EffizientPro Referenznummer der Bekanntmachung: 2022 WIN 0014
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Ergebnisse des Vergabeverfahrens
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Ort: Erfurt
NUTS-Code: DEG01 Erfurt, Kreisfreie Stadt
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: www.cismst.de
Abschnitt II: Gegenstand
EffizientPro
Im Rahmen des Projektes "Innovative CVD-Technologie - energieeffizient, ressourcenschonend und emissionsarm" möchte die CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH in eine Hochtemperatur-CVD-Anlage (CVD - Chemical Vapor Deposition) der neuesten Generation mit verschiedenen Möglichkeiten zum flexiblen Einsatz in der Schichtabscheidung auf großflächige Substrate investieren.
Hochtemperatur-Anlage 01 Stck.
Lieferumfang:
CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH benötigt eine Anlage zur thermischen Oxidation und Temperung für doppelseitig prozessierte 4- und 6- Zoll Wafer.
Vorhandene Medien sind:
- Stromanschluss 3-phasig, 230/400 V
- Gase: Stickstoff, Sauerstoff, Wasserstoff
- Kühlwasserkreislauf
- technische Abluft
- Ethernetanschluss
- Reinstluft für Pneumatik (> 6 Bar)
- Aufstellfläche + Wartungsbereich 8000 mm x 3700 mm
- Max. Anlagenhöhe: 2800 mm
- DCE-Bubbler
Die Anlage soll mit den vorhandenen Medien und zusätzlichem Wärmetauscher zu betreiben sein. Prozessdaten sollen über den Ethernetanschluss zu exportieren sein.
Raumplan, mit vorhandenen Medien und Transportwegen können auf Anfrage zugestellt werden.
Anlagenbeschreibung:
Technische Daten:
Anforderungen an das Basissystem:
- Hochtemperatur-Anlage für 4-Zoll und 6-Zoll Wafer, automatisches Beladen von beiden Wafergrößen mit einem Pitch von 4,76 mm und 9,52 mm ohne Umbau möglich
- Der Anlagenkorpus soll für 4 Rohre ausgestattet sein, wobei 2 davon bestückt sind
- Prozessführung:
o 2 Rohre, atmosphärischer Prozess
- 1x Stickstoff-/Wasserstoff Tempern <450°C mit Sicherheitsverschluss der Tür und H2-Fackel
- 1x Nassoxidation mit H2-Verbrennung + DCE-Oxidation bis 1050 °C
o Grenzparameter:
- Reproduzierbarkeit (Wafer zu Wafer): < +/-3 %
- Charge zu Charge Stabilität: < +/-2 %
o Prozessanforderungen:
- Trockenoxidation SiO2-Schicht (70 nm):
- Scheibenhomogenität: < 3 %
- Chargenhomogenität: < 5 %
- Brechungsindex (Lambda=632,8 nm): 1,46+/-0,02
- Partikelzuwachs (> 0,3 µm/> 1,6 µm): 50/10
- Natriumionen-Konzentration: <=0,15 x 10e11/cm e2
- mittlere Dichte der festen Oxidladung
(-0,6 +/- 0,3) *10e11 cm e-2
- mittlere Durchbruchfeldstärke >= 8 MV/cm
- Nassoxidation mit H2-Verbrennung SiO2-Schicht (190 nm):
- Scheibenhomogenität: < 3 %
- Chargenhomogenität: < 5 %
- Brechungsindex (Lamdba=632,8 nm): 1,46+/-0,02
- Partikelzuwachs (> 0,3 µm/> 1,6 µm): 50/10
- Natriumionen-Konzentration: < +/- 0,5 x 10e11/cm e2
- mittlere Dichte der festen Oxidladung < +/- 0,5 10e11 cm e-2
- mittlere Durchbruchfeldstärke >= 8 MV/cm
- Anforderungen an Wafer-Handling:
o Waferanzahl: 100 6-Zoll-Wafer
o Waferhandling ausschließlich im 6 mm breiten Randbereich (doppelseitig polierte Wafer)
o Kassettenstation, 25 Wafer pro Kassette, e-Pak kompatibel
o Flat aligner für 6-Zoll Wafer
o Vollautomatisches Beladen von Waferkassette auf Boote für 6-Zoll- und 4-Zoll Wafer
o Boote werden vom Paddle im Rohr abgesetzt, das Paddle ist während des Prozesses nicht im Rohr
o Möglichkeit Boote vorzubeladen und automatisch zu starten
- Temperaturregelung:
o Länge des Bereichs konstanter Temperatur (Flat Zone) 600 mm
o 5 Heizzonen
o Maximale Abweichung der Temperatur in Flat Zone +/- 0,5 °C
o Heizkassetten und Festkörperrelais wassergekühlt um Einflüsse zwischen den Rohren zu verhindern
o Regelung auf Thermoelemente im Rohr
o Bei Bruch eines inneren Thermoelements wird automatisch auf ein äußeres Thermoelement umgeschaltet
o Redundante Temperaturmessung am Rohr
- Druckregelung:
o Rohrdichtheitstest implementiert
o Automatischer Lecktest der Rohre vor Start der Oxidation
o Druckmessung für automatische Druckkompensation um Schwankungen des Umgebungsdruckes durch das Wetter auszugleichen
- EtherCAT Bus-Kommunikation zwischen Komponenten
- Bereitstellung der Prozessparameter und der Rezepte, die zum Erreichen der oben spezifizierten Schichteneigenschaften nötig sind
- Installation durch die Wand, Grau-/Reinraumtrennung
Anforderungen an die Software:
- Graphische Benutzeroberfläche in deutscher und englischer Sprache
- Prozesssteuerung
- Rezeptorganisation
- Datenexport in grafischer und digitaler Form
- Visualisierung und Analyse von Prozessdaten
- Versionskontrolle der Rezepte
Inkl. Zubehör:
- Steuer-PC:
- mit Anlagensoftware s.o.
- LAN-Anschluss, 1000 Mbit/s
- Betriebssystem Windows 10 Professional, englisch und deutsch
- Monitor, Full HD, 19-Zoll
- Tastatur und Maus
- Fernwartung durch Remote Access
- NAS-Server zur Speicherung der Rezepte und Prozessdaten. NAS-System mit RAID 1 und 2 x 1 TB Festplatte. Alle Daten auf den Festplatten werden gespiegelt
- Remote Control vom Büroarbeitsplatz
bzw. Anschluss an bestehendes System
- 6-Zoll Quarzboote für alle Rohre (3° tilt; pitch: 4.76 mm)
- Externer Wärmetauscher um das Anlagenkühlwasser von dem Standortkühlwasser zu trennen
- Webcam zur Überwachung der Be- und Entladung der Wafer
- Uninterruptible power supply (UPS)
- Signalampel
- Spülbares Gaskabinett mit Gaslinien und MFCs, mit unabhängigem Sicherheitssystem für jedes Prozessrohr, Gassensoren zur Überwachung von HCl und H2
- Zweites Steuerungspanel an der Hinterseite der Anlage im Grauraumbereich
Weiteres:
- Anlage mit Sicherheitssystem (Interlock), um Hauptgefahren für Leib und Leben abzuwenden, welches unabhängig von der Steuersoftware arbeitet (EN13849-1:2006)
- Anlage beinhaltet Emergency Stop in der Software und mechanische Taster an der Anlage
- zum Betrieb notwendige Geräte müssen im Lieferumfang der Anlage enthalten sein
- Gewährleistung von 24 Monaten ab Endabnahme der Anlage, jedoch spätestens 3 Monate nach Lieferung
- Transport, Versicherung, Zollgebühren, Aufstellung und Installation beim Kunden und Reisekosten sind im Endpreis inklusive
- garantierte Verfügbarkeit von Ersatzteilen von mindestens 10 Jahren
- kostenlose Servicehotline während der Gewährleistung
Dokumente:
- Bedienungsanleitung für alle Komponenten in deutscher und englischer Sprache
- Installationsvorschrift
- Wartungshandbuch
- Technisches Handbuch
- Angabe eines Servicekonzepts
- Dokumentation der OEM-Teile
- CE Kennzeichnung
Expertise
- Angabe von 2 Referenzen über vergleichbare Anlagen
- Lieferant weist die technologischen Parameter an einer Demoanlage mit gleicher Ausstattung unter Reinraumbedingungen in Form von Testwafern nach.
Ergänzungen unter "Zusätzliche Angaben".
2022 WIN 0014
Mittelherkunft aus europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE-OP 2014 bis 2020) als Teil der Reaktion der Union auf die COVID-19-Pandemie (REACT-EU):
Förderprogramm: Richtlinie des Freistaats Thüringen zur Förderung von Forschung, Technologie und Innovation (FTI-Richtlinie) vom 18.08.2015 (ThürStAnz. Nr. 36/2015 vom 07.09.2015, S. 1494-1512), geändert am 17.12.2018, in Kraft getreten am 18.12.2018 (ThürStAnz.-Nr. 3/2019, S. 201-203)
Abschnitt IV: Verfahren
Abschnitt V: Auftragsvergabe
Hochtemperatur-Anlage
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Blaubeuren
NUTS-Code: DE145 Alb-Donau-Kreis
Postleitzahl: 89143
Land: Deutschland
Internet-Adresse: http://www.centrotherm.de
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Ergänzung Beschreibung der Beschaffung:
Liefer- und Anschlussbedingungen:
- Maße des größten gelieferten Einzelteils (ohne Verpackung) L: 2m80, B: 2m20 (bei Überschreitung ist Rücksprache erforderlich)
- Verpackung inklusive
- Versand inklusive
- Transportversicherung inklusive
- Aufstellung inklusive, Einbringung 1. OG
- Installation inklusive
- Inbetriebnahme inklusive
- Anschluss der Abluftlinien an die technische Abluft des Standortes
- Anschluss der Prozessgase (Stickstoff, Sauerstoff, Wasserstoff) zur Anlage, mit Lecktest und Partikel- und Feuchtetest, Leitungslängen ca. 5 m
- Elektrischer Anschluss der Anlage
- Elektrischer Anschluss des Wärmetauschers
- Kühlwasser-Leitungen zu Wärmetauscher, ca. 5 m
- Wasserleitungen von Überdruckventil zu Ablauf an Standort, max. 10 m
- Anschluss an Reinstluft, nahe Anlage
- Nachweis der Funktionsfähigkeit aller Komponenten
Bekanntmachungs-ID: CXP4YEN6BCC
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland
"Der Nachprüfungsantrag ist nach § 160 Abs. 3 GWB unzulässig, soweit:
1) der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Abs. 2 GWB bleibt unberührt,
2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,
3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,
4) mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zuwollen, vergangen sind."