Öffentliche Ausschreibung München 2022 Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER Referenznummer der Bekanntmachung: E_019

Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER Referenznummer der Bekanntmachung: E_019_250426

Bekanntmachung vergebener Aufträge

Ergebnisse des Vergabeverfahrens

Lieferauftrag

Rechtsgrundlage:

Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1)Name und Adressen

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
NUTS-Code: DE212 München, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://vergabe.fraunhofer.de/

I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers

Andere: Forschung und Entwicklung

I.5)Haupttätigkeit(en)

Andere Tätigkeit: Forschung und Entwicklung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1)Umfang der Beschaffung

II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER

Referenznummer der Bekanntmachung: E_019_250426

II.1.2)CPV-Code Hauptteil

42990000 Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke

II.1.3)Art des Auftrags

Lieferauftrag

II.1.4)Kurze Beschreibung:

E_019_250426 MalOle-bla Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER (Hoch Ionisierte Plasmen zur Schichtabscheidung für Tribo-Anwendungen und Materials Engineering)

II.1.6)Angaben zu den Losen

Aufteilung des Auftrags in Lose: nein

II.1.7)Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.)

Wert ohne MwSt.: [Betrag gelöscht] EUR

II.2)Beschreibung

II.2.3)Erfüllungsort

NUTS-Code: DE131 Freiburg im Breisgau, Stadtkreis

Hauptort der Ausführung:

IWM

Wöhlerstraße 11

79108 Freiburg

II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Kurzbeschreibung Multifunktionale Beschichtungsanlage mit modernster Quellentechnologie (Arc, HIPIMS, PA-CVD, Ionenquelle). Geforderte Kernkomponenten der Anlage: -Probenheizer bis 250 °C Substrattemperatur für Precleaning -PACVD-Beschichtungsquelle -2 x HiPIMS-Quellen HiPIMS peak current > 1 A/cm²; peak voltage > 1kV; umschaltbar auf HF > 5W/cm² / DC > 6W/cm²; -Ionenquelle/Ionenätzer zur Substratreinigung und ionengestützter Abscheidung (IBAD) -1 x ARC-Quelle -Mindestens 1 Position als 'Reserve', nachrüstbar mit weiterer Quelle -Heizer an einer Magnetron-Quellenposition, Tmax >= 800 °C am Substrat -Einlass für Reaktivgase O2, N2, CH4, H2 -Downstream-Druckregelung über Schieberventil -Prozesskontrolle: glasfaserspektrometrische Beobachtung der Plasmaentladung o.ä., Sichtfenster für optische Beobachtung -Separate Kammer für Schichtanalytik über Ramananalyse, XPS-Analyse o.Ä. (die Analytik selbst ist nicht Bestandteil der Ausschreibung) -Umfangreiche Möglichkeiten zum Substrathandling -Substrat HF-biasfähig, Flächenleistung > 0,5 W/cm² -Software/Steuerung: Erfassung aller relevanten Prozessparameter (Druck- Leistung, Temperatur, etc.); Erzeugung Datenfiles als Excel o.ä.; grafische Darstellung, Schnittstelle der Steuerung zu z.B. Labview

II.2.5)Zuschlagskriterien

Qualitätskriterium - Name: technische Merkmale / Gewichtung: 65,00

Preis - Gewichtung: 35,00

II.2.11)Angaben zu Optionen

Optionen: ja

Beschreibung der Optionen:

I. 2. Heizer im Kammer 2, analog zu erstem Heizer (Pos 32) II. Rohrmagnetron für eine freie Quellenposition III. in Kammer 2: aktive Kühlmöglichkeit für Substrat während der Arc-Beschichtung, z.B. über ausfahrbaren Kühlfinger. Kann je nach Anlagenkonzept neben dem vorhandenen Heizer oder im Austausch für den Heizer ausgeführt werden IV. weitere HiPims-Quelle, dabei beschichtbare Fläche bis zu 350 mm x 350 mm mit Dickenkonstanz ±5% V. Mimik zum Verfahren der HiPIMS-Quellen zum Einstellen des Abstandes Quelle-Substrat; Verfahrweg mind. 80 mm VI. Zusätzlich in Kammer 1 eine induktiv gekoppelte, impedanzangepasste PA-CVD Quelle, 13,56 MHz mit wassergekühlter Spule, Leistung > 1000 W VII. statt Arc-Quelle: filtered arc-Quelle. Dabei können mehrere kleine Quellen zu einer großen Quelle zusammengefasst werden VIII. Möglichkeit zur Abkopplung von Kammer 3 ohne Vakuumunterbrechung. IX. Weiteres Chargierfahrzeug für planare oder rotationssymmetrische Substrate X. Chargierfahrzeug mit herausnehmbarer Kassette zum erleichterten Handling kleiner Proben, passend zur Transferstange in der Analytik-Kammer

II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union

Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein

II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1)Beschreibung

IV.1.1)Verfahrensart

Verhandlungsverfahren

IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem

IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)

Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja

IV.2)Verwaltungsangaben

IV.2.1)Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren

Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2021/S 161-422329

IV.2.8)Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems

IV.2.9)Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Auftrags-Nr.: 1

Bezeichnung des Auftrags:

Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER

Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja

V.2)Auftragsvergabe

V.2.1)Tag des Vertragsabschlusses:

02/02/2022

V.2.2)Angaben zu den Angeboten

Anzahl der eingegangenen Angebote: 1

Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 1

Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 1

Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 1

Anzahl der elektronisch eingegangenen Angebote: 1

Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein

V.2.3)Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Seligenstadt
NUTS-Code: DE71C Offenbach, Landkreis
Postleitzahl: 63500
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]

Der Auftragnehmer ist ein KMU: ja

V.2.4)Angaben zum Wert des Auftrags/Loses (ohne MwSt.)

Gesamtwert des Auftrags/Loses: [Betrag gelöscht] EUR

V.2.5)Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3)Zusätzliche Angaben:

VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren

VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland

VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse: https://www.fraunhofer.de

VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:

09/02/2022

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