Kammer
Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Angaben
Direktlink auf Dokument mit Eignungskriterien: (URL) https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-17b2ac0ee7b-4ab91fda28e19b58
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Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen. Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen; deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.
Abschnitt IV: Verfahren
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland
Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB) . Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse: https://www.fraunhofer.de