UHV cluster surface characterization platform Referenznummer der Bekanntmachung: keine
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Ergebnisse des Vergabeverfahrens
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Jülich
NUTS-Code: DE Deutschland
Postleitzahl: 52425
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: www.fz-Juelich.de
Abschnitt II: Gegenstand
UHV cluster surface characterization platform
UHV cluster surface characterization platform
Forschungszentrum Jülich
UHV cluster surface characterization platform
Abschnitt IV: Verfahren
- Die betreffenden Erzeugnisse werden gemäß den in der Richtlinie genannten Bedingungen ausschließlich für Forschungs-, Versuchs-, Untersuchungs- oder Entwicklungszwecke hergestellt
Für die Nutzung von Ultrahochvakuum(UHV)-Transmissionselektronenmikroskopie (TEM) wird eine UHV kompatible Präparation von TEM-Lamellen benötigt, damit das volle Potenzial bezüglich Auflösung, räumlicher Messungen der chemischen Zusammensetzung und der Quantifizierung von Elektronenenergieverlustspektren und Potentialmessungen erreicht werden kann. Dabei ist das zentrale Problem, dass die typischerweise mit FIB herausgeschnittenen Lamellen stark beschädigte und kontaminierte Oberflächen haben, die zu den Messsignalen unkontrolliert beitragen. Deshalb ist eine bestmögliche, defektarme Probe mit sauberen Oberflächen von großer Bedeutung, bzw. eine UHV kompatible Oberflächenpräparation notwendig, um atomar saubere und kontrollierbare Bedingungen an den Oberflächen zu schaffen. Da die Lamellen im Bereich weniger Mikrometer Ausdehnung sind, müssen die Präparation der sauberen Oberflächen und deren Charakterisierung/Überprüfung eine hohe räumliche Auflösung bezüglich der Messpositionierung haben und darüberhinaus atomare Auflösung der Oberflächen und hohe energetische Auflösung in der elektronische Charakterisierung erlauben. Unter Berücksichtigung, dass im UHV-TEM sowohl leitende als auch nicht-leitende Proben, sowie magnetische und spin-sensitive Strukturen untersucht werden sollen, kann diese Fragestellung nur mit einem Kombinationsgerät Rastertunnelmikroskopie (STM) mit Kraftmikroskopie (AFM) in hohen Magnetfeld (5 T) und bei tiefen Temperaturen (5 K) durchgeführt werden. Dabei ist besonders wichtig, dass die Probenorientierung immer klar definiert und unveränderlich ist. Darüber hinaus ist ein UHV-System mit einem Basisdruck kleiner 1x10^-10 mbar und Oberflächenpräparationsmöglichkeiten (Heizen der Proben im UHV bis 1200°C, Wasserstoffätzung im UHV, Sauerstoffbehandlung (in separater Kammer), Sub-Monolagen-Aufdampfung bei 77 K (in separater Kammer), Transport in Bereich STM bei 77 K) notwendig. Das Projekt erfordert zusätzlich zu den Komponenten die Erstellung eines Gesamtsystems mit voll funktionierendem Probentransfer und Anbindungsgeräten an das UHV-TEM.
Als einziger Hersteller bietet Omicron ein STM/AFM System, dass alle Anforderungen erfüllt (5K, 5T, AFM und STM Betriebsmodi, Spektroskopie, stabile Probenorientierung). Darüberhinaus bietet Omicron als Systemhersteller von UHV-Anlagen ein vielfach angewendetes und getestetes Transfersystem mit den notwendigen Präparationskammern an, die auch die Anbindung an und Erweiterung mit weiteren UHV Komponenten (auch im Selbstbau) erlaubt.
Abschnitt V: Auftragsvergabe
UHV cluster surface characterization platform
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Taunusstein
NUTS-Code: DE Deutschland
Postleitzahl: 65232
Land: Deutschland
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland