1.1.
Beschaffer
Offizielle Bezeichnung: Universität Siegen - Der Kanzler
Deutschland – Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke – Beschaffung eines modularen maskenlosen Laserlithographiesystems inkl. Zubehör zur Verbesserung spezifischer Graustufenbelichtungen.
353689-2024 - Vorankündigung – Direktvergabe
Deutschland – Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke – Beschaffung eines modularen maskenlosen Laserlithographiesystems inkl. Zubehör zur Verbesserung spezifischer Graustufenbelichtungen.
OJ S 115/2024 14/06/2024
Freiwillige Ex-ante-Transparenzbekanntmachung
Lieferungen
1. Beschaffer
2. Verfahren
2.1.
Verfahren
Titel: Beschaffung eines modularen maskenlosen Laserlithographiesystems inkl. Zubehör zur Verbesserung spezifischer Graustufenbelichtungen.
Beschreibung: Beschaffung eines modularen maskenlosen Laserlithographiesystems für den bestehenden und zukünftigen zentralen Reinraum der Naturwissenschaftlich-Technischen Fakultät der Universität Siegen. Das Lithographiesystem dient in den universitären Forschungsschwerpunkten der Sensorik sowie der Materialwissenschaften als zentraler Reinraum-Gerätebestandteil zur Strukturierung von halbleitenden, metallischen und dielektrischen Dünnschichten sowie von 2D-Materialien. Es steht den universitären Forschungszentren, dem Zentrum für Sensorsysteme (ZESS), dem Center for Micro- and Nanochemistry and Engineering (Cµ), dem Center for Innovative Materials (Cm), dem DFG-geförderten Mikro- und Nanoanalytikzentrum MNaF und der biomedizinischen Sensorforschung, wie auch externen Kooperationspartnern zur Verfügung. Die Realisierung und konsequente Weiterentwicklung funktionaler Bauelemente im Bereich der Forschungsschwerpunkte der Universität Siegen erfordern die Definition von Strukturgrößen und Justiergenauigkeiten im sub µm Bereich. Einsatzgebiete dieser Strukturen umfassen die Bereiche Sensorik, Materialwissenschaften, Mikro- und Nanochemie mit dem Ziel der Erforschung einer breiten Palette an Bauelementen (z. B. optische/biochemische Sensoren, elektronische Höchstfrequenzbauteile) bzw. der grundlegenden Erforschung neuartiger physikalischer Phänomene z.B. in Meta- und 2D-Materialien oder plasmonischen Quantenstrukturen. Nanostrukturierung ermöglicht die Erforschung diverser Zellwechselwirkungen, Sondierungen der Skalierungspotentiale von 2D-Nanomaterialien für 3D-Kameras oder die Realisierung integrierter optischer Schaltkreise und Kommunikationstechnologien der nächsten Generation. Das hier beschaffte schnelle, flexibel einsetzbare und präzise Laserlithographiesystem umfasst eine hochleistungsfähige Graustufen-Lithographie und Optical Proximity Correction zur Prozessierung von bis zu 6“ großen Substraten und soll zentral allen Forschern und Kooperationspartnern der Universität Siegen zur Verfügung stehen. Das Gerät wird essenzieller Bestandteil der Technologie des sich im Aufbau befindlichen, landesgeförderten Forschungszentrums der Universität Siegen (INCYTE) mit 600m2 Reinraum, der 2024 in Betrieb gehen wird. Die Universität verfolgt dabei die Strategie, die technologische Infrastruktur für die Bauelement- und Materialentwicklung am Zentrum für Sensorsysteme (ZESS), am Center for Innovative Materials (Cm) und am Center for Micro- and Nanochemistry and Engineering (Cµ) zu zentralisieren, um Forschungsgeräte effektiver nutzbar zu machen. Die unmittelbare räumliche Nähe zur Nanoanalytik ermöglicht den systematischen Ausbau der hochaktuellen Forschung an nanoskaligen Strukturen und Bauelementen. Um dem breiten Anforderungsprofil der Nutzer gerecht zu werden, wird das Lithographiesytem über ein temperaturstabilisiertes Mini-Environment (ISO-4) und eine 375 nm Laserdiode verfügen, wodurch Breitband- sowie spezielle i-Linien Photolacke prozessiert werden können. Weiterhin sollen zwei Schreiboptionen zur Verfügung stehen, um schnelles Schreiben (Rapid Protoyping) und hochauflösende 300 nm Strukturierung über 6“ Wafer mit minimalem Zeitaufwand unabhängig von der Struktur und zu beschreibender Fläche zu ermöglichen. Höchste Anwendungsflexibilität ermöglicht die hochpräzise Justage mit Genauigkeiten von 1 µm auf Rückseiten- und 250 nm auf Oberseitenstrukturen. Ziel ist es, das System nachhaltig und optimal zu betreiben, um so einen signifikanten Impuls auf den Forschungsstandort Siegen zu erzielen.
Kennung des Verfahrens: 010d1341-8f16-4c15-a690-5d6192e45968
Interne Kennung: 05-24E1VV
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren ohne Aufruf zum Wettbewerb
2.1.1.
Zweck
Art des Auftrags: Lieferungen
Haupteinstufung (cpv): 42990000 Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
2.1.2.
Erfüllungsort
Stadt: Siegen
Postleitzahl: 57076
Land, Gliederung (NUTS): Siegen-Wittgenstein (DEA5A)
Land: Deutschland
2.1.4.
Allgemeine Informationen
Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU
vgv - § 14 Abs. 4 lit. b VgV
5. Los
5.1.
Los: LOT-0000
Titel: Beschaffung eines modularen maskenlosen Laserlithographiesystems inkl. Zubehör zur Verbesserung spezifischer Graustufenbelichtungen.
Beschreibung: Beschaffung eines modularen maskenlosen Laserlithographiesystems für den bestehenden und zukünftigen zentralen Reinraum der Naturwissenschaftlich-Technischen Fakultät der Universität Siegen. Das Lithographiesystem dient in den universitären Forschungsschwerpunkten der Sensorik sowie der Materialwissenschaften als zentraler Reinraum-Gerätebestandteil zur Strukturierung von halbleitenden, metallischen und dielektrischen Dünnschichten sowie von 2D-Materialien. Es steht den universitären Forschungszentren, dem Zentrum für Sensorsysteme (ZESS), dem Center for Micro- and Nanochemistry and Engineering (Cµ), dem Center for Innovative Materials (Cm), dem DFG-geförderten Mikro- und Nanoanalytikzentrum MNaF und der biomedizinischen Sensorforschung, wie auch externen Kooperationspartnern zur Verfügung. Die Realisierung und konsequente Weiterentwicklung funktionaler Bauelemente im Bereich der Forschungsschwerpunkte der Universität Siegen erfordern die Definition von Strukturgrößen und Justiergenauigkeiten im sub µm Bereich. Einsatzgebiete dieser Strukturen umfassen die Bereiche Sensorik, Materialwissenschaften, Mikro- und Nanochemie mit dem Ziel der Erforschung einer breiten Palette an Bauelementen (z. B. optische/biochemische Sensoren, elektronische Höchstfrequenzbauteile) bzw. der grundlegenden Erforschung neuartiger physikalischer Phänomene z.B. in Meta- und 2D-Materialien oder plasmonischen Quantenstrukturen. Nanostrukturierung ermöglicht die Erforschung diverser Zellwechselwirkungen, Sondierungen der Skalierungspotentiale von 2D-Nanomaterialien für 3D-Kameras oder die Realisierung integrierter optischer Schaltkreise und Kommunikationstechnologien der nächsten Generation. Das hier beschaffte schnelle, flexibel einsetzbare und präzise Laserlithographiesystem umfasst eine hochleistungsfähige Graustufen-Lithographie und Optical Proximity Correction zur Prozessierung von bis zu 6“ großen Substraten und soll zentral allen Forschern und Kooperationspartnern der Universität Siegen zur Verfügung stehen. Das Gerät wird essenzieller Bestandteil der Technologie des sich im Aufbau befindlichen, landesgeförderten Forschungszentrums der Universität Siegen (INCYTE) mit 600m2 Reinraum, der 2024 in Betrieb gehen wird. Die Universität verfolgt dabei die Strategie, die technologische Infrastruktur für die Bauelement- und Materialentwicklung am Zentrum für Sensorsysteme (ZESS), am Center for Innovative Materials (Cm) und am Center for Micro- and Nanochemistry and Engineering (Cµ) zu zentralisieren, um Forschungsgeräte effektiver nutzbar zu machen. Die unmittelbare räumliche Nähe zur Nanoanalytik ermöglicht den systematischen Ausbau der hochaktuellen Forschung an nanoskaligen Strukturen und Bauelementen. Um dem breiten Anforderungsprofil der Nutzer gerecht zu werden, wird das Lithographiesytem über ein temperaturstabilisiertes Mini-Environment (ISO-4) und eine 375 nm Laserdiode verfügen, wodurch Breitband- sowie spezielle i-Linien Photolacke prozessiert werden können. Weiterhin sollen zwei Schreiboptionen zur Verfügung stehen, um schnelles Schreiben (Rapid Protoyping) und hochauflösende 300 nm Strukturierung über 6“ Wafer mit minimalem Zeitaufwand unabhängig von der Struktur und zu beschreibender Fläche zu ermöglichen. Höchste Anwendungsflexibilität ermöglicht die hochpräzise Justage mit Genauigkeiten von 1 µm auf Rückseiten- und 250 nm auf Oberseitenstrukturen. Ziel ist es, das System nachhaltig und optimal zu betreiben, um so einen signifikanten Impuls auf den Forschungsstandort Siegen zu erzielen.
Interne Kennung: 05-24E1VV
5.1.1.
Zweck
Art des Auftrags: Lieferungen
Haupteinstufung (cpv): 42990000 Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
5.1.2.
Erfüllungsort
Land, Gliederung (NUTS): Siegen-Wittgenstein (DEA5A)
Land: Deutschland
5.1.6.
Allgemeine Informationen
Die Beschaffung fällt unter das Übereinkommen über das öffentliche Beschaffungswesen
5.1.7.
Strategische Auftragsvergabe
Ziel der strategischen Auftragsvergabe: Innovative Beschaffung
Beschreibung: Bei dem Liefergegenstand handelt es sich ein von der Deutschen Forschungsgemeinschaft empfohlenes und aus Bundes- und Landesmitteln bewilligtes Forschungsgroßgerät im HighTech-Bereich, welches nach den neuesten wissenschaftlichen Erkenntnissen unter Einbeziehung der vom jeweiligen Hersteller in diesem Kontext möglichen Umweltverträglichkeitsanforderungen gefertigt wird.
Innovatives Ziel: Die erbrachten Bauleistungen, Dienstleistungen oder gelieferten Güter beinhalten Produktinnovationen.
5.1.12.
Bedingungen für die Auftragsvergabe
Informationen über die Überprüfungsfristen: Der Vertrag wird frühestens 10 Kalendertage nach Veröffentlichung dieser Bekanntmachung geschlossen werden (§ 135 Abs. 3S. 1 Nr. 3 GWB).
5.1.15.
Techniken
Informationen über das dynamische Beschaffungssystem: Kein dynamisches Beschaffungssystem
5.1.16.
Weitere Informationen, Schlichtung und Nachprüfung
Überprüfungsstelle: Vergabekammer Westfalen bei der Bezirksregierung Münster
Organisation, die weitere Informationen für die Nachprüfungsverfahren bereitstellt: Vergabekammer Westfalen bei der Bezirksregierung Münster
6. Ergebnisse
Direktvergabe:
Begründung der Direktvergabe: Der Auftrag kann nur von einem bestimmten Wirtschaftsteilnehmer ausgeführt werden, da aus technischen Gründen kein Wettbewerb vorhanden ist
Sonstige Begründung: Der Auftrag ist gem. Art. 32 Abs. 1 i.V.m. Abs. 2 lit b) ii) RL 2014/24/EU (§ 14 Abs. 4 Nr. 2 lit. b VGV) im Verhandlungsverfahren ohne vorherige Bekanntmachung zu vergeben, da der Auftragnehmer alleiniger Lieferant der vertragsgegenständlichen Leistungen ist. Beabsichtigt ist die Beschaffung eines Laserlithographiesystems inkl. BEAMER Softwarepaket, das zentral an der Naturwissenschaftlich-Technischen Fakultät der Universität Siegen zum Einsatz kommen wird. Die diesbezüglichen hochspeziellen Anforderungen leiten sich aus dem bewilligten Großgeräteantrag der Universität Siegen ab, der von der Deutschen Forschungsgemeinschaft bewilligt worden ist. Aus diesem Forschungsanspruch heraus und aufgrund der zentralen Bedeutung des Zentrums für die Material- und Sensorforschung an der Universität Siegen muss das Laserlithographiesystem folgende Anforderungen zwingend kumulativ erfüllen. In Abgrenzung zu anderen Spartenmarktteilnehmern hat der Auftragnehmer mit Blick auf das kumulative Vorliegen der unabdingbar erforderlichen wissenschaftlich-technischen Spezifika eine hinreichende Alleinstellung inne. Nur aufgrund dieser Alleinstellung kann die Universität Siegen objektiv die im Rahmen der DFG-Großgeräte-Förderung bewilligten speziellen wissenschaftlichen Forschungsarbeiten anforderungsgerecht ausführen – mithin wurde keine künstliche Einschränkung der Auftragsvergabeparameter vorgenommen und es gibt keine vernünftige Alternative oder Ersatzlösung i.S.v. Art. 32 Abs. 1 i.V.m. Abs. 2 lit b) Satz 2 RL 2014/24/EU (§ 14 Abs. 6 VGV). Aus den zuvor genannten globalen Anforderungen an das Beschichtungszentrum und den Anlagenhersteller ergeben sich folgende konkrete Anforderungen, die die Direktvergabe begründen: Der maskenlose Laserlithographiesystem erfüllt folgende Spezifikationen: - Manuelles, halb-automatisches und vollautomatisches Alignment - Es stehen zwei unabhängige Autofokussysteme zur Verfügung. Ein System verwendet ein optisches Prinzip und das zweite ein nicht optisches System (pneumatisch). Dies gewährleistet eine zuverlässige und reproduzierbare Fokussierung auf Substraten mit unterschiedlichen optischen Eigenschaften. Beide Systeme messen und korrigieren die Fokusposition in Echtzeit während einer laufenden Belichtung. Substratgröße & Schreibfläche: - Probenaufnahme: Kleinstproben (5x5mm2) und Substrate bis zu einer Größe von 220 x 220 mm² und einer maximalen Höhe von 12 mm - Multi-Vakuumzonen-Chuck - Tischsystem: Linearmotoren für x,y-Bewegung und 10 nm Positionierungauflösung mit einem Interferometersystem - Gesamtbelichtungsfläche: 200 x200 mm² Prozessumgebung: - abgeschlossenes System mit ISO-4 Flowmodul für eine Temperaturstabilisierung +/- 0,1°C (sofern Gerät in ISO-5 Reinraumumgebung oder besser aufgestellt wird) - SLM-Schwingungsisolation für maximale Reproduzierbarkeit und Ausbeute - Lichtquelle: Laserdiode Wellenlänge 375 nm, 70 mW Ausgangsleistung und 20.000 Std. typ. Lebensdauer - Integriertes Kamerasystem zur Ausrichtung und Messung sowie eine zusätzliche Kamera mit einem Sichtfeld von 8 mm x 10 mm zur einfachen Orientierung auf dem Substrat. - Kamera mit Real-time Autofokus: 80 µm Dynamic Range - Zwei Schreibmodi: i.) 0,3 µm (High-Resolution) mit 5 nm Adress-Grid und 2mm²/min Schreibgeschwindigkeit unabhängig von der Struktur und zu beschreibender Fläche bei 375 nm Wellenlänge. Min. half-pitch: 500 nm ii.) 1 µm (High-Speed) Auflösung und 50 nm Adress-Grid und 110 mm²/min Schreibgeschwindigkeit unabhängig von der Struktur und zu beschreibender Fläche bei 375 nm Wellenlänge. Min. half-pitch: 1500 nm - Back-Side Alignment (Kamera unterhalb des Vakuum-Chucks) zur doppelseitigen Probenbelichtung Genauigkeit 1 µm - Hochpräzises 2-Layer Alignment: i.) über 5 mm x 5 mm mit Justiergenauigkeit 250 nm ii.) über 100 mm x 100 mm mit Justiergenauigkeit 350 nm iii.) 9“ Quarzmaske als Kalibrierstandard für das hochpräzise 2-Layer Alignment - Graustufen Lithographiemodus: 256 Graustufen, Intensitätsauflösung 65.000 je Stufe - Für die Definition von Graustufen-Layouts können die Dateiformate DXF, BMP, STL und X,Y,Z-ASCII verwendet werden. - ein Tag Graustufenlithographie-Schulung - Softwarepaket zur Verbesserung spezifischer Graustufen-Designbelichtungen: BEAMER – Standard Laser Package (B006)“ von GenIsys - 2 PCs für Systemsteuerung und Datenumwandlung
8. Organisationen
8.1.
ORG-0000
Offizielle Bezeichnung: Universität Siegen - Der Kanzler
Registrierungsnummer: DE 154854171
Abteilung: Dezernat 1 - Finanzen // Abteilung 1.3 - Beschaffung und Zollangelegenheiten
Postanschrift: Adolf-Reichwein-Straße 2
Stadt: Siegen
Postleitzahl: 57076
Land, Gliederung (NUTS): Siegen-Wittgenstein (DEA5A)
Land: Deutschland
Kontaktperson: Universität Siegen - Der Kanzler - Vergabestelle
Telefon: 000
Rollen dieser Organisation:
Beschaffer
8.1.
ORG-0001
Offizielle Bezeichnung: Vergabekammer Westfalen bei der Bezirksregierung Münster
Registrierungsnummer: 05515-03004-07
Stadt: Münster
Postleitzahl: 48128
Land, Gliederung (NUTS): Münster, Kreisfreie Stadt (DEA33)
Land: Deutschland
Telefon: +49 251 411-1691
Rollen dieser Organisation:
Überprüfungsstelle
Organisation, die weitere Informationen für die Nachprüfungsverfahren bereitstellt
8.1.
ORG-0002
Offizielle Bezeichnung: Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)
Registrierungsnummer: 0204:994-DOEVD-83
Stadt: Bonn
Postleitzahl: 53119
Land, Gliederung (NUTS): Bonn, Kreisfreie Stadt (DEA22)
Land: Deutschland
Telefon: +49228996100
Rollen dieser Organisation:
TED eSender
11. Informationen zur Bekanntmachung
11.1.
Informationen zur Bekanntmachung
Kennung/Fassung der Bekanntmachung: 6cc1d714-4a73-40a5-a0e3-78d2c7dc87a6 - 01
Formulartyp: Vorankündigung – Direktvergabe
Art der Bekanntmachung: Freiwillige Ex-ante-Transparenzbekanntmachung
Datum der Übermittlung der Bekanntmachung: 13/06/2024 00:00:00 (UTC+2)
Sprachen, in denen diese Bekanntmachung offiziell verfügbar ist: Deutsch
11.2.
Informationen zur Veröffentlichung
Veröffentlichungsnummer der Bekanntmachung: 353689-2024
ABl. S – Nummer der Ausgabe: 115/2024
Datum der Veröffentlichung: 14/06/2024