Öffentliche Ausschreibung München 2022 Maskless Lithography System 2022-07-01

Maskless Lithography System

Bekanntmachung vergebener Aufträge

Ergebnisse des Vergabeverfahrens

Lieferauftrag

Rechtsgrundlage:

Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1)Name und Adressen

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Nationale Identifikationsnummer: DE212
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
NUTS-Code: DE21H München, Landkreis
Postleitzahl: 80333
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://www.groups.ph.tum.de/

I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers

Andere: University

I.5)Haupttätigkeit(en)

Bildung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1)Umfang der Beschaffung

II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

Maskless Lithography System

II.1.2)CPV-Code Hauptteil

38433000 Spektrometer

II.1.3)Art des Auftrags

Lieferauftrag

II.1.4)Kurze Beschreibung:

System for direct maskless optical lithography using photo-active resists, comprising high sample throughput at very high resolution under a wide range of different optical and sample handling options.

II.1.6)Angaben zu den Losen

Aufteilung des Auftrags in Lose: nein

II.1.7)Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.)

Wert ohne MwSt.: [Betrag gelöscht] EUR

II.2)Beschreibung

II.2.3)Erfüllungsort

NUTS-Code: DE212 München, Kreisfreie Stadt

Hauptort der Ausführung:

Garching bei München

II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Optical maskelss lithogrphy system featuring:

(-) Environmental chamber with pre-cooling and filter system,

(-) Base granite with air cushions for vibration isolation,

(-) Optical system including highly reflective mirrors and DMDTM

(-) Draw Exposure Mode permitting hand controlled writing.

(-) Intensity Measurement Unit for laser power verification

(-) Overview camera for fast and easy alignment

(-) Camera system for high accuracy alignment to existing structures

(-) Real time pneumatic autofocus

(-) Stage system with multi-purpose vacuum chuck, linear motors, and position control by interferometer

(-) System control electronics and real-time software for interferometer, stage, and autofocus system, a real time pixel generator, and image processing hardware

(-) Computer system control and data conversion

(-) Conversion software for DXF, CIF, GDSII and Gerber file formats

(-) Automatic substrate labeling

(-) UV Diode Laser Illumination Module (375 nm)

(-) High resolution write mode

(-) Optical Autofocus

(-) Backside Alignment Camera

(-) Advanced Field Alignment Mode

(-) High Aspect Ratio Mode

(-) Delivery DAP TU Munich, Germany

II.2.5)Zuschlagskriterien

Qualitätskriterium - Name: speed of writing / Gewichtung: 30

Qualitätskriterium - Name: backside alignement camera / Gewichtung: 10

Qualitätskriterium - Name: resolution / Gewichtung: 20

Qualitätskriterium - Name: choice of optical wavelengths / Gewichtung: 10

Qualitätskriterium - Name: sample size / Gewichtung: 10

Qualitätskriterium - Name: environmentally stable preparation chamber / Gewichtung: 10

Qualitätskriterium - Name: adjustable autofocusing mode (pneumatic/optical) / Gewichtung: 10

Preis - Gewichtung: 0

II.2.11)Angaben zu Optionen

Optionen: ja

Beschreibung der Optionen:

Optional positions included in the system as described under II.2.4) are:

(-) UV Diode Laser Illumination Module (375 nm)

(-) High resolution write mode

(-) Optical Autofocus

(-) Backside Alignment Camera

(-) Advanced Field Alignment Mode

(-) High Aspect Ratio Mode

II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union

Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein

II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1)Beschreibung

IV.1.1)Verfahrensart

Auftragsvergabe ohne vorherige Bekanntmachung eines Aufrufs zum Wettbewerb im Amtsblatt der Europäischen Union (für die unten aufgeführten Fälle)

Die betreffenden Erzeugnisse werden gemäß den in der Richtlinie genannten Bedingungen ausschließlich für Forschungs-, Versuchs-, Untersuchungs- oder Entwicklungszwecke hergestellt
Die Bauleistungen/Lieferungen/Dienstleistungen können aus folgenden Gründen nur von einem bestimmten Wirtschaftsteilnehmer ausgeführt werden:
- nicht vorhandener Wettbewerb aus technischen Gründen

Erläuterung:

Maskless Lithography Systems are only manufactured by a very limited number of enterprises. The instrument chosen uniquely satisfies the combined set of technical requirements, in particular speed of writing, resolution, and wide functionality.

IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem

IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)

Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: nein

IV.2)Verwaltungsangaben

IV.2.8)Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems

IV.2.9)Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Auftrags-Nr.: 51-2013398-43655

Bezeichnung des Auftrags:

Maskless Lithography System

Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja

V.2)Auftragsvergabe

V.2.1)Tag des Vertragsabschlusses:

09/06/2022

V.2.2)Angaben zu den Angeboten

Anzahl der eingegangenen Angebote: 1

Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 0

Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0

Anzahl der elektronisch eingegangenen Angebote: 1

Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein

V.2.3)Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Heidelberg
NUTS-Code: DE125 Heidelberg, Stadtkreis
Postleitzahl: 69123
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Internet-Adresse: www.himt.de

Der Auftragnehmer ist ein KMU: nein

V.2.4)Angaben zum Wert des Auftrags/Loses (ohne MwSt.)

Ursprünglich veranschlagter Gesamtwert des Auftrags/des Loses: [Betrag gelöscht] EUR

Gesamtwert des Auftrags/Loses: [Betrag gelöscht] EUR

V.2.5)Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3)Zusätzliche Angaben:

VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren

VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
Postleitzahl: 80538
Land: Deutschland
Telefon: +49 8921760
Fax: [gelöscht]

VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:

28/06/2022

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