Offizielle Bezeichnung: Universität der Bundeswehr München (UniBw M)
Nationale Identifikationsnummer: DE811272995
Postanschrift: Werner-Heisenberg-Weg 39
Ort: Neubiberg
NUTS-Code: DE21H München, Landkreis
Postleitzahl: 85577
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n): ZV I.3
E-Mail:
Telefon: +49 8960042597
Fax: +49 8960044013
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: http://www.evergabe-online.de/

Ministerium oder sonstige zentral- oder bundesstaatliche Behörde einschließlich regionaler oder lokaler Unterabteilungen

Andere Tätigkeit: Lehre und Forschung

Spin-Coating-Cluster für diverse Wafer

Referenznummer der Bekanntmachung: M/HSB1/MT419/EIT2.1_KD

Lieferauftrag

Die Universität der Bundeswehr plant im Rahmen des DTEC Projekts die Beschaffung eines manuell zu bedienen Spincoating-Clusters zur Aufbringung von lichtsensitiven Schichten sogenannten Fotolacken. Die Flexibilität des Gerätes (unterschiedliche Waferformate und Beschichtungsmaterialien) und die Qualität der erzielbaren Ergebnisse sind wesentlich.

Im Bereich der Halbleitertechnologie spielt die sogenannte Lithographie eine entscheidende Rolle. Dabei werden Strukturen mithilfe eines optischen Systems in eine lichtsensitive Schicht geschrieben. Das hier zu beschaffende Spincoating-Cluster besteht aus einem Spin-Coater und einer Heizplatte (Hotplate). Dabei wird auf dem Spin-Coater unter Rotationsgeschwindigkeit der Fotolack aufgebracht und anschließend auf der Heizplatte ausgeheizt. Dies ist notwendig damit der Lack mechanisch und chemisch stabilisiert wird. Dabei wir eine hohe Anforderung an Homogenität und Partikelfreiheit der Schicht gelegt. Dies ist notwendig da sonst der anschließende Belichtungsprozess zu keinen zufriedenstellenden Ergebnissen führt.

Für diesen Vorgang werden hoch präzise Anlagen benötigt, die eine solche Auftragung reproduzierbar und flexibel ermöglichen. Zusätzlich muss das Clustertool eine hohe Flexibilität in Punkten wie verschiedene Fotolacke, unterschiedliche Substratgrößen und verschiedene Ausheizprogramme aufweisen. Aus diesem Grund soll die Bedienung manuell erfolgen. Aufgrund der beengten Platzverhältnisse im Labor kann nur ein Gerät als Clustertool aufgestellt werden.

Neben den prozessrelevanten Details der Anlagen, ist ebenso die sichere Anwendung für den Operator zu beachten. Hierbei gilt es zu gewährleisten, dass ein erhöhtes Gefahrenpotential durch mechanische, sowie chemische Komponenten ausgeschlossen wird.

Aufteilung des Auftrags in Lose: nein

Wert ohne MwSt.: [Betrag gelöscht] EUR

NUTS-Code: DE21H München, Landkreis

Hauptort der Ausführung:

Siehe Verzeichnis der Empfängeranschriften

Die Universität der Bundeswehr plant im Rahmen des DTEC Projekts die Beschaffung eines manuell zu bedienen Spincoating-Clusters zur Aufbringung von lichtsensitiven Schichten sogenannten Fotolacken. Die Flexibilität des Gerätes (unterschiedliche Waferformate und Beschichtungsmaterialien) und die Qualität der erzielbaren Ergebnisse sind wesentlich. Im Bereich der Halbleitertechnologie spielt die sogenannte Lithographie eine entscheidende Rolle. Dabei werden Strukturen mithilfe eines optischen Systems in eine lichtsensitive Schicht geschrieben. Das hier zu beschaffende Spincoating-Cluster besteht aus einem Spin-Coater und einer Heizplatte (Hotplate). Dabei wird auf dem Spin-Coater unter Rotationsgeschwindigkeit der Fotolack aufgebracht und anschließend auf der Heizplatte ausgeheizt. Dies ist notwendig damit der Lack mechanisch und chemisch stabilisiert wird. Dabei wir eine hohe Anforderung an Homogenität und Partikelfreiheit der Schicht gelegt. Dies ist notwendig da sonst der anschließende Belichtungsprozess zu keinen zufriedenstellenden Ergebnissen führt. Für diesen Vorgang werden hoch präzise Anlagen benötigt, die eine solche Auftragung reproduzierbar und flexibel ermöglichen. Zusätzlich muss das Clustertool eine hohe Flexibilität in Punkten wie verschiedene Fotolacke, unterschiedliche Substratgrößen und verschiedene Ausheizprogramme aufweisen. Aus diesem Grund soll die Bedienung manuell erfolgen. Aufgrund der beengten Platzverhältnisse im Labor kann nur ein Gerät als Clustertool aufgestellt werden. Neben den prozessrelevanten Details der Anlagen, ist ebenso die sichere Anwendung für den Operator zu beachten. Hierbei gilt es zu gewährleisten, dass ein erhöhtes Gefahrenpotential durch mechanische, sowie chemische Komponenten ausgeschlossen wird. (Anl.1)

Preis

Optionen: nein

Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein

Offenes Verfahren

Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja

Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2022/S 207-590392

Auftrags-Nr.: 1

Spin-Coating-Cluster für diverse Wafer

Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja

31/05/2023

Anzahl der eingegangenen Angebote: 1

Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 1

Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 0

Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0

Anzahl der elektronisch eingegangenen Angebote: 1

Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein

Offizielle Bezeichnung: SUSS MicroTec Solutions GmbH & Co. KG
Postanschrift: Ferdinand-von-Steinbeis Ring 10
Ort: Sternenfels
NUTS-Code: DE12B Enzkreis
Postleitzahl: 75447
Land: Deutschland

Der Auftragnehmer ist ein KMU: ja

Gesamtwert des Auftrags/Loses: [Betrag gelöscht] EUR

Offizielle Bezeichnung: Bundeskartellamt-VergabekammerdesBundes
Postanschrift: VillemomblerStraße76
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland
E-Mail:
Telefon: +49 2289499-0
Fax: +49 2289499-163
Internet-Adresse: https://www.bundeskartellamt.de/SharedDocs/Kontaktdaten/DE/Vergabekammern.html

31/07/2023