HISS200 LabX Horizontal Inline Sputter System Referenznummer der Bekanntmachung: keine
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Ergebnisse des Vergabeverfahrens
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Postanschrift: Leo-Brandt-Straße
Ort: Jülich
NUTS-Code: DE DEUTSCHLAND
Postleitzahl: 52425
Land: Deutschland
E-Mail: [removed]
Telefon: [removed]
Fax: [removed]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: www.fz-Juelich.de
Abschnitt II: Gegenstand
HISS200 LabX Horizontal Inline Sputter System
HISS200 LabX Horizontal Inline Sputter System.
Forschungszentrum Jülich
Am Institut für Energie- und Klimaforschung 5 – Photovoltaik (IEK-5) werden neuartige Materialien und innovative Bauelementarchitekturen für die nachhaltige Photovoltaik auf Basis dünner Schichten erforscht. Die ansässige Arbeitsgruppe Silizium-Heterostruktursolarzellen (Silicon Heterojunction: SHJ) beschäftigt sich mit der Material- und Prozessentwicklung der SHJ Solarzellen und deckt dabei die gesamte Kette der Herstellung ab. Das besondere Augenmerk der Prozessentwicklung in jedem Schritt, von der nasschemischen Vorbehandlung bis zur Deposition von funktionellen Schichten und Abscheidung von Metallkontakten, liegt dabei auf der industriellen Anwendbarkeit. Für die Schichtentwicklung von neuartigen, transparenten und leitfähigen Oxiden (englisch: transparent conducting oxides, TCOs), die als transparente Elektroden in SHJ Solarzellen dienen, werden mehrere Projekte bearbeitet.
Das Vorhaben von TOUCH umfasst dabei die Einrichtung einer vollständigen Technologie- und Charakterisierungsplattform (SHJ Baseline) zur Herstellung der SHJ Solarzellen, wofür der Ausbau und Betrieb der Analytik- und Prozesstechnologie am IEK-5 nötig ist. Hierfür wird eine Sputteranlage zur Abscheidung der TCOs beantragt, die die gesamte Prozesskette auf industrielle Waferformate mit einem Durchsatz von 60 Zellen pro Tag vervollständigt. Des Weiteren werden Messaparturen zur Charakterisierung der Schichten beantragt. Das Projektziel ist, Solarzellen reproduzierbar mit dem zuvor genannten Durchsatz und Wirkungsgraden über 22 % herzustellen.
Das IEK5 entwickelt seit ca. 15 Jahren TCO Schichten für die Photovoltaik mit verschiedenen Anlagen der Firma Von Ardenne Anlagentechnik. Unter anderem eine VISS 300, welche sehr ähnlich der jetzt zu kaufenden HISS 200 LabX ist. Beide Anlagen unterscheiden sich lediglich in der Ausrichtung des Wafer-Transportes und ein wenig in der Länge des verwendeten Targets. Da im Wesentlichen den Durchsatz erhöht werden soll und vom IEK-5 entwickelte Prozesse auf diese Anlage übertragen werden sollen ist es dringend notwendig, eine bezüglich des Aufbaus der Abscheidekammer möglichst identische Anlage zu nutzen. Auf Anlagen anderer Herstellern können die Prozesse nicht zeitnah übertragen werden.
Abschnitt IV: Verfahren
- Die betreffenden Erzeugnisse werden gemäß den in der Richtlinie genannten Bedingungen ausschließlich für Forschungs-, Versuchs-, Untersuchungs- oder Entwicklungszwecke hergestellt
Am Institut für Energie- und Klimaforschung 5 – Photovoltaik (IEK-5) werden neuartige Materialien und innovative Bauelementarchitekturen für die nachhaltige Photovoltaik auf Basis dünner Schichten erforscht. Die ansässige Arbeitsgruppe Silizium-Heterostruktursolarzellen (Silicon Heterojunction: SHJ) beschäftigt sich mit der Material- und Prozessentwicklung der SHJ Solarzellen und deckt dabei die gesamte Kette der Herstellung ab. Das besondere Augenmerk der Prozessentwicklung in jedem Schritt, von der nasschemischen Vorbehandlung bis zur Deposition von funktionellen Schichten und Abscheidung von Metallkontakten, liegt dabei auf der industriellen Anwendbarkeit. Für die Schichtentwicklung von neuartigen, transparenten und leitfähigen Oxiden (englisch: transparent conducting oxides, TCOs), die als transparente Elektroden in SHJ Solarzellen dienen, werden mehrere Projekte bearbeitet.
Das Vorhaben von TOUCH umfasst dabei die Einrichtung einer vollständigen Technologie- und Charakterisierungsplattform (SHJ Baseline) zur Herstellung der SHJ Solarzellen, wofür der Ausbau und Betrieb der Analytik- und Prozesstechnologie am IEK-5 nötig ist. Hierfür wird eine Sputteranlage zur Abscheidung der TCOs beantragt, die die gesamte Prozesskette auf industrielle Waferformate mit einem Durchsatz von 60 Zellen pro Tag vervollständigt. Des Weiteren werden Messaparturen zur Charakterisierung der Schichten beantragt. Das Projektziel ist, Solarzellen reproduzierbar mit dem zuvor genannten Durchsatz und Wirkungsgraden über 22 % herzustellen.
Anbieterbegründung
Das IEK5 entwickelt seit ca. 15 Jahren TCO Schichten für die Photovoltaik mit verschiedenen Anlagen der Firma Von Ardenne Anlagentechnik. Unter anderem eine VISS 300, welche sehr ähnlich der angebotenen HISS 200 LabX ist. Beide Anlagen unterscheiden sich lediglich in der Ausrichtung des Wafer-Transportes und ein wenig in der Länge des verwendeten Targets. Da im Wesentlichen den Durchsatz erhöht werden soll und vom IEK-5 entwickelte Prozesse auf diese Anlage übertragen werden sollen ist es dringend notwendig, eine bezüglich des Aufbaus der Abscheidekammer möglichst identische Anlage zu nutzen. Auf Anlagen anderer Herstellern können die Prozesse nicht zeitnah übertragen werden.
Das heißt, nur mit der Sputteranlage der Firma Von Ardenne kann das IEK-5 die über Jahre hinweg entwickelten Prozesse übertragen und damit Durchsatz erheblich erhöhen.
Abschnitt V: Auftragsvergabe
Sputteranlage FHR-Star.75 PentaCo
Postanschrift: Am Hügel 2
Ort: Hohenstein-Ern
NUTS-Code: DE DEUTSCHLAND
Postleitzahl: 01458 Ottendorf
Land: Deutschland
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland