Forschungslabor Mikroelektronik Cottbus – Senftenberg für Siliziumbasierte Optoelektronik – ForLab FAMOS Referenznummer der Bekanntmachung: F41_000341
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Ergebnisse des Vergabeverfahrens
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Cottbus
NUTS-Code: DE402 Cottbus, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 03046
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n):[gelöscht]
E-Mail: [removed]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://www.b-tu.de
Abschnitt II: Gegenstand
Forschungslabor Mikroelektronik Cottbus – Senftenberg für Siliziumbasierte Optoelektronik – ForLab FAMOS
Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse, PECVD System mit Vakuumschleuse und rechnergestütztes Kontaktprofilometer
Die Beschaffung von einem Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse und PECVD System mit Vakuumschleuse dient der Herstellung von optoelektronischen Bauelementen, die auf Materialintegration (GeSn, SiGeSn, Oxide und 2D-Materialien) auf dem Grundmaterial Si basieren. Gesucht werden erprobte Systeme, da die Ätz- und Beschichtungsprozesse für Forschungszwecke benötigt werden und unmittelbar in Forschungsprojekten eingesetzt werden sollen.
Das Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse dient zur Übertragung lithografisch hochpräzise definierter Nanostrukturen in das darunterliegende Material. Hierzu ist der Einsatz der Ätzgase Cl2, HBr, CHF3, CF4, SF6, Ar, O2 geplant, zudem soll die Anlage die Möglichkeit zur Regulierung der Wafertemperatur über einen großen Temperaturbereich und die Möglichkeit zum Atomic Layer Etching für sehr gute Kontrolle der Ätztiefen, sehr glatte Oberflächen und hervorragende Uniformität bieten. Gesucht wird ein System, das insbesondere hinsichtlich der Strukturierung des Grundmaterials Si erprobt ist. Darüber hinaus soll diese Anlage durch die große Anzahl der Prozessgase für die Strukturierung unterschiedlicher Materialklassen ausgelegt sein.
Ferner ist zur Oberflächenpassivierung bei optoelektronischen Bauelementen ein PECVD System mit Vakuumschleuse nötig, in dem Si-basierte Oxide (auf TEOS-Basis) und Nitrite sowie a-Si abgeschieden werden können. Die Anlage soll die Abscheidung von passivierenden Schichten speziell bei niedrigen Temperaturen ermöglichen.
Zur Bestimmung der Ätztiefen ist ferner ein rechnergestützes Kontakprofilometer erforderlich. Gesucht wird ein erprobtes System zur rechnergestützten zwei- oder dreidimensionalen Vermessung mikroskopischer oder submikroskopischer Oberflächentopografien inklusive passivem Schwingungsdämpfungstisch zur reinraumgeeigneten Aufstellung.
— Los 1: Trockenätzsystem mit hochdichter Plasmaquelle und Vakuumschleuse,
— Los 2: PECVD System mit Vakuumschleuse,
— Los 3: Rechnergestütztes Kontaktprofilometer,
Um Synergien der Anlagen zu nutzen und Aufwände, insbesondere Kosten, für Wartung zu reduzieren, werden LOS 1 und Los 2 nur zusammen vergeben.
Trockenätzanlage
BTU Cottbus-Senftenberg
Universitätsplatz 1
01968 Senftenberg
Gebäude 14E, Campus Senftenberg
Trockenätzanlage gemäß Leistungsbeschreibung.
Gemäß Leistungsbeschreibung zu Los 1
Bei dem geschätzten Wert handelt es sich um den Netto-Wert.
PECVD-Anlage
BTU Cottbus-Senftenberg
Universitätsplatz 1
01968 Senftenberg
Gebäude 14E, Campus Senftenberg
PECVD-Anlage gemäß Leistungsbeschreibung.
Gemäß Leistungsbeschreibung zu Los 2
Bei dem geschätzten Wert handelt es sich um den Netto-Wert.
Kontaktprofilometer
BTU Cottbus-Senftenberg
Universitätsplatz 1
01968 Senftenberg
Gebäude 14E, Campus Senftenberg
Kontaktprofilometer gemäß Leistungsbeschreibung
Bei dem geschätzten Wert handelt es sich um den Netto-Wert.
Abschnitt IV: Verfahren
Abschnitt V: Auftragsvergabe
Trockenätzsystem und PECVD System
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Wiesbaden
NUTS-Code: DE714 Wiesbaden, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 65205
Land: Deutschland
Abschnitt V: Auftragsvergabe
Rechnergestütztes Kontaktprofilometer
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Langen
NUTS-Code: DE71C Offenbach, Landkreis
Postleitzahl: 63225
Land: Deutschland
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Bitte beachten Sie die Bewerbungsbedingungen eVergabe unter „Vergabeunterlagen“.
Vorsorglich wird insbesondere auf Punkt 1, Nr. 1 der VOL/B mit dem Hinweis verwiesen, dass anderslautende Geschäfts-, Liefer-, oder Zahlungsbedingungen des Auftragnehmers nicht Bestandteil des Vertrages werden.
Bekanntmachungs-ID: CXP9YY0R0B7.
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Potsdam
Postleitzahl: 14473
Land: Deutschland
Telefon: [removed]
Fax: [removed]
Internet-Adresse: https://mwae.brandenburg.de/de/vergabekammer-nachpr%c3%bcfungsverfahren/bb1.c.478846.de
Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein. Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse am Auftrag hat und eine Verletzung in seinen Rechten nach § 97 Abs. 6 GWB durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dabei ist darzulegen, dass dem Unternehmen durch die behauptete Verletzung der Vergabevorschriften ein Schaden entstanden ist oder zu entstehen droht.
Der Antrag ist unzulässig, soweit:
1) der Antragsteller den gerügten Verstoß gegen Vergabevorschriften im Vergabeverfahren erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht unverzüglich gerügt hat,
2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Angebotsabgabe oder zur Bewerbung gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,
3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Angebotsabgabe oder zur Bewerbung gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,
4) mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind. Der Antrag ist schriftlich bei der Vergabekammer einzureichen und unverzüglich zu begründen.