Lieferung eines Elektronenstrahllithografie Systems

Freiwillige Ex-ante-Transparenzbekanntmachung

Lieferauftrag

Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber/Auftraggeber

I.1)Name und Adressen
Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Köln
NUTS-Code: DEA23 Köln, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 50923
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://www.uni-koeln.de/
I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers
Einrichtung des öffentlichen Rechts
I.5)Haupttätigkeit(en)
Bildung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1)Umfang der Beschaffung
II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

Lieferung eines Elektronenstrahllithografie Systems

II.1.2)CPV-Code Hauptteil
38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
II.1.3)Art des Auftrags
Lieferauftrag
II.1.4)Kurze Beschreibung:

Elektronenstrahllithografie System zur Nanofabrikation von Strukturen und Bauteilen

II.1.6)Angaben zu den Losen
Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.1.7)Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.)
Wert ohne MwSt.: 1 100 000.00 EUR
II.2)Beschreibung
II.2.3)Erfüllungsort
NUTS-Code: DEA23 Köln, Kreisfreie Stadt
Hauptort der Ausführung:

DEA23

II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

- System zur Strukturierung Elektronenstrahl-empfindlicher Lackschichten

- Erzeugung einzelner ‚Features‘ mittels Elektronenstrahl Lithographie, die Linienbreiten und Abmessungen im Bereich von 10 nm haben.

- Insbesondere müssen mit dem System großflächige plasmonische sowie photonische Kristalle und Gitter hergestellt werden, um auf Basis dieser Strukturen optische Sensoren zu entwickeln. Hieraus ergibt sich die Notwendigkeit, Features in hochregelmäßigen/ periodischen Mustern über große Fläche zu definieren, wobei regelmäßig auch Flächen größer als 1 mm² aufgebaut werden müssen, und zwar ohne Abstriche bei der geforderten minimalen Linienbreite und Abmessung der Features zu machen (10 nm). Bereits geringste Versatzfehler der periodischen Muster führen zu einer negativen Veränderung der Eigenschaften der erzeugten Strukturen und müssen unbedingt verhindert werden.

- Wir beabsichtigen eine Vielzahl unterschiedlicher Substrat-Materialien und Lackschichten mit der Elektronenstrahllithographie zu bearbeiten. Um in kurzer Zeit die Belichtungsparameter erneut zu optimieren, ist es notwendig, die belichteten und entwickelten Proben mit dem System ebenfalls untersuchen zu können, d.h. Elektronenmikroskopisch abbilden zu können. Dies muss regelmäßig u.a. mit niedriger Elektronenenergie erfolgen können, wobei niedrig unter 0.1keV bedeutet (also z.B. bis hinunter zu 20eV).

- Ebenfalls aus der Verwendung einer Vielzahl unterschiedlicher Materialien sowie auch unterschiedlicher Proben-Geometrien ergibt sich die Notwendigkeit, regelmäßig das Schreibfeld zu drehen, zu skalieren oder relativ zu seiner „Normal-Null“ Position zu verschieben. Die Kalibration des Schreibfeldes bzgl. Shift, Rotation und Skalierung darf daher keinen Einfluss auf die Auflösung der Belichtung haben.

- Weiterhin die Notwendigkeit einer hochgenauen Positionierung der Probe sowie eines hochgenauen Auslesens der Position der Probe. Zweckmäßigerweise erfolgt dies über die Einstellung / das Auslesen der Position des Verschiebetisches. Eine Positionsauflösung von 1 nm oder besser ist regelmäßig erforderlich.

II.2.5)Zuschlagskriterien
Preis
II.2.11)Angaben zu Optionen
Optionen: nein
II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1)Beschreibung
IV.1.1)Verfahrensart
Auftragsvergabe ohne vorherige Bekanntmachung eines Aufrufs zum Wettbewerb im Amtsblatt der Europäischen Union (für die unten aufgeführten Fälle)
  • Der Auftrag fällt nicht in den Anwendungsbereich der Richtlinie
Erläuterung:

Aufgrund der technisch benötigten Merkmale kann von einem Alleinstellungsmerkmal ausgegangen werden.

Wir haben den Markt für Elektronenstrahl-Lithographie System besonders sorgfältig geprüft. Neben eigenen Marktrecherchen (Angaben zu verwendeten Geräten in der wissenschaftlichen Literatur, Internet-Suche) haben wir auch ausführlich mit anderen Experten auf diesem Gebiet gesprochen (z. B. Prof. Andrea Di Falco von der University of St. Andrews, Prof. Thomas Krauss von der University of York). Hier wurde klar, dass der Markt für Elektronenstrahl-Lithographie-Systeme für den Forschungsbereich von der Firma Raith beherrscht wird. Andere Anbieter mit vergleichbarem Leistungsspektrum und Serviceangebot konnten wir nicht identifizieren.

Nach der Bewilligung der Gelder für die Beschaffung dieses Systems haben wir dann tatsächlich nochmal monatelang recherchiert, diskutiert und überlegt. Dabei wurde immer klarer, dass die Proben, die wir für unsere Forschung mit dem Elektronenstrahlsystem herstellen möchten (und die wir im entsprechenden Projektantrag auch ‚versprochen‘ haben) wirklich nur mit diesem Gerät der Firma Raith in dieser Konfiguration möglich sind.

IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung
IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja
IV.2)Verwaltungsangaben

Abschnitt V: Auftragsvergabe/Konzessionsvergabe

V.2)Auftragsvergabe/Konzessionsvergabe
V.2.1)Tag der Zuschlagsentscheidung:
09/03/2023
V.2.2)Angaben zu den Angeboten
Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein
V.2.3)Name und Anschrift des Auftragnehmers/Konzessionärs
Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Ort: Dortmund
NUTS-Code: DEA52 Dortmund, Kreisfreie Stadt
Land: Deutschland
Der Auftragnehmer/Konzessionär wird ein KMU sein: nein
V.2.4)Angaben zum Wert des Auftrags/Loses/der Konzession (ohne MwSt.)
Gesamtwert des Auftrags/des Loses/der Konzession: 1 100 000.00 EUR
V.2.5)Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3)Zusätzliche Angaben:
VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Köln
Postleitzahl: 50667
Land: Deutschland
VI.4.2)Zuständige Stelle für Schlichtungsverfahren
Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Köln
Postleitzahl: 50667
Land: Deutschland
VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt
Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Köln
Postleitzahl: 60667
Land: Deutschland
VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:
09/03/2023

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