Molekularstrahl-Epitaxie Referenznummer der Bekanntmachung: 10871-MJ

Bekanntmachung vergebener Aufträge

Ergebnisse des Vergabeverfahrens

Lieferauftrag

Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1)Name und Adressen
Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Hannover
NUTS-Code: DE929 Region Hannover
Postleitzahl: 30419
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: www.lzh.de
I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers
Andere: Forschungseinrichtung, e.V., gefördert durch Niedersächsische Ministerium für Wirtschaft, Arbeit, Verkehr und Digitalisierung.
I.5)Haupttätigkeit(en)
Andere Tätigkeit: Forschung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1)Umfang der Beschaffung
II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

Molekularstrahl-Epitaxie

Referenznummer der Bekanntmachung: 10871-MJ
II.1.2)CPV-Code Hauptteil
42900000 Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke
II.1.3)Art des Auftrags
Lieferauftrag
II.1.4)Kurze Beschreibung:

Beschafft werden soll eine Molekularstrahl-Epitaxie zur Hertellung von einkristallinen Litium-Niobat-Schichten zur Erzeugung von verschränkten Photonenpaaren.

Benötigt wird eine Beschichtungsanlage, die das epitakitische Wachstum von Litium-Niobat auf Saphirewafern ermöglicht. Für die Beschichtung ist der physikalische Prozess der Molekularstrahlepitaxie zu verwenden. Zur Überprüfung der Kristallzustände während des Wachstums muss eine RHEED-Analyse implementiert sein. Zudem müssen die Effussionszellen auf die Sublimationstemperatur der Materialien ausgelegt sein. Insbesondere bei den hochschmelzenden Niob und Nioboxid ist hier eine Temperatur von mindesten 2300°C erforderlich. Dabei muss die Kontamination durch den Tiegel minimiert sein. Dies gilt sowohl für die Tiegel selber als auch die jeweiligen Aufnahmen und Heizer.

Die Beschichtungsanlage muss über die erforderlichen Pumpsystemen verfügen, die im Dauerbetrieb einen Untergrunddruck von mindestens 2E-10mbar. Zudem ist die Beschichtungsanlage mit einem Load-Lock-System auszurüsten. Das Loadlocksystem muss einen Untergrunddruck geringer oder gleich 5E-8 mbar erreichen.

Der Substratmanipulation muss eine Wachstumtemperatur von mindesten 1100°C unter der reaktiven Sauersoffatmosphäre gestatten und die manuelle dreiachs Positionierung mit Verfahrwegen von 20mm in horizontalen Positionierung gestallen sowie eine Höhenverstellung von 50 mm erlauben. Zudem muss der Substrathalter drehbar sein.

Das Beschichtungssystem muss über einen Prozessrechner verfügen über den die Ventile, die Shutter, die Substrattemperatur, sowie die Verdampferzellen angesteuert werden.

II.1.6)Angaben zu den Losen
Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.1.7)Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.)
Wert ohne MwSt.: [Betrag gelöscht] EUR
II.2)Beschreibung
II.2.3)Erfüllungsort
NUTS-Code: DE929 Region Hannover
Hauptort der Ausführung:

Laser Zentrum Hannover e.V. Hollerithallee 8 30419 Hannover

II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Beschafft werden soll eine Molekularstrahl-Epitaxie zur Hertellung von einkristallinen Litium-Niobat-Schichten zur Erzeugung von verschränkten Photonenpaaren.

Benötigt wird eine Beschichtungsanlage, die das epitakitische Wachstum von Litium-Niobat auf Saphirewafern ermöglicht. Für die Beschichtung ist der physikalische Prozess der Molekularstrahlepitaxie zu verwenden. Zur Überprüfung der Kristallzustände während des Wachstums muss eine RHEED-Analyse implementiert sein. Zudem müssen die Effussionszellen auf die Sublimationstemperatur der Materialien ausgelegt sein. Insbesondere bei den hochschmelzenden Niob und Nioboxid ist hier eine Temperatur von mindesten 2300°C erforderlich. Dabei muss die Kontamination durch den Tiegel minimiert sein. Dies gilt sowohl für die Tiegel selber als auch die jeweiligen Aufnahmen und Heizer.

Die Beschichtungsanlage muss über die erforderlichen Pumpsystemen verfügen, die im Dauerbetrieb einen Untergrunddruck von mindestens 2E-10mbar. Zudem ist die Beschichtungsanlage mit einem Load-Lock-System auszurüsten. Das Loadlocksystem muss einen Untergrunddruck geringer oder gleich 5E-8 mbar erreichen.

Der Substratmanipulation muss eine Wachstumtemperatur von mindesten 1100°C unter der reaktiven Sauersoffatmosphäre gestatten und die manuelle dreiachs Positionierung mit Verfahrwegen von 20mm in horizontalen Positionierung gestallen sowie eine Höhenverstellung von 50 mm erlauben. Zudem muss der Substrathalter drehbar sein.

Das Beschichtungssystem muss über einen Prozessrechner verfügen über den die Ventile, die Shutter, die Substrattemperatur, sowie die Verdampferzellen angesteuert werden.

Besondere Anforderungen

- Die Anlage soll funktionstüchtig und betriebsbereits geliefert bzw. installiert werden

- Die Prozesszone der gelieferten Anlage muss ein richtlinienkonformer Betrieb sichergestellt sein (elektro und mechanische Sicherheit).

- Die Anlage soll im Reinraum des LZH als Forschungsanlage betrieben werden. Seitens des LZH stehen dafür Hilfsenergie wie Netzspannung (1 und 3 phasig), Gasversorgung, und Druckluft zur Verfügung.

- Die Anlage muss transportabel sein.

- Gegenstand der Ausschreibung ist eine vollständige Dokumentation und CE-Zertifizierung der Anlage, sowie eine Mitarbeiterschulung und Gewährleistung.

- Die hier genannten Forderungen gelten als Mindestanforderungen, die zwingend zu erfüllen sind.

Anlieferung, Verbringung und Inbetriebnahme

Die zu liefernde Anlage ist ebenerdig und versichert zum Bestimmungsort im Versuchsfeld des LZHs anzuliefern. Die Inbetriebnahme erfolgt Vorort und wird durch eine Checkliste dokumentiert.

II.2.5)Zuschlagskriterien
Preis
II.2.11)Angaben zu Optionen
Optionen: nein
II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1)Beschreibung
IV.1.1)Verfahrensart
Auftragsvergabe ohne vorherige Bekanntmachung eines Aufrufs zum Wettbewerb im Amtsblatt der Europäischen Union (für die unten aufgeführten Fälle)
  • Die Bauleistungen/Lieferungen/Dienstleistungen können aus folgenden Gründen nur von einem bestimmten Wirtschaftsteilnehmer ausgeführt werden:
    • aufgrund des Schutzes von ausschließlichen Rechten einschließlich Rechten des geistigen Eigentums
Erläuterung:

Für das Projekt Quantum Photonics Fabrication Lab ist eine MBE-Anlage zu beschaffen (Lieferleistung). Entsprechend §14 VgV Absatz 4 Nummer 2c wird der Zuschlag im Rahmen eines Vergabeverfahrens ohne Teilnahmewettbewerb der Firma CreaTec Fischer & Co. GmbH erteilt, da dieses Unternehmen als Inhaber eines Patents auf notwendige Anlagenkomponenten und Verfahrenstechniken ausschließlich in Frage kommt. Es werden auch keine Lizenzen an Dritte vergeben. Eine andere technische Lösung, die nicht auf die von dem Patent geschützte Technologie angewiesen ist, kommt aus den im folgenden ausgeführten Gründen ebenfalls nicht in Betracht:

Für die Herstellung von Materialien für die Quantentechnologie müssen neue Wege beschritten werden. Dies trifft insbesondere die Herstellung der nichtlinearen Materialien, die für die Erzeugung der verschränkten Photonenpaare benötigt werden. Aus physikalischen Gründen müssen transparente Materialien verwendet werden, die einen zwei- oder dreiachsigen Kristall bilden. Damit ist die Herstellung ausschließlich mit einem epitaktischen Verfahren, wie der Molekularstrahlepitaxie oder der Metallorganischen Chemischen Gasphasenabscheidung (MOCVD), möglich. Für die Forschung ist hier die Molekularstrahlepitaxie auf Grund der Flexibilität und der Nutzbarkeit von ungiftigen Materialien zu bevorzugen. Unabhängig von dem Prozess ist es notwendig die höchstmögliche Reinheit in den im Herstellungsprozess zu erreichen. Jedes Fremdatom verursacht in den finalen Kristallstruktur Absorptionszentren und/oder Versetzungskeime, die die Konversionseffizienz teils drastisch reduzieren. Die Kontaminationen werden teils durch das Restvakuum verursacht, weshalb Epitaxieanlagen mit einem Untergrunddruck von 2E-10 mbar arbeiten. Die zweite Kontaminationsquelle sind die Verdampfer, die in Form von Effusionszellen verwendet werden. Die Effusionszellen gestatten im Vergleich zu reinen Elektronenstrahlverdampfern ein gleichmäßiges Wachstum, das für das Erreichen der einkristallinen Struktur zwingend erforderlich ist. Ratenschwankungen führen ebenso wie Verunreinigungen zu Gitterfehlern und zu hohen Verlusten in der Konversionseffizienz und damit zu einer Verringerung der Quantenausbeute. Um hier eine Möglichst hohe Effizienz zu erreichen, muss höchste Prozessstabilität und eine möglichst geringe Kontamination erreicht werden. Für die Verdampfungszellen gilt. Je höher die Verdampfungstemperatur ist desto größer ist der Anteil, der von den Zellen emittierten Fremdatomen. Diese Problematik ist in der Wissenschaft hinreichend bekannt. Die Firma CreaTec bietet als weltweit einzige Firma einen Effusionszellentyp an, bei der die Tiegelaufnahme und somit der heißeste Bereich ohne Keramikisolatoren aus Aluminiumoxid oder Bornitrid auskommt. Stattdessen wird der Tiegel frei gehaltert. Dadurch wird die Kontamination durch das unvermeidliche Ausgasen aus Isolatoren drastisch reduziert. Das Produkt ist patentrechtlich unter der Patentnummer EP 2 173 921 B1 geschützt und kann ausschließlich von der CreaTec Fischer & Co. GmbH bezogen werden. Die Firma CreaTec Fischer & Co. GmbH besitzt damit ein Alleinstellungsmerkmal auf ihr Produkt. Da im Projekt Materialien wie Niob oder Nioboxid mit hohen Sublimationstemperaturen von über 2200°C eingesetzt werden müssen, ist dieses Kriterium entscheidend für den Projekterfolg. Generell sind Effusionszellen Komponenten, die auf den Fertigungsprozess optimiert sein müssen, weshalb der Erfolg maßgeblich von der Qualität dieser Komponente bestimmt wird. Alle nachfolgenden Prozesse sind auf die hohe Quanteneffizienz der Beschichtung angewiesen. Nur durch ein ungestörtes Wachstum kann die Ausbeute an verschränkten Photonen in dem Material erzeugt werden, die die Zielstellung des Projektes ist.

Somit ist die Anwendung der weltweit einzigartigen, patentierten Quelle der Firma CreaTec Fischer & Co. GmbH die Voraussetzung für den Erfolg des Projekts, und somit ist die Nutzung dieses optimierten Tiegelsystems unumgänglich.

IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem
IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: nein
IV.2)Verwaltungsangaben
IV.2.8)Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems
IV.2.9)Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Auftrags-Nr.: 10871-MJ
Bezeichnung des Auftrags:

Molekularstrahl-Epitaxie

Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja
V.2)Auftragsvergabe
V.2.1)Tag des Vertragsabschlusses:
07/09/2021
V.2.2)Angaben zu den Angeboten
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 0
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0
Anzahl der elektronisch eingegangenen Angebote: 1
Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein
V.2.3)Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde
Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Erligheim
NUTS-Code: DE115 Ludwigsburg
Postleitzahl: 74391
Land: Deutschland
Der Auftragnehmer ist ein KMU: ja
V.2.4)Angaben zum Wert des Auftrags/Loses (ohne MwSt.)
Ursprünglich veranschlagter Gesamtwert des Auftrags/des Loses: [Betrag gelöscht] EUR
Gesamtwert des Auftrags/Loses: [Betrag gelöscht] EUR
V.2.5)Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3)Zusätzliche Angaben:

Da im Projekt Materialien wie Niob oder Nioboxid mit hohen Sublimationstemperaturen von über 2200°C eingesetzt werden müssen, ist dieses Kriterium entscheidend für den Projekterfolg. Generell sind Effusionszellen Komponenten, die auf den Fertigungsprozess optimiert sein müssen, weshalb der Erfolg maßgeblich von der Qualität dieser Komponente bestimmt wird. Alle nachfolgenden Prozesse sind auf die hohe Quanteneffizienz der Beschichtung angewiesen. Nur durch ein ungestörtes Wachstum kann die Ausbeute an verschränkten Photonen in dem Material erzeugt werden, die die Zielstellung des Projektes ist.

Somit ist die Anwendung der weltweit einzigartigen, patentierten Quelle der Firma CreaTec Fischer & Co. GmbH die Voraussetzung für den Erfolg des Projekts, und somit ist die Nutzung dieses optimierten Tiegelsystems unumgänglich.

Bekanntmachungs-ID: CXP4YM4RC35

VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Lüneburg
Postleitzahl: 21339
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]
Internet-Adresse: http://www.mw.niedersachsen.de
VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:
27/09/2021

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