Öffentliche Ausschreibung Frankfurt (Oder) 2021 Photolithography mask / reticle for MPW-Service and Research Referenznummer der Bekanntmachung: IHP-2019-116 2021-07-28

Photolithography mask / reticle for MPW-Service and Research Referenznummer der Bekanntmachung: IHP-2019-116

Bekanntmachung vergebener Aufträge

Ergebnisse des Vergabeverfahrens

Lieferauftrag

Rechtsgrundlage:

Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1)Name und Adressen

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Nationale Identifikationsnummer: 2019/S 245-602341
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Frankfurt (Oder)
NUTS-Code: DE403 Frankfurt (Oder), Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 15236
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: www.ihp-microelectronics.com

I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers

Andere: Forschung und Entwicklung

I.5)Haupttätigkeit(en)

Andere Tätigkeit: Forschung und Entwicklung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1)Umfang der Beschaffung

II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

Photolithography mask / reticle for MPW-Service and Research

Referenznummer der Bekanntmachung: IHP-2019-116

II.1.2)CPV-Code Hauptteil

38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)

II.1.3)Art des Auftrags

Lieferauftrag

II.1.4)Kurze Beschreibung:

Das IHP bietet verschiedene SiGe-BiCMOS Technologien für ein Multi-Wafer Programm (MPW) an.

Pro Jahr bestellt das IHP ungefähr 300 Einzelmasken mit verschiedenen Anforderungen/Spezifikationen. Abhängig von den Anforderungen nutzt das IHP Multi-Ebenen-Photomasken für seine Maskensätze.

II.1.6)Angaben zu den Losen

Aufteilung des Auftrags in Lose: nein

II.2)Beschreibung

II.2.3)Erfüllungsort

NUTS-Code: DE403 Frankfurt (Oder), Kreisfreie Stadt

II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Das IHP bietet verschiedene SiGe-BiCMOS Technologien für ein Multi-Wafer Programm (MPW) an.

Pro Jahr bestellt das IHP ungefähr 300 Einzelmasken mit verschiedenen Anforderungen / Spezifikationen. Abhängig von den Anforderungen nutzt das IHP Multi-Ebenen-Photomasken für seine Maskensätze.

Bevor das IHP die Masken in die Produktion von Wafern überführen kann, müssen die Maskenanbieter eine Bewertungsprozedur / Evaluierung durchlaufen.

(siehe unten).

Bewertungskriterien:

1) Der Photomaskenanbieter hat die Anforderungen bezüglich der Maskenqualität zu erfüllen, welche im Dokument „IHP_mask_requirements.pdf“ aufgeführt sind;

2) Für die Evaluierung sollte der Maskenlieferant 4 Photomasken mit kritischen Maskenebenen für einen feststehenden MPW-Durchlauf bereitstellen.

Diese kritischen Maskenebenen sind beschrieben in „IHP_mask_requirements.pdf“. Das IHP wird bestimmte / dedizierte Wafer mit entsprechenden Maskenebenen prozessieren und die Qualität hinsichtlich folgender Merkmale prüfen:

a) Messungen von photolithographischen Kontrollstrukturen;

b) Messungen von elektrischen PKM (Prozess-Kontroll-Monitore) Strukturen;

c) Evaluierung der Ausbeute.

3) Die Evaluierungsergebnisse werden mit den Maskenanbietern ausgetauscht.

Nach einer erfolgreichen Evaluierung von verschiedenen Masken-Anbietern wird das IHP einen Rahmenvertrag mit mindestens 2 Lieferanten für eine Periode von 2 Jahren mit der Option einer Verlängerung von 2 Jahren abschließen.

II.2.5)Zuschlagskriterien

Preis

II.2.11)Angaben zu Optionen

Optionen: nein

II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union

Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein

II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1)Beschreibung

IV.1.1)Verfahrensart

Offenes Verfahren

IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem

IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)

Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: nein

IV.2)Verwaltungsangaben

IV.2.1)Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren

Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2019/S 245-602341

IV.2.8)Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems

IV.2.9)Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Auftrags-Nr.: IHP-2019-116

Bezeichnung des Auftrags:

Photolithography mask / reticle for MPW-Service and Research

Ein Auftrag/Los wurde vergeben: nein

V.1)Information über die Nichtvergabe

Der Auftrag/Das Los wird nicht vergeben

Es sind keine Angebote oder Teilnahmeanträge eingegangen oder es wurden alle abgelehnt

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3)Zusätzliche Angaben:

VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren

VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Potsdam
Postleitzahl: 14473
Land: Deutschland

VI.4.2)Zuständige Stelle für Schlichtungsverfahren

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Frankfurt (Oder)
Postleitzahl: 15236
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]59

VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Frankfurt (Oder)
Postleitzahl: 15236
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Telefon: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]59

VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:

23/07/2021

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