Öffentliche Ausschreibung München 2021 E_079_236251 ksp-pehue Plasmaunterstützte Atomic Layer Etching (PEALE) Anlage Referenznummer der Bekanntmachung: E_079

E_079_236251 ksp-pehue Plasmaunterstützte Atomic Layer Etching (PEALE) Anlage Referenznummer der Bekanntmachung: E_079_236251

Bekanntmachung vergebener Aufträge

Ergebnisse des Vergabeverfahrens

Lieferauftrag

Rechtsgrundlage:

Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1)Name und Adressen

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
NUTS-Code: DE212 München, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [removed]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://vergabe.fraunhofer.de/

I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers

Andere: Forschung und Entwicklung

I.5)Haupttätigkeit(en)

Andere Tätigkeit: Forschung und Entwicklung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1)Umfang der Beschaffung

II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

E_079_236251 ksp-pehue Plasmaunterstützte Atomic Layer Etching (PEALE) Anlage

Referenznummer der Bekanntmachung: E_079_236251

II.1.2)CPV-Code Hauptteil

42990000 Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke

II.1.3)Art des Auftrags

Lieferauftrag

II.1.4)Kurze Beschreibung:

Plasmaunterstützte Atomic Layer Etching (PEALE) Anlage.

II.1.6)Angaben zu den Losen

Aufteilung des Auftrags in Lose: nein

II.2)Beschreibung

II.2.3)Erfüllungsort

NUTS-Code: DED Sachsen

Hauptort der Ausführung:

IISB

Zentrales Reinraumlabor

TU Bergakademie Freiberg

Institut für Angewandte Physik

Leipziger Straße 23

09599 Freiberg

II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

1 Stück mit der Atomic Layer Etching Anlage (ALE) sollen sowohl monolagengenaue, selbstlimitierende, sequentielle, plasmaunterstützte Atomlagenabtragungen als auch schädigungsarmes physikalisch-chemisches Trockenätzen (ICP-RIE) zur Strukturierung von unterschiedlichsten Materialien durchgeführt werden. Durch das THM Freiberg soll im Zentralen Reinraumlabor (ZRL) der TU Freiberg eine ALE-Anlage mit induktiver Plasmaerzeugung (PEALE — plasma enhanced atomic layer etching) installiert werden. Der Anbau an ein Niedertemperatur-Beschichtungscluster soll gewährleistet sein. Zudem soll die Anlage über alle notwendigen Komponenten zur Durchführung von schädigungsarmen ICP-RIE-Ätzungen sowohl mit Fluorchemie als auch mit Chlor-basierten Prozessen verfügen. Wir wollen unsere Forschung im Bereich Atomlagenätzen im Speziellen von SiO2, High-k, Nitride und III-V Materialien mit einer ISO9001 zertifizierten, 150 mm fähigen PEALE erweitern. Es wird eine in-situ Prozess- und optional eine Endpunktkontrolle gefordert. Optionen: Laser-Interferometer, Emissionsspektrometer,Wartung nach der Gewährleistungszeit.

II.2.5)Zuschlagskriterien

Preis

II.2.11)Angaben zu Optionen

Optionen: ja

Beschreibung der Optionen:

2.2.1 Laser-Interferometer,

2.2.2 Emissionsspektrometer,

2.6 Wartung nach der Gewährleistungszeit.

II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union

Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein

II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1)Beschreibung

IV.1.1)Verfahrensart

Offenes Verfahren

IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem

IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)

Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja

IV.2)Verwaltungsangaben

IV.2.1)Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren

Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2021/S [removed]

IV.2.8)Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems

IV.2.9)Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Ein Auftrag/Los wurde vergeben: nein

V.1)Information über die Nichtvergabe

Der Auftrag/Das Los wird nicht vergeben

Es sind keine Angebote oder Teilnahmeanträge eingegangen oder es wurden alle abgelehnt

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3)Zusätzliche Angaben:

VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren

VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland

VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: [removed]
Internet-Adresse: https://www.fraunhofer.de

VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:

12/03/2021

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