Öffentliche Ausschreibung München 2021 Ionenstrahlsputteranlage Referenznummer der Bekanntmachung: E_062

Ionenstrahlsputteranlage Referenznummer der Bekanntmachung: E_062_276983

Bekanntmachung vergebener Aufträge

Ergebnisse des Vergabeverfahrens

Lieferauftrag

Rechtsgrundlage:

Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1)Name und Adressen

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
NUTS-Code: DE212 München, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://vergabe.fraunhofer.de/

I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers

Andere: Forschung und Entwicklung

I.5)Haupttätigkeit(en)

Andere Tätigkeit: Forschung und Entwicklung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1)Umfang der Beschaffung

II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

Ionenstrahlsputteranlage

Referenznummer der Bekanntmachung: E_062_276983

II.1.2)CPV-Code Hauptteil

42990000 Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke

II.1.3)Art des Auftrags

Lieferauftrag

II.1.4)Kurze Beschreibung:

E_062_276983 MalOle-bla

Ionenstrahlsputteranlage.

II.1.6)Angaben zu den Losen

Aufteilung des Auftrags in Lose: nein

II.1.7)Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.)

Wert ohne MwSt.: [Betrag gelöscht] EUR

II.2)Beschreibung

II.2.3)Erfüllungsort

NUTS-Code: DED2 Dresden

Hauptort der Ausführung:

IWS

Winterbergstraße 28

1277 Dresden

II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

1 Stück Die Ionenstrahlsputteranlage soll für die Präzisionsbeschichtung von optischen Substraten (d. h. i. A. die optische Vergütung von polierten Spiegel- oder Linsenoberflächen) mit bis zu ø 300 mm Durchmesser und bis zu 50 mm Höhe mittels Ionenstrahlsputterdeposition ausgelegt sein. Zudem soll sie neben der primären Sputter-Ionenquelle eine zweite, bewegliche Ionenstrahlquelle enthalten, die das Konturieren und Glätten der Substratoberfläche am Ort der Beschichtung ermöglicht. Für die Erzeugung von Multischichtsystemen besitzt sie eine in-situ Targetwechselvorrichtung für mindestens vier Materialien mit der Möglichkeit, 2 Materialien auch paarweise gleichzeitig zu sputtern (z. B. für Mischschichten in sog. Rugate-Filtern) sowie in-situ Monitorierungssysteme der abgeschiedenen physikalischen und optischen Schichtdicke, die zur rezeptorientierten, vollautomatischen Prozesskontrolle eingesetzt werden können. Desweiteren soll die Anlage für reaktive Schichtabscheidung geeignet sein (Sputtern von metallischen Materialien in sauerstoff- oder stickstoffhaltiger Umgebung) inklusive der dazu notwendigen Prozesssteuerung. Sie besitzt eine teilautomatisierte Vakuumschleuse zum zeitsparenden Ein- und Ausschleusen des Beschichtungssubstrates.

II.2.5)Zuschlagskriterien

Qualitätskriterium - Name: Technisches Umsetzungskonzept / Gewichtung: 70,00

Preis - Gewichtung: 30,00

II.2.11)Angaben zu Optionen

Optionen: ja

Beschreibung der Optionen:

— Option 1: 4 Targets im Lieferumfang: 1 x Si (4N); 1 x Ti (3N5); 1 x Al (4N); 1 x Cr (3N5),

— Option 2: Targetwechselsystem mit 6 (statt 4) Targetpositionen,

— Option 3: Positionsabhängige Steuerung (Kopplung) von Assistquellen-Achsensystem und Substratrotation,

— Option 4: Testglaswechsler für den Einsatz mehrerer Monitorproben während eines Beschichtungsprozesses.

II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union

Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: ja

Projektnummer oder -referenz:

EFRE

II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1)Beschreibung

IV.1.1)Verfahrensart

Verhandlungsverfahren

IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem

IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)

Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja

IV.2)Verwaltungsangaben

IV.2.1)Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren

Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2021/S 040-097432

IV.2.8)Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems

IV.2.9)Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Auftrags-Nr.: 1

Bezeichnung des Auftrags:

Ionenstrahlsputteranlage

Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja

V.2)Auftragsvergabe

V.2.1)Tag des Vertragsabschlusses:

21/06/2021

V.2.2)Angaben zu den Angeboten

Anzahl der eingegangenen Angebote: 2

Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 2

Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 2

Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 2

Anzahl der elektronisch eingegangenen Angebote: 2

Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein

V.2.3)Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Hannover
NUTS-Code: DE92 Hannover
Postleitzahl: 30419
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]

Der Auftragnehmer ist ein KMU: ja

V.2.4)Angaben zum Wert des Auftrags/Loses (ohne MwSt.)

Gesamtwert des Auftrags/Loses: [Betrag gelöscht] EUR

V.2.5)Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3)Zusätzliche Angaben:

VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren

VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland

VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse: https://www.fraunhofer.de

VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:

21/06/2021

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