Hochvakuum Beschichtungs-Systems Referenznummer der Bekanntmachung: 005-22
Auftragsbekanntmachung
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Nationale Identifikationsnummer: DEA22
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
NUTS-Code: DEA22 Bonn, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 53113
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://www.uni-bonn.de/de
Abschnitt II: Gegenstand
Hochvakuum Beschichtungs-Systems
Im Rahmen des BMBF-Projekts "QR.X" sollen am Physikalischen Institut der Rheinischen Friedrich- Wilhelms-Universität Bonn metallische Mikrowellenelemente auf optische Glasfasern aufgebracht werden. Für die Metallisierung soll ein Hochvakuum Beschichtungs-System angeschafft werden.
Es sollen nur Neugeräte geliefert werden (Keine Vorführgeräte oder Gebrauchtgeräte).
Rheinische Friedrich-Wilhelms-Universität Bonn, Abt. 5.3 Regina-Pacis-Weg 3 53113 Bonn
Um die Elektrodenstrukturen mit der benötigten Qualität fertigen zu können, muss das Hochvakuum Beschichtungs-System den folgenden Anforderungen genügen:
- Neugerät (keine Gebraucht- oder Vorführsysteme)
- Edelstahl-Vakuumkammer mit großer Fronttür
o Mindestabmessungen: Breite × Tiefe × Höhe = 420 mm × 480 mm × 550 mm
o Temperierbare Kammerwände (Außenkanäle)
o Wechselbares Beschichtungsschutzglas für das Fenster in der Fronttür
o Wechselbare Edelstahl-Abschirmbleche
- Pumpsystem
o Magnetisch gelagerte Turbomolekularpumpe (Nennsaugvermögen N2 mindestens 2.200 l/s)
o Mehrstufige, wartungsarme. trocken verdichtende Wälzkolbenpumpe (Nennsaugvermögen mindestens 35 m3/h),
Schalldruckpegel bei Enddruck: max. 52 dB(A)
o Anlagenenddruck: ? 5 E-7 mbar
- Mehrtiegel-Elektronenstrahl-Verdampfer System
o Elektronenstrahlverdampfer (Leistung: bis zu 6kW, Beschleunigungsspannung:6-10 kV, Filamentstrom bis zu 50 A, 270° Primärstrahlablenkung durch Permanentmagnete)
o 4 Napfwechseltiegel mit motorisierter Tiegelpositionierung und Wasserkühlung
o Standard-Tiegelvolumen: 8 cm3
o Verdampferblende mit elektropneumatischen Antrieb
o SPS gesteuerter Elektronenstrahl Controller
o Hochspannungsnetzgerät mit bis zu 6kW Leistung
- Ionenquelle für die Substratreinigung und die Ionen-unterstützte Beschichtung
o Betrieb über einen längeren Zeitraum mit inerten oder reaktiven Gasen (O2, Ar)
o Anodenleistung bis zu 200 W, Anodenstrom bis zu 2A, Anodenspannung: 40 - 300V,
o Mittlere Ionenenergie: 35- 210 eV
o Ionenstrahlstromstärke: bis zu 500 mA
o Arbeitsdruck max.: 1×10-3 mbar
o Ionenstrahldivergenz: 60°
o SPS gesteuerter Discharge Controller
o SPS gesteuerter Filament Controller
o Ionenquellenblende mit elektropneumatischen Antrieb
o Prozessgasversorgung mit digitalen Gasflussreglern (O2, Ar)
- Schichtdickenmessung
o PC-basierter Monitor für Dünnschichtmessung, Echtzeitüberwachung /-regelung von Aufdampfrate und Schichtdicke
o Einfach-Schichtdickensensor, für Durchm. 14 mm (0,55") Quarzkristalle
- Substratstufe
o Rotierende Substratstufe, motorisiert, für kontinuierliche Drehbewegung geeignet, variable Drehzahl 0-20 rpm
o Substrathalter zum Einlegen eines Einzelsubstrats von bis zu. Durchm. 150mm
o Substratblende mit elektropneumatischen Antrieb
- PC basierte Anlagensteuerung aller Komponenten (SPS)
o Modular aufgebaute und erweiterbare Software, Bediensprachen: Deutsch und Englisch
o manuelle Systembedienung
o automatische Beschichtungszyklen
o Rezepturverarbeitung
o Trendanzeige, Data-Logging
o Aufdampfcontroller direkt in der Software integriert
o Remote-support Schnittstelle
- Abmessungen des Systems:
o Breite: max 1500 mm
o Tiefe: max 1200 mm
o Höhe: max 2500 mm
- Inbetriebnahme und Bedienerschulung vor Ort
3.) Optionale Komponenten
Folgende optionale Komponenten werden bei der Punktebewertung nach Richtwertmethode berücksichtigt:
- Meissnerfalle (Kühlfalle) mit Polycold Kryo Generator
- Thermischer Einzelverdampfer
o Klemmbock aus Kupfer, zum Einspannen eines Verdampferschiffchens
o Verdampferblende mit elektropneumatischen Antrieb
o Stromversorgung für thermischen Verdampfer mit SPS Steuerung, Nennleistung bis zu 2 kVA
Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Angaben
Eintragung in einem Berufs- oder Handelsregister
Erklärung über den Gesamtumsatz einschließlich des Umsatzes in dem Tätigkeitsbereich des Auftrags
Liste der wesentlichen in den letzten_2_ Jahren erbrachten Leistungen mit Angabe des Wertes, des Zeitraums der Leistungserbringung und des Auftraggebers
Angabe, welche Teile des Auftrags das Unternehmen unter Umständen als Unteraufträge zu vergeben beabsichtigt
Abschnitt IV: Verfahren
elektronische Öffnung
Zentrale Beschaffung der Uni Bonn
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Die Vergabeunterlagen stehen nur unter
http://www.evergabe.nrw.de/VMPCenter/company/welcome.do
kostenlos zur Verfügung.
Fremdfirmen Richtlinie der Universität Bonn
Die Fremdfirmenrichtlinie ist Vertragsbestandteil bei Rechtsgeschäften und ist auf der Internetseite der Universität Bonn, unter:
einzusehen.
Parkraumbewirtschaftung der Universität Bonn
Zum 01.10.2015 wurde die entgeltpflichtige Parkraumbewirtschaftung für alle Liegenschaften der Universität Bonn im Stadtgebiet Bonn eingeführt. Nähere Informationen erhalten Sie über den folgenden Link:www.prbab.uni-bonn.de
Bekanntmachungs-ID: CXPNY5ED071
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Köln
Postleitzahl: 50667
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53113
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]
Internet-Adresse: https://www.uni-bonn.de/de