Lieferung einer ALD-Anlage Referenznummer der Bekanntmachung: EXC 2193/2021 (A 821)
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Ergebnisse des Vergabeverfahrens
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
NUTS-Code: DEA22 Bonn, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 53175
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://www.dfg.de/
Abschnitt II: Gegenstand
Lieferung einer ALD-Anlage
Lieferung einer ALD-Anlage gem. beigefügter Leistungsbeschreibung
Albert-Ludwigs-Universität Freiburg
Ausgeschrieben wird eine ALD-Anlage gem. der nachfolgenden Leistungsbeschreibung für die Universität Freiburg
Es soll eine Geräteinfrastruktur zur Atomlagenabscheidung (ALD) geschaffen werden. Die zu beschaffende ALD-Anlage/n (im Weiteren als PEALD bezeichnet) soll/en hierbei thermische, Ozon- und Plasma-unterstützte ALD-Prozesse ermöglichen.
Die PEALD soll hierbei zur homogenen Abscheidung von Metalloxid-, Metall- und Metall-nitrid-dünnschichten im Nanometerbereich auf Wafer ähnlichen Substraten (Flachproben) sowie Pulversubstraten eingesetzt werden. Hierbei sollen sowohl unporöse Substrate als auch poröse Substrate (Poren im Bereich < 50 nm) mit höchster Präzision beschichtet wer-den können.
Ziel ist es durch die ALD-Abscheidungen Grenzflächen zwischen verschiedenen Materialien, seien sie flüssig oder fest, gezielt designen zu können, um gewünschte Eigenschaften des Gesamtmaterialverbundes zu erzeugen.
In der Tat ist Grenzflächendesign in Säule A „Energy Autonomy of Materialsystems“ des liv-MatS Clusters essentiell um Effizienz und Langlebigkeit von „Energy harvesting, conversion and storage“ Devices zu gewährleisten.
Konkret geht es dabei im Bereich der Photovoltaik, der Tribo- und Thermoelektrik sowie im Bereich der (Solar-)Batterien und Kondensatoren um die Optimierung der Ladungsübertra-gung und der Ladungsträgerrekombinationseigenschaften an den Grenzflächen verschiede-ner Materialien.
Darüber hinaus muss die Möglichkeit zur „Pinhole“-freien Passivierung von Oberflächen, die Generation von elektronisch isolierenden Schichten (vor allem Nitride) oder elektronisch lei-tenden Schichten (vor allem Metalle), die Erzeugung von Elektronen- oder lochselektiven Kontaktschichten (vor allem Oxide), die Abscheidung von Antikorrosionsschichten sowie von katalytisch-aktiven Schichten mit sehr hoher Güte realisierbar sein. Neben planaren und mik-ro-nanostrukturierten Substraten (u.a. mit hohem Seitenverhältnis) müssen makro- und me-soporöse Pulvermaterialien (u.a. nanostrukturierte Kohlenstoffmaterialien mit Primärpartikel-größen bis zu < 100 nm) mit sehr hoher Güte beschichtbar sein.
In Anbetracht der zahlreichen Benutzer muss die ALD-Geräteinfrastruktur einen hohen Durchsatz an Proben ermöglichen. Außerdem ist eine benutzerfreundliche Bedienung, ein benutzer-freundlichen Service und umfangreiche Prozessunterstützung seitens des Herstel-lers eine unbedingte Voraussetzung.
Damit die oben beschriebenen Prozesse uneingeschränkt durchführbar sind, sind folgende technische Voraussetzungen unbedingt zu erfüllen:
Die PEALD-Anlage muss die Möglichkeit für thermische, plasmaunterstützte und ozonunterstützte Atomlagenabscheidungen bereitstellen, um maximale Prozessflexi-bilität zu gewährleisten.
Ein möglichst hoher Probendurchsatz wird angestrebt. Dieser kann durch kürzere Prozessdauern oder durch eine zweite ALD Anlage erreicht werden (mindestens thermisch und ozon-unterstützt).
Die PEALD-Anlage muss Atomlagenabscheidungen auf planaren und/oder nano-strukturierten Substraten und auf/in porösen (meso/makro) und nicht porösen Pulvern durchführen können (Primärpartikelgröße bis zu < 100 nm).
Die gleichzeitige Atomlagenabscheidung auf planaren und/oder nanostrukturierten Substraten und auf/in porösen (meso/macro) und nicht porösen Pulvern muss mög-lich sein, um einen möglichst hohen Probendurchsatz zu erzielen.
Die Abscheidung auf Pulvern muss zwingend in einem aktuierten (z.B. Rotation und/oder Vibration) Gefäß durchgeführt werden, um Partikelagglomeration im zu be-schichtenden Pulver zu vermeiden und gleichzeitig eine homogene Beschichtung zu erreichen. Die Mindestmenge von zu verwendendem Pulver darf hierbei 0,5 g oder 2 ml nicht überschreiten, da ansonsten die Materialmenge pro Prozess und damit die Prozesskosten gerade im Hinblick auf die Entwicklung neuer Prozesse unnötig hoch ist/sind.
Insgesamt müssen mindestens 5 Präkursorflaschen (beheizt oder nicht) gleichzeitig an die PEALD anschließbar sein. Zur Erreichbarkeit der angestrebten Prozessflexibi-lität müssen mindestens 3 beheizte Präkusorflaschen gleichzeitig an die PEALD an-schließbar sein.
Die beheizten Präkusorflaschen müssen bis mindestens 175°C heizbar sein, um die Verwendung von Präkusoren, die bei Raumtemperatur und -druck fest sind zu ermög-lichen, da ansonsten die verwendbare Präkursorvielfalt stark eingeschränkt ist.
Mindestens 5 Ersatzflaschen für Präkusoren sind erforderlich, davon mindestens 3 beheizte, um den dauerhaften Betrieb der PEALD zu ermöglichen, da leere Präkur-sorflaschen zum Befüllen an die jeweiligen Hersteller der Präkursoren geschickt wer-den.
Der Reaktor der PEALD muss bis mindestens 300°C heizbar sein, um eine große Prozessvielfalt zu ermöglichen. Weiterhin muss während der Abscheidung zu jeder Zeit ein konstanter Temperaturgradient zwischen den Präkursorflaschen als kältes-tem Ort und dem Reaktor als heißestem Ort herrschen, um Präkursorkondensation oder -resublimation zu verhindern.
Zur effektiven Prozesskontrolle muss eine in-situ Charakterisierung der abgeschiede-nen Materialmasse oder Schichtdicke durch z.B. eine Quarz-Kristall-Mikrowaage o-der ein Ellipsometer möglich sein. Dies ist eine unbedingte Voraussetzung für die Entwicklung neuer Prozesse.
Weiterhin sind folgende Kriterien zu erfüllen:
Der Platzbedarf der PEALD inklusive aller Peripheriegeräte (Vakuumpumpe, Elektro-schrank, usw.) soll pro Anlage möglichst gering sein.
In dem einzureichenden Angebot ist die Lieferzeit anzugeben
Die Lieferung muss nach den Bedingungen von DAP erfolgen. Der Lieferort muss dabei dem späteren Verwendungsort entsprechen.
Eine mindestens 2-tägige Schulung für mindestens 5 Personen muss angeboten werden, um nach Lieferung eine unmittelbare Verwendbarkeit des PEALD zu ge-währleisten. Diese muss mindestens die Einführung und Durchführung von 3 Stan-dardprozessen (Al2O3, SiO2, TiO2) beinhalten.
Abschnitt IV: Verfahren
- Die Bauleistungen/Lieferungen/Dienstleistungen können aus folgenden Gründen nur von einem bestimmten Wirtschaftsteilnehmer ausgeführt werden:
- nicht vorhandener Wettbewerb aus technischen Gründen
Nicht vorhandener Wettbewerb aus technischen Gründen
Abschnitt V: Auftragsvergabe
Lieferung einer ALD-Anlage
Ort: München
NUTS-Code: DE Deutschland
Land: Deutschland
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Ort: Bonn
Land: Deutschland