1. Beschaffer
1.1.
Beschaffer
Offizielle Bezeichnung: Westsächsische Hochschule Zwickau
Rechtsform des Erwerbers: Von einer regionalen Gebietskörperschaft kontrollierte Einrichtung des öffentlichen Rechts
Tätigkeit des öffentlichen Auftraggebers: Bildung
2. Verfahren
2.1.
Verfahren
Titel: Beschaffung einer Dünnschicht-Abscheidungsanlage
Beschreibung: Dünnschicht-Abscheidungsanlage, mit den Spezifikationen gemäß der Leistungsbeschreibung
Kennung des Verfahrens: 0cf37da0-2a9e-4948-b76f-2cb80bf8ecc1
Interne Kennung: ÖA-EU 01-25
Verfahrensart: Offenes Verfahren
Das Verfahren wird beschleunigt: nein
2.1.1.
Zweck
Art des Auftrags: Lieferungen
Haupteinstufung (cpv): 31712100 Mikroelektronische Maschinen und Geräte
2.1.2.
Erfüllungsort
Postanschrift: Kornmarkt 1
Stadt: Zwickau
Postleitzahl: 08056
Land, Gliederung (NUTS): Zwickau (DED45)
Land: Deutschland
2.1.4.
Allgemeine Informationen
Zusätzliche Informationen: Bekanntmachungs-ID: CXP4D4Z5MK1
Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU
vgv -
2.1.6.
Ausschlussgründe
Der Zahlungsunfähigkeit vergleichbare Lage gemäß nationaler Rechtsvorschriften:
Korruption:
Beteiligung an einer kriminellen Vereinigung:
Vereinbarungen mit anderen Wirtschaftsteilnehmern zur Verzerrung des Wettbewerbs:
Verstoß gegen umweltrechtliche Verpflichtungen:
Geldwäsche oder Terrorismusfinanzierung:
Betrugsbekämpfung:
Kinderarbeit und andere Formen des Menschenhandels:
Zahlungsunfähigkeit:
Verstoß gegen arbeitsrechtliche Verpflichtungen:
Verwaltung der Vermögenswerte durch einen Insolvenzverwalter:
Falsche Angaben, verweigerte Informationen, die nicht in der Lage sind, die erforderlichen Unterlagen vorzulegen, und haben vertrauliche Informationen über dieses Verfahren erhalten.:
Interessenkonflikt aufgrund seiner Teilnahme an dem Vergabeverfahren:
Direkte oder indirekte Beteiligung an der Vorbereitung des Vergabeverfahrens:
Schwere Verfehlung im Rahmen der beruflichen Tätigkeit:
Vorzeitige Beendigung, Schadensersatz oder andere vergleichbare Sanktionen:
Verstoß gegen sozialrechtliche Verpflichtungen:
Zahlung der Sozialversicherungsbeiträge:
Einstellung der gewerblichen Tätigkeit:
Entrichtung von Steuern:
Terroristische Straftaten oder Straftaten im Zusammenhang mit terroristischen Aktivitäten:
5. Los
5.1.
Los: LOT-0001
Titel: Beschaffung einer Dünnschicht-Abscheidungsanlage
Beschreibung: - Factory Acceptance Test (FAT), web-basiert oder vor Ort inkludiert - Installation, Training and Site Acceptance Test (SAT) mit Nutzertraining inkludiert - CE-Kennzeichnung für das Gesamtsystem "- Maximalmaße der Anlage: Höhe 2.95m x Breite 3.60 x Länge 2.60m, bei Überschreitung dieser Maße ist Rücksprache unter Zusendung des Anlagenlayouts nötig. Je nach Anlagenlayout kann eine Überschreitung zum Ausschluss aus dem Vergabeverfahren führen, die Entscheidung hierüber trifft die Westsächsiche Hochschule Zwickau." "- Das Gesamtsystem muss alle zum regulären Betrieb in einem Reinraum nötigen Anlagenbestandteile enthalten (Verkleidungen, Rackmounts, anlageninterne Verrohrung, Schläuche, Bedieneinheiten, Anzeigen...)" Transfer und Kammersystem: Mindestens 3 Port Transferkammersystem, optional 4 Port, je nach Anlagenkonfiguration - Port 1: Kassetten load lock zum Einschleusen von Proben - Port 2: Sputtermodul - Port 3: frei, mit der Option eines späteren Nachrüstens eines Verdampfers (thermisch / Elektronenstrahl) " - Port 4: frei, mit der Option eines späteren Nachrüstens eines Wafer-Wenders, nur nötig, wenn das Sputtermodul in "sputter down" Konfiguration angeboten wird." Handlingsystem, automatisch oder manuell mit >10 Millionen MCBF Sputtermodul in "sputter down" Konfiguration angeboten wird. - End-Effektoren für 150mm wafers/carriers - min. eine Kassette für 150mm Wafer mit 12 Carriern für 100mm Wafer und kleinere Proben - Wafer im Durchmesser von 150mm sollen mit und ohne Flat / Notch in einem Dickenbereich von 200-1000µm oder einem weiteren Dickenbereich bearbeitet werden können. " - Über die Verwendung der mitgelieferten Carrier soll die Bearbeitung von 100mm Wafern (mit und ohne Flat, 200-1000µm Dicke oder einem weiteren Dickenbereich) möglich sein." " - min. 6 Carrier mit hoher thermischer Masse, dieser kann die Verwendung der Substratheizung unmöglich machen, muss jedoch ohne Ausbau der Substratheizung verwendbar sein." Pump- und Gassystem - Turbopumpen an load lock, Prozess- und Transferkammern - ölfreie Vorvakuumpumpen an allen für die Funktion des Systems notwendigen Stellen - Gaskontrollsystem für die Prozessgase ink. MFCs " - Prozessgase: Ar, N2, O2, H2 / CH4, in beliebigen Zusammensetzungen, jedoch Hardware Interlock an O2 Gaslinie, gesperrt bei Betrieb mit H2 oder CH4" " - Prozessgase im Prozessmodul: N2 Spülventil MFC für Ar mit individuellem Ein-/Aus-Ventil MFC für O2 mit individuellem Ein-/Aus-Ventil und Hardware Interlock gegen H2 und CH4 MFC für N2 mit individuellem Ein-/Aus-Ventil MFC für H2/CH4 mit individuellem Ein-/Aus-Ventil" Software - Anlagensteuerungssoftware mit speicherbaren Prozessrezepten und möglichem automatisiertem Prozessablauf " - Datenaufzeichnung der relevanten Prozessparameter, min. Zeit, Prozessmoduldruck, Gasfluss, Leistung. " "- mehrere Nutzerlevel, ab Level 2 passwortgeschützt, min: 1 nur Prozessstart hinterlegter Rezepte 2 Prozessstart und -modifikation bzw. Rezepterstellung 3 manuelle Anlagensteuerung" Prozessmodul - Modul konfiguriert sowohl für co-Deposition mit einem konfokal Setup und weiterhin einem face-to-face Sputtersystem " - konfokale 3" Magnetrons beweglich um das Sputtern vom 6" Magnetron ohne Verschattung und mit flexiblem Abstand zu ermöglichen. " " - Bottom-up Konfiguration (Quellen unten in Kammer, Probe oben), oder Top-down Konfiguration, mit der Option für einen später nachrüstbaren Wafer-Wender, für die spätere Beladung des Verdampfers vorgesehen." " - Leicht aus der Kammer zur Reinigung entfernbarer Liner (extra Set als Tauschteil inkludiert) zur Vermeidung parasitärer Abscheidung an den Kammerwänden" - Basisdruck im E-8 mbar Bereich oder besser - Upstream und downstream Druckregulierung möglich " - 4 Stück 3" Magnetrons - konfokale Anordnung - co-deposition, RF and DC/gepulst DC sputtering möglich - Individueller Quellen-Shutter vor jedem Target - Automatischer Magnetron Kippwinkel als Rezeptvorwahl - Uniformity besser als +/-5% auf 150mm Wafer (Randausschluss max.: 5mm) - Abscheiderate für Al min. 100 nm/min" " - 1 Stück 6" Magnetron - Face-to-face Konfiguration, DC/pDC sputtern möglich - Automatisierte lineare Z-Bewegung zur Einstellung des Abstandes zum Target und zurückziehen des Targets bei Verwendung der co-sputter Targets - Uniformity besser als +/-5% auf 100mm Wafer (Randausschluss max.: 5mm) - Abscheiderate für Al min. 300 nm/min" " - 2 St. min. 2.5 kW DC/pDC Netzteile - Erstes Netzteil geteilt zwischen einem 3" Magnetron und dem 6" Magnetron - Zweites Netzteil geteilt zwischen zwei 3" Magnetrons - Automatische rezeptwählbare Softwaresteuerung für den DC-Schalter" " - 1 St. min. 600W HF Netzteil incl. matching network - Geteilt zwischen zwei 3"" Magnetrons - Automatischer softwaregesteuerter HF-Schalter" " - 1 St. min. 300W HF-Netzteil inkl. Matching-Netzwerk z.B. für Substratvorspannung bei DLC-Beschichtungen und Vorreinigung der Substrate in der Kammer." - Substratelektrode für 150mm Wafer/Carrier - Heizelement für die Substratheizung bis min. 1000°C, Homogenität <5K auf einem Durchmesser von 100mm oder größer. - Motorisierter Substrat-Shutter zum Abscheiden von Schichten mit Dickengradient - Kontinuierliche 360°-Substratdrehung, min. 0-20 U/min " - Flansch zur späteren Nachrüstung einer optischen Emissionsüberwachung, dieser ka
Interne Kennung: ÖA-EU 01-25
5.1.1.
Zweck
Art des Auftrags: Lieferungen
Haupteinstufung (cpv): 31712100 Mikroelektronische Maschinen und Geräte
5.1.2.
Erfüllungsort
Postanschrift: Kornmarkt 1
Stadt: Zwickau
Postleitzahl: 08056
Land, Gliederung (NUTS): Zwickau (DED45)
Land: Deutschland
5.1.3.
Geschätzte Dauer
Datum des Beginns: 12/05/2025
Enddatum der Laufzeit: 01/09/2026
5.1.7.
Strategische Auftragsvergabe
Ziel der strategischen Auftragsvergabe: Keine strategische Beschaffung
5.1.9.
Eignungskriterien
Kriterium:
Art: Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
5.1.11.
Auftragsunterlagen
Sprachen, in denen die Auftragsunterlagen offiziell verfügbar sind: Deutsch
Frist für die Anforderung zusätzlicher Informationen: 06/03/2025 23:59:59 (UTC+1)
Ad-hoc-Kommunikationskanal:
5.1.12.
Bedingungen für die Auftragsvergabe
Bedingungen für die Einreichung:
Elektronische Einreichung: Erforderlich
Sprachen, in denen Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können: Deutsch
Elektronischer Katalog: Nicht zulässig
Varianten: Nicht zulässig
Die Bieter können mehrere Angebote einreichen: Nicht zulässig
Frist für den Eingang der Angebote: 13/03/2025 10:00:00 (UTC+1)
Informationen, die nach Ablauf der Einreichungsfrist ergänzt werden können:
Nach Ermessen des Käufers können einige fehlenden Bieterunterlagen nach Fristablauf nachgereicht werden.
Zusätzliche Informationen: Zum Angebot ergänzende Unterlagen mit Außnahme des Angebotsschreiben können unter Umständen nachgefordert werden.
Informationen über die öffentliche Angebotsöffnung:
Eröffnungsdatum: 14/03/2025 10:00:00 (UTC+1)
Auftragsbedingungen:
Die Auftragsausführung muss im Rahmen von Programmen für geschützte Beschäftigungsverhältnisse erfolgen: Noch nicht bekannt
Elektronische Rechnungsstellung: Erforderlich
Aufträge werden elektronisch erteilt: ja
Zahlungen werden elektronisch geleistet: ja
5.1.15.
Techniken
Rahmenvereinbarung: Keine Rahmenvereinbarung
Informationen über das dynamische Beschaffungssystem: Kein dynamisches Beschaffungssystem
5.1.16.
Weitere Informationen, Schlichtung und Nachprüfung
Überprüfungsstelle: Vergabekammer des Freistaates Sachsen
Organisation, die zusätzliche Informationen über das Vergabeverfahren bereitstellt: Westsächsische Hochschule Zwickau
Organisation, die weitere Informationen für die Nachprüfungsverfahren bereitstellt: Vergabekammer des Freistaates Sachsen
Organisation, die Teilnahmeanträge entgegennimmt: Westsächsische Hochschule Zwickau
TED eSender: Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)
8. Organisationen
8.1.
ORG-0001
Offizielle Bezeichnung: Westsächsische Hochschule Zwickau
Registrierungsnummer: 14-1215011WHZ01-34
Postanschrift: Kornmarkt 1
Stadt: Zwickau
Postleitzahl: 08056
Land, Gliederung (NUTS): Zwickau (DED45)
Land: Deutschland
Telefon: 03755361130
Rollen dieser Organisation:
Beschaffer
Zentrale Beschaffungsstelle, die öffentliche Aufträge oder Rahmenvereinbarungen im Zusammenhang mit für andere Beschaffer bestimmten Bauleistungen, Lieferungen oder Dienstleistungen vergibt/abschließt
Organisation, die zusätzliche Informationen über das Vergabeverfahren bereitstellt
Organisation, die Teilnahmeanträge entgegennimmt
8.1.
ORG-0002
Offizielle Bezeichnung: Vergabekammer des Freistaates Sachsen
Registrierungsnummer: ohne
Stadt: Leipzig
Postleitzahl: 04013
Land, Gliederung (NUTS): Leipzig, Kreisfreie Stadt (DED51)
Land: Deutschland
Telefon: +49 03419773800
Rollen dieser Organisation:
Überprüfungsstelle
Organisation, die weitere Informationen für die Nachprüfungsverfahren bereitstellt
8.1.
ORG-0003
Offizielle Bezeichnung: Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)
Registrierungsnummer: 0204:994-DOEVD-83
Stadt: Bonn
Postleitzahl: 53119
Land, Gliederung (NUTS): Bonn, Kreisfreie Stadt (DEA22)
Land: Deutschland
Telefon: +49228996100
Rollen dieser Organisation:
TED eSender
11. Informationen zur Bekanntmachung
11.1.
Informationen zur Bekanntmachung
Kennung/Fassung der Bekanntmachung: f13ece22-0e4e-4d51-9f3f-31a807db1284 - 01
Formulartyp: Wettbewerb
Art der Bekanntmachung: Auftrags- oder Konzessionsbekanntmachung – Standardregelung
Unterart der Bekanntmachung: 16
Datum der Übermittlung der Bekanntmachung: 05/02/2025 09:00:01 (UTC+1)
Sprachen, in denen diese Bekanntmachung offiziell verfügbar ist: Deutsch
11.2.
Informationen zur Veröffentlichung
Veröffentlichungsnummer der Bekanntmachung: 80602-2025
ABl. S – Nummer der Ausgabe: 26/2025
Datum der Veröffentlichung: 06/02/2025