Öffentliche Ausschreibung München 2023 CAIBE & ICP Trockenätzer - PR352283-3240-W Referenznummer der Bekanntmachung: PR352283-3240-W 2023-05-08

CAIBE & ICP Trockenätzer - PR352283-3240-W Referenznummer der Bekanntmachung: PR352283-3240-W

Auftragsbekanntmachung

Lieferauftrag

Rechtsgrundlage:

Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1)Name und Adressen

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
NUTS-Code: DE212 München, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://vergabe.fraunhofer.de/

I.3)Kommunikation

Die Auftragsunterlagen stehen für einen uneingeschränkten und vollständigen direkten Zugang gebührenfrei zur Verfügung unter: https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/TenderingProcedureDetails?function=_Details&TenderOID=54321-Tender-18731535eba-287885d0a315b5fb

Weitere Auskünfte erteilen/erteilt die oben genannten Kontaktstellen

Angebote oder Teilnahmeanträge sind einzureichen elektronisch via: https://vergabe.fraunhofer.de

I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers

Andere: Forschung und Entwicklung

I.5)Haupttätigkeit(en)

Andere Tätigkeit: Forschung und Entwicklung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1)Umfang der Beschaffung

II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

CAIBE & ICP Trockenätzer - PR352283-3240-W

Referenznummer der Bekanntmachung: PR352283-3240-W

II.1.2)CPV-Code Hauptteil

42716200 Trockenmaschinen

II.1.3)Art des Auftrags

Lieferauftrag

II.1.4)Kurze Beschreibung:

CAIBE & ICP Trockenätzer

II.1.5)Geschätzter Gesamtwert

II.1.6)Angaben zu den Losen

Aufteilung des Auftrags in Lose: ja

Angebote sind möglich für alle Lose

II.2)Beschreibung

II.2.1)Bezeichnung des Auftrags:

Chemically Assisted Ion Beam Etching (CAIBE) Anlage

Los-Nr.: 1

II.2.2)Weitere(r) CPV-Code(s)

42716200 Trockenmaschinen

II.2.3)Erfüllungsort

NUTS-Code: DE3 Berlin

II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Ausgeschrieben wird eine Chemically Assisted Ion Beam Etching (CAIBE) Anlage. Mit dieser Anlage soll eine durch Maskierung vorgegebene Struktur in den Halbleiter übertragen werden. Geätzt werden sollen III-V Halbleitermaterialien InP, In(Al)GaAsP und In(Al)GaAs, sowie die Metallschichten Ti, Pt, und Au. Die Wafer sollen sowohl mit SiNx- als auch mit einer Lackmaske ätzbar sein. Des Weiteren muss die Ätzanlage über ein SIMS (Sekundär Ionen Massenspektrometer) Endpunktkontrollsystem verfügen, das die Erkennung von Materialübergängen erlaubt.

II.2.5)Zuschlagskriterien

Die nachstehenden Kriterien

Qualitätskriterium - Name: Technik / Gewichtung: 50,00

Qualitätskriterium - Name: Nachhaltigkeit / Gewichtung: 10,00

Preis - Gewichtung: 40,00

II.2.6)Geschätzter Wert

II.2.7)Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems

Beginn: 31/07/2023

Ende: 20/01/2025

Dieser Auftrag kann verlängert werden: nein

II.2.10)Angaben über Varianten/Alternativangebote

Varianten/Alternativangebote sind zulässig: nein

II.2.11)Angaben zu Optionen

Optionen: nein

II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union

Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: ja

Projektnummer oder -referenz:

FMD-QNC Investprojekt

II.2.14)Zusätzliche Angaben

II.2)Beschreibung

II.2.1)Bezeichnung des Auftrags:

Inductively Coupled Plasma (ICP) Anlage

Los-Nr.: 2

II.2.2)Weitere(r) CPV-Code(s)

42716200 Trockenmaschinen

II.2.3)Erfüllungsort

NUTS-Code: DE3 Berlin

II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Ausgeschrieben wird eine ICP Trockenätzanlage, für die Ätzung der Materialien InP, In(Al)GaAsP und In(Al)GaAs in einem Einzel- (3", 4" und 6") und Multiwafer Betrieb (3x3"). Geätzt werden sollen die Materialien InP, In(Al)GaAsP und In(Al)GaAs in einem Einzel- (3", 4" und 6") und Multiwafer Betrieb (3x3"). Die Wafer sollen sowohl mit SiNx- als auch mit einer Lackmaske ätzbar sein. Auch eine Ätzung von Metallschichten soll möglich sein. Im ICP-Mode (Inductively Coupled Plasma) soll eine Ätzrate im 3"-Einzelwaferprozess von mindestens 250 nm/min und eine Selektivität zur SiNx-Maske von mindestens 10:1 erreicht werden. Die Anlage soll zusätzlich mit hohen Ätzraten Tiefenätzungen durchführen. Dies ist durch die Nutzung von reaktiven Gasen (z.B. Cl2) möglich.

II.2.5)Zuschlagskriterien

Die nachstehenden Kriterien

Qualitätskriterium - Name: Technik / Gewichtung: 50,00

Qualitätskriterium - Name: Nachhaltigkeit / Gewichtung: 10,00

Preis - Gewichtung: 40,00

II.2.6)Geschätzter Wert

II.2.7)Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems

Beginn: 30/06/2023

Ende: 01/10/2024

Dieser Auftrag kann verlängert werden: nein

II.2.10)Angaben über Varianten/Alternativangebote

Varianten/Alternativangebote sind zulässig: nein

II.2.11)Angaben zu Optionen

Optionen: nein

II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union

Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: ja

Projektnummer oder -referenz:

FMD-QNC Investprojekt

II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Angaben

III.1)Teilnahmebedingungen

III.1.1)Befähigung zur Berufsausübung einschließlich Auflagen hinsichtlich der Eintragung in einem Berufs- oder Handelsregister

Auflistung und kurze Beschreibung der Bedingungen:

Direktlink auf Dokument mit Eignungskriterien: (URL) https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-18731535eba-287885d0a315b5fb

III.1.2)Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit

Auflistung und kurze Beschreibung der Eignungskriterien:

Direktlink auf Dokument mit Eignungskriterien: (URL) https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-18731535eba-287885d0a315b5fb

III.1.3)Technische und berufliche Leistungsfähigkeit

Auflistung und kurze Beschreibung der Eignungskriterien:

Direktlink auf Dokument mit Eignungskriterien: (URL) https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/SelectionCriteria/54321-Tender-18731535eba-287885d0a315b5fb

III.2)Bedingungen für den Auftrag

III.2.2)Bedingungen für die Ausführung des Auftrags:

Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen. Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen; deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1)Beschreibung

IV.1.1)Verfahrensart

Verhandlungsverfahren

IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem

IV.1.5)Angaben zur Verhandlung

IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)

Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja

IV.2)Verwaltungsangaben

IV.2.2)Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge

Tag: 02/06/2023

Ortszeit: 10:00

IV.2.3)Voraussichtlicher Tag der Absendung der Aufforderungen zur Angebotsabgabe bzw. zur Teilnahme an ausgewählte Bewerber

Tag: 15/06/2023

IV.2.4)Sprache(n), in der (denen) Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können:

Deutsch

IV.2.6)Bindefrist des Angebots

Das Angebot muss gültig bleiben bis: 15/09/2023

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.1)Angaben zur Wiederkehr des Auftrags

Dies ist ein wiederkehrender Auftrag: nein

VI.3)Zusätzliche Angaben:

VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren

VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland

VI.4.3)Einlegung von Rechtsbehelfen

Genaue Angaben zu den Fristen für die Einlegung von Rechtsbehelfen:

Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB) . Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB).

VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse: https://www.fraunhofer.de

VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:

03/05/2023

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