Lieferung eines Elektronenstrahllithografie Systems
Freiwillige Ex-ante-Transparenzbekanntmachung
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber/Auftraggeber
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Köln
NUTS-Code: DEA23 Köln, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 50923
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://www.uni-koeln.de/
Abschnitt II: Gegenstand
Lieferung eines Elektronenstrahllithografie Systems
Elektronenstrahllithografie System zur Nanofabrikation von Strukturen und Bauteilen
DEA23
- System zur Strukturierung Elektronenstrahl-empfindlicher Lackschichten
- Erzeugung einzelner ‚Features‘ mittels Elektronenstrahl Lithographie, die Linienbreiten und Abmessungen im Bereich von 10 nm haben.
- Insbesondere müssen mit dem System großflächige plasmonische sowie photonische Kristalle und Gitter hergestellt werden, um auf Basis dieser Strukturen optische Sensoren zu entwickeln. Hieraus ergibt sich die Notwendigkeit, Features in hochregelmäßigen/ periodischen Mustern über große Fläche zu definieren, wobei regelmäßig auch Flächen größer als 1 mm² aufgebaut werden müssen, und zwar ohne Abstriche bei der geforderten minimalen Linienbreite und Abmessung der Features zu machen (10 nm). Bereits geringste Versatzfehler der periodischen Muster führen zu einer negativen Veränderung der Eigenschaften der erzeugten Strukturen und müssen unbedingt verhindert werden.
- Wir beabsichtigen eine Vielzahl unterschiedlicher Substrat-Materialien und Lackschichten mit der Elektronenstrahllithographie zu bearbeiten. Um in kurzer Zeit die Belichtungsparameter erneut zu optimieren, ist es notwendig, die belichteten und entwickelten Proben mit dem System ebenfalls untersuchen zu können, d.h. Elektronenmikroskopisch abbilden zu können. Dies muss regelmäßig u.a. mit niedriger Elektronenenergie erfolgen können, wobei niedrig unter 0.1keV bedeutet (also z.B. bis hinunter zu 20eV).
- Ebenfalls aus der Verwendung einer Vielzahl unterschiedlicher Materialien sowie auch unterschiedlicher Proben-Geometrien ergibt sich die Notwendigkeit, regelmäßig das Schreibfeld zu drehen, zu skalieren oder relativ zu seiner „Normal-Null“ Position zu verschieben. Die Kalibration des Schreibfeldes bzgl. Shift, Rotation und Skalierung darf daher keinen Einfluss auf die Auflösung der Belichtung haben.
- Weiterhin die Notwendigkeit einer hochgenauen Positionierung der Probe sowie eines hochgenauen Auslesens der Position der Probe. Zweckmäßigerweise erfolgt dies über die Einstellung / das Auslesen der Position des Verschiebetisches. Eine Positionsauflösung von 1 nm oder besser ist regelmäßig erforderlich.
Abschnitt IV: Verfahren
- Der Auftrag fällt nicht in den Anwendungsbereich der Richtlinie
Aufgrund der technisch benötigten Merkmale kann von einem Alleinstellungsmerkmal ausgegangen werden.
Wir haben den Markt für Elektronenstrahl-Lithographie System besonders sorgfältig geprüft. Neben eigenen Marktrecherchen (Angaben zu verwendeten Geräten in der wissenschaftlichen Literatur, Internet-Suche) haben wir auch ausführlich mit anderen Experten auf diesem Gebiet gesprochen (z. B. Prof. Andrea Di Falco von der University of St. Andrews, Prof. Thomas Krauss von der University of York). Hier wurde klar, dass der Markt für Elektronenstrahl-Lithographie-Systeme für den Forschungsbereich von der Firma Raith beherrscht wird. Andere Anbieter mit vergleichbarem Leistungsspektrum und Serviceangebot konnten wir nicht identifizieren.
Nach der Bewilligung der Gelder für die Beschaffung dieses Systems haben wir dann tatsächlich nochmal monatelang recherchiert, diskutiert und überlegt. Dabei wurde immer klarer, dass die Proben, die wir für unsere Forschung mit dem Elektronenstrahlsystem herstellen möchten (und die wir im entsprechenden Projektantrag auch ‚versprochen‘ haben) wirklich nur mit diesem Gerät der Firma Raith in dieser Konfiguration möglich sind.
Abschnitt V: Auftragsvergabe/Konzessionsvergabe
Ort: Dortmund
NUTS-Code: DEA52 Dortmund, Kreisfreie Stadt
Land: Deutschland
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Köln
Postleitzahl: 50667
Land: Deutschland
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Köln
Postleitzahl: 50667
Land: Deutschland
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Köln
Postleitzahl: 60667
Land: Deutschland