Elektronenstrahl-Lithografieanlage Referenznummer der Bekanntmachung: 27-22 LR
Auftragsbekanntmachung
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Duisburg
NUTS-Code: DEA12 Duisburg, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 47057
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: www.uni-due.de
Abschnitt II: Gegenstand
Elektronenstrahl-Lithografieanlage
Die Universität Duisburg-Essen erforscht im Zentrum für Halbleitertechnik und Optoelektronik
in Duisburg Materialien, Halbleitertechnologien und Modulintegration für Anwendungen in der
Höchstfrequenzelektronik und in der Optoelektronik. Im ZHO wird zur Durchführung der
Forschungsarbeiten eine durchgängige Prozesslinie in einem Reinraum bis Klasse 5 (ISO
14644-1) betrieben.
Zur Untersuchung nanoskaliger Bauelemente wird eine höchstauflösende
Elektronenstrahl-Lithografieanlage benötigt. Es soll eine Anlage beschafft werden, die den
aktuellen Stand der Technik in Hinsicht auf maximale Auflösung und Positioniergenauigkeit
darstellt. Die Anlage soll eine hohe Entwicklungsreife besitzen, die z.B. durch den Einsatz in
Industrie und/oder Forschungsinstituten belegt werden kann. Ein hoher
Automatisierungsgrad ist gefordert, um einen Mehrbenutzerbetrieb effektiv zu ermöglichen.
Weitere Informationen entnehmen Sie bitte den Vergabeunterlagen.
Universität Duisburg-Essen Lotharstraße 55-65 47057 Duisburg In der Leistungsbeschreibungen finden Sie alle Angaben inkl. Bilder. Auf jeden Fall muss die Anlage über die Außentür Lieferanteneingang ins Gebäude eingebracht werden. Der in der Leistungsbeschreibung unter 6.1 beschriebene Weg ist für beide Varianten A und B zutreffend.
Im Gebäude bestehen zwei verschiedene Wege A und B, die in der Leistungsbeschreibung unter 6.2 und 6.3 beschrieben sind.
Die Universität Duisburg-Essen erforscht im Zentrum für Halbleitertechnik und Optoelektronik
in Duisburg Materialien, Halbleitertechnologien und Modulintegration für Anwendungen in der
Höchstfrequenzelektronik und in der Optoelektronik. Im ZHO wird zur Durchführung der
Forschungsarbeiten eine durchgängige Prozesslinie in einem Reinraum bis Klasse 5 (ISO
14644-1) betrieben.
Zur Untersuchung nanoskaliger Bauelemente wird eine höchstauflösende
Elektronenstrahl-Lithografieanlage benötigt. Es soll eine Anlage beschafft werden, die den
aktuellen Stand der Technik in Hinsicht auf maximale Auflösung und Positioniergenauigkeit
darstellt. Die Anlage soll eine hohe Entwicklungsreife besitzen, die z.B. durch den Einsatz in
Industrie und/oder Forschungsinstituten belegt werden kann. Ein hoher
Automatisierungsgrad ist gefordert, um einen Mehrbenutzerbetrieb effektiv zu ermöglichen.
Weitere Informationen entnehmen Sie bitte den Vergabeunterlagen.
Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Angaben
Nachweis über eine Betriebshaftpflichtversicherung für Personenschäden 2 Mio. EUR und sonstige
Schäden mit einer Versicherungssumme von mindestens 5 Mio. EUR alternativ kann ein Nachweis der
Versicherung beigefügt werden, dass die Deckungssumme der Betriebshaftpflichtversicherung bei
Zuschlagserteilung entsprechend erhöht wird.
Der Bieter muss eine Referenzliste mit mindestens zwei anderen Forschungseinrichtungen in Deutschland vorlegen die eine vergleichbare hochauflösende Elektronenstrahl-Lithografieanlage des anbietenden Herstellers- zur Herstellung nanoskaliger Strukturen benutzen. Als vergleichbar werden Anlagen mit einer Beschleunigungsspannung von 100 kV, einer minimalen Linienbreite von unter 10 nm und einer Justagegenauigkeit von unter +/-10 nm angesehen. Benennen Sie bitte die jeweiligen Auftraggeber unter Angabe des Jahres der Anschaffung sowie der Daten des installierten Geräts und geben Sie derer Kontaktdaten an, damit die Angaben geprüft werden können. Die Referenzen dürfen nicht älter als 5 Jahre sein.
Neben der Leistungsbeschreibung sowie dem Vordruck EU_325 gelten die Vertrags- und Vergabebedingungen des Landes Nordrhein-Westfalen in der aktuell gültigen Fassung, mitveröffentlicht in diesem Projektforum unter den Vergabeunterlagen. Auch im Fall des Zuschlags, werden Ihre AGB nicht anerkannt, sollten diese auf Schriftstücken wie Angeboten, Rechnungen oder Lieferscheinen abgebildet sein.
Abschnitt IV: Verfahren
Es handelt sich um eine nichtöffentliche Öffnung. Eine Ortsangabe unterbleibt aus diesem Grund.
Die Angebotsöffnung ist nichtöffentlich. Es sind lediglich Vertreter der Vergabestelle befugt, der elektronischen Angebotsöffnung beizuwohnen.
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Bekanntmachungs-ID: CXPNY5MD9VZ
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Köln
Postleitzahl: 50667
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]
Internet-Adresse: http://www.brd.nrw.de
Der geltend gemachte Verstoß gegen Vergabevorschriften wurde vor Einreichen des Nachprüfungsantrages erkannt und innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gegenüber dem Auftraggeber gerügt.
Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, sind spätestens bis Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Angebotsabgabe oder zur Bewerbung zu rügen.
Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, sind spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Angebotsabgabe oder zur Bewerbung zu rügen.
Ein Antrag auf Nachprüfung ist innerhalb von 15 Kalendertagen nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, zu stellen.
Ein Antrag zur Geltendmachung der Unwirksamkeit des vergebenen Auftrages ist innerhalb von 30 Kalendertagen bei der in nach VI.4.1 genannten Stelle einzulegen, gerechnet vom Tage nach
Veröffentlichung dieser Bekanntmachung im Amtsblatt der Europäischen Union.