Los 1 - Mask Aligner Referenznummer der Bekanntmachung: 08.21.O.01

Bekanntmachung vergebener Aufträge

Ergebnisse des Vergabeverfahrens

Lieferauftrag

Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1)Name und Adressen
Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Jena
NUTS-Code: DEG03 Jena, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 07745
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://www.leibniz-ipht.de
I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers
Andere: eingetragener Verein, Mitglied der Leibniz-Gemeinschaft
I.5)Haupttätigkeit(en)
Andere Tätigkeit: Forschung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1)Umfang der Beschaffung
II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

Los 1 - Mask Aligner

Referenznummer der Bekanntmachung: 08.21.O.01
II.1.2)CPV-Code Hauptteil
38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
II.1.3)Art des Auftrags
Lieferauftrag
II.1.4)Kurze Beschreibung:

Die Ausschreibung "08.21.O.01 / Los 1 - Mask Aligner" stellt Los 1 von 3 Ausschreibungen des Forschungsprojektes "Ausbau der photolithographischen Basisinfrastruktur am Leibniz-IPHT (InfraLith)" dar.

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt einen Mask Aligner aus, welcher zur Belichtung von Photoresistschichten durch entsprechende Photomasken mittels UV-Licht eingesetzt werden soll. Weiterhin soll der Mask Aligner für die Vorder- und Rückseitenbelichtung/-justage von diversen Substraten sowie für Flutbelichtungen nutzbar sein.

II.1.6)Angaben zu den Losen
Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.1.7)Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.)
Wert ohne MwSt.: [Betrag gelöscht] EUR
II.2)Beschreibung
II.2.3)Erfüllungsort
NUTS-Code: DEG03 Jena, Kreisfreie Stadt
II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Die Ausschreibung "08.21.O.01 / Los 1 - Mask Aligner" stellt Los 1 von 3 Ausschreibungen des Forschungsprojektes "Ausbau der photolithographischen Basisinfrastruktur am Leibniz-IPHT (InfraLith)" dar.

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt einen Mask Aligner aus, welcher zur Belichtung von Photoresistschichten durch entsprechende Photomasken mittels UV-Licht eingesetzt werden soll. Weiterhin soll der Mask Aligner für die Vorder- und Rückseitenbelichtung/-justage von diversen Substraten sowie für Flutbelichtungen nutzbar sein.

II.2.5)Zuschlagskriterien
Qualitätskriterium - Name: technische Spezifikationen / Gewichtung: 60%
Preis - Gewichtung: 40%
II.2.11)Angaben zu Optionen
Optionen: ja
Beschreibung der Optionen:

Folgende Optionen sollen mit angeboten werden und sind separat zu auszupreisen:

Technik:

• Regelbares Ansaugvakuum für das Handling von Wafern mit Membranen,

• Ersatzteil-Kit für Verschleißteile, zur Vermeidung von Ausfallszeiten,

• Ermittlung der optimalen Belichtungsdosis in mindestens 6 Stufen - ohne Entnahme des Substrates und der Maske,

• UV-Sensor für Wellenlänge 400 nm zur Referenzermittlung.

Optikzubehör:

• 10-fach Objektive für Ober- und Unterseitenmikroskop.

Substrathalter (Chucks):

• 1 Stück Chuck für Wafer 100 mm Ø, geeignet für Vorder - und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung im Randbereich des Wafers nach Vorgabe,

• 1 Stück Chuck für Wafer 150 mm Ø, geeignet für Vorder- und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung im Randbereich des Wafers nach Vorgabe,

• 1 Stück Chuck für Wafer 150 mm Ø, geeignet für Vorder- und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung über den gesamten Wafer.

Maskenhalter:

• 1 Stück für 7“ x 7“,

• 1 Stück für 5“ x 5“ für Proximitybelichtung.

Zusatzausrüstungen:

Die Nachrüstbarkeit der folgenden Optionen muss bei Bedarf möglich sein:

• Nanoimprint Lithografie,

• Softwaremodul für Bondalignment sowie Bondchucks.

II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: ja
Projektnummer oder -referenz:

2021 FGI 0020

II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1)Beschreibung
IV.1.1)Verfahrensart
Offenes Verfahren
IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem
IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: nein
IV.2)Verwaltungsangaben
IV.2.1)Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren
Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2021/S 217-570487
IV.2.8)Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems
IV.2.9)Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Auftrags-Nr.: 2220002/295304
Los-Nr.: 1
Bezeichnung des Auftrags:

Los 1 - Mask Aligner

Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja
V.2)Auftragsvergabe
V.2.1)Tag des Vertragsabschlusses:
17/01/2022
V.2.2)Angaben zu den Angeboten
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein
V.2.3)Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde
Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Neuhaus
NUTS-Code: DE222 Passau, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 94152
Land: Deutschland
Der Auftragnehmer ist ein KMU: nein
V.2.4)Angaben zum Wert des Auftrags/Loses (ohne MwSt.)
Gesamtwert des Auftrags/Loses: [Betrag gelöscht] EUR
V.2.5)Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3)Zusätzliche Angaben:
VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland
VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:
01/02/2022

Wähle einen Ort aus Thueringen