Sputter-Depositionssystem Referenznummer der Bekanntmachung: TU-086/22-21-EI
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Ergebnisse des Vergabeverfahrens
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Ilmenau
NUTS-Code: DEG0F Ilm-Kreis
Postleitzahl: 98693
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: http://www.tu-ilmenau.de
Adresse des Beschafferprofils: http://www.evergabe-online.de
Abschnitt II: Gegenstand
Sputter-Depositionssystem
Lieferung und Inbetriebnahme eines flexibel einsetzbaren Sputter Depositionssystems zur
Abscheidung dünner Filme aus elektrisch leitenden bis isolierenden, ferromagnetischen sowie
nichtferromagnetischen Materialien, als auch für reaktive Sputter Prozesse von Oxid- sowie Nitrid-
Schichten in Schichtkombination ohne Vakuumunterbrechung.
TU Ilmenau
Lieferung und Inbetriebnahme eines flexibel einsetzbaren Sputter-Depositionssystems zur
Abscheidung dünner Filme aus elektrisch leitenden bis isolierenden, ferromagnetischen sowie
nichtferromagnetischen Materialien, als auch für reaktive Sputter-Prozesse von Oxid- sowie Nitrid-
Schichten in Schichtkombination ohne Vakuumunterbrechung. Zur Herstellung und Untersuchung von
Vielelementsystemen, entweder co-gesputtert oder als Multilagen, muss die Anlage über mindestens
4 voneinander unabhängige Sputterquellen verfügen.
Dafür ist eine spezifisch ausgestattete Anlage erforderlich, die im Besonderen eine hohe Variabilität
der Sputter-Geometrie und der Prozessparameter für eine Optimierung der elektronischen, optischen,
magnetischen und weiteren Eigenschaften der Schichten besitzt. Für kombinatorische
Untersuchungen abhängig von Schichtdicke und Zusammensetzung (bei co-gesputterten Schichten)
müssen Schichten mit kontrollierten linearen und gestuften über die Substratfläche verlaufenden
Schichtdickengradienten abgeschieden werden können. Kontrollierte lineare und gestufte
Konzentrationsgradienten über die Schichtdickenrichtung sollen mittels Co-Sputtern von bis zu 4
Materialien erzeugt werden können. Des Weiteren wäre ein Reinigungs- oder Aktivierungsprozess der
Substratoberfläche im Vakuum mittels Plasmaeinwirkung unmittelbar vor den Abscheideprozessen
vorteilhaft.
Die Anlage sollte eine hohe Flexibilität hinsichtlich der Sputtergeometrie und der Plasmabedingungen
zur Beeinflussung der Schichteigenschaften aufweisen. Die Anlage soll zudem zur wissenschaftlichen
Untersuchung der Abscheidemechanismen und zur Prozessentwicklung dienen.
Für einen zukunftssicheren Forschungseinsatz ist eine Erweiterbarkeit der Anlage um weitere
Komponenten besonders vorteilhaft.
Für den vorgesehenen Forschungseinsatz spielt die Prozessentwicklung und -optimierung eine
besondere Rolle. Es sollen unter anderem neue Methoden zur Prognose von Schichtparametern
entwickelt werden. Dafür soll die Möglichkeit bestehen, komplexe Prozessabläufe unter Nutzung
grundlegender Programmierlogik zu definieren. Darüber hinaus sollen alle wesentlichen Prozess- und
Maschinenparameter der Anlage für Abfragen durch ein externes Datenbanksystem verfügbar sein.
Zahlungsbedingungen:
Zahlungsplan:
90% nach Beauftragung und Vorlage einer Bankbürgschaft durch den Auftragnehmer
10% nach erfolgreicher Installation, Einweisung und Abnahme.
Abschnitt IV: Verfahren
Abschnitt V: Auftragsvergabe
Sputter-Depositionssystem
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Oestervraa
NUTS-Code: DK013 Nordsjælland
Postleitzahl: 9750
Land: Dänemark
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Die Vergabeunterlagen stehen ausschließlich elektronisch unter der im Abschnitt I. 3
dieser Bekanntmachung/ Kommunikation angegebenen Internet-Adresse kostenfrei
zur Verfügung. Ein Anwendersupport für Bieter steht unter der Rufnummer: 0228/99
610 1234 zur Verfügung.
Hinweis zum Ausfüllen der EEE: Dienst zum Ausfüllen und Wiederverwenden der
EEE unter dem Link: https://uea.publicprocurement.be/filter?lang=de
Im nächsten Schritt „Ich bin ein Wirtschaftsteilnehmer“ anklicken und dann die
Option " eine Antwort erstellen" anklicken
Bitte weiterhin darauf achten, das im Teil IV Eignungskriterien „JA“ angeben werden
muss um alle notwendigen Angaben eintragen zu können.
„Möchten Sie die Auswahlkriterien A-D verwenden? „JA“ anklicken.
Der Globalvermerk ist nicht anzukreuzen.
Dann kann die EEE ausgefüllt und im gleichen Format (xml)
sowie als PDF-Datei exportiert/ gespeichert werden.
Zusätzlich zu den in Abschnitt III dieser Bekanntmachung notwendigen Angaben
sind die Teile I-III der EEE auszufüllen.
Gemäß §12a ThürVgG die nach diesem Gesetz verpflichtend vorzulegenden
Erklärungen und Nachweise sind nur von demjenigen Bieter, dem nach Abschluss
der Wertung der Angebote der Zuschlag erteilt werden soll (Bestbieter), vorzulegen.
Der Bestbieter hat die vorzulegenden Erklärungen und Nachweise nach
Aufforderung innerhalb einer nach Tagen bestimmten Frist vorzulegen.
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland
entsprechend der Regelungen gemäß § 160 GWB
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Ilmenau
Postleitzahl: 98693
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]
Internet-Adresse: http://www.tu-ilmenau.de