Los 3 - Maskless Aligner Referenznummer der Bekanntmachung: 08.21.O.03

Auftragsbekanntmachung

Lieferauftrag

Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1)Name und Adressen
Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Jena
NUTS-Code: DEG03 Jena, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 07745
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: http://www.leibniz-ipht.de
I.3)Kommunikation
Die Auftragsunterlagen stehen für einen uneingeschränkten und vollständigen direkten Zugang gebührenfrei zur Verfügung unter: https://www.dtvp.de/Satellite/notice/CXP4YBRRS36/documents
Weitere Auskünfte erteilen/erteilt die oben genannten Kontaktstellen
Angebote oder Teilnahmeanträge sind einzureichen elektronisch via: https://www.dtvp.de/Satellite/notice/CXP4YBRRS36
I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers
Andere: eingetragener Verein
I.5)Haupttätigkeit(en)
Andere Tätigkeit: Forschung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1)Umfang der Beschaffung
II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

Los 3 - Maskless Aligner

Referenznummer der Bekanntmachung: 08.21.O.03
II.1.2)CPV-Code Hauptteil
38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
II.1.3)Art des Auftrags
Lieferauftrag
II.1.4)Kurze Beschreibung:

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die maskenlose Photolithographie einen Maskless Aligner aus, welcher zur maskenlosen Belichtung von Photoresistschichten auf unterschiedlichen Substraten eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind, daß bei moderater Strukturauflösung im Resist (1 - 2 µm) hohe Schreibgeschwindigkeiten und damit kurze Waferbelichtungszeiten zur Verfügung stehen (< 3 h für 4" Wafer) und die Belichtung auf bis zu 12 mm dicken Substraten erfolgen kann.

- Wertungskriterien: technische Spezifikationen 60%, Preis 40%

II.1.5)Geschätzter Gesamtwert
II.1.6)Angaben zu den Losen
Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.2)Beschreibung
II.2.3)Erfüllungsort
NUTS-Code: DEG03 Jena, Kreisfreie Stadt
Hauptort der Ausführung:

Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. Albert-Einstein-Straße 9 07745 Jena

II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die maskenlose Photolithographie einen Maskless Aligner aus, welcher zur maskenlosen Belichtung von Photoresistschichten auf unterschiedlichen Substraten eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind, daß bei moderater Strukturauflösung im Resist (1 - 2 µm) hohe Schreibgeschwindigkeiten und damit kurze Waferbelichtungszeiten zur Verfügung stehen (< 3 h für 4" Wafer) und die Belichtung auf bis zu 12 mm dicken Substraten erfolgen kann.

II.2.5)Zuschlagskriterien
Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium; alle Kriterien sind nur in den Beschaffungsunterlagen aufgeführt
II.2.6)Geschätzter Wert
II.2.7)Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems
Ende: 31/07/2022
Dieser Auftrag kann verlängert werden: nein
II.2.10)Angaben über Varianten/Alternativangebote
Varianten/Alternativangebote sind zulässig: nein
II.2.11)Angaben zu Optionen
Optionen: ja
Beschreibung der Optionen:

Optionen bitte separat auspreisen.

- Zeichnung-Mode (Einzeichnen bzw. importieren von Strukturen wie Linien und Rechtecke in das Kamerabild und diese belichten),

- Bildaufnahme, Breitenmessung und Wafermapping,

- Übersichtsaufnahme größerer Flächen (ca. 10 x 10 mm²),

- Schwingungsgedämpfter Tisch (zum Gerät passend),

- Garantiezeitverlängerung auf 2 Jahre

II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: ja
Projektnummer oder -referenz:

2021 FGI 0020

II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Angaben

III.2)Bedingungen für den Auftrag
III.2.2)Bedingungen für die Ausführung des Auftrags:

- Besonderen Vertragsbedingungen für Lieferleistungen des Leibniz-IPHT Jena

- Eigenerklärungen gemäß ThürVgG

- Eigenerklärung für nicht präqualifizierte Unternehmen

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1)Beschreibung
IV.1.1)Verfahrensart
Offenes Verfahren
IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem
IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: nein
IV.2)Verwaltungsangaben
IV.2.2)Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge
Tag: 02/03/2022
Ortszeit: 13:00
IV.2.3)Voraussichtlicher Tag der Absendung der Aufforderungen zur Angebotsabgabe bzw. zur Teilnahme an ausgewählte Bewerber
IV.2.4)Sprache(n), in der (denen) Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können:
Deutsch, Englisch
IV.2.6)Bindefrist des Angebots
Das Angebot muss gültig bleiben bis: 01/05/2022
IV.2.7)Bedingungen für die Öffnung der Angebote
Tag: 02/03/2022
Ortszeit: 13:00

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.1)Angaben zur Wiederkehr des Auftrags
Dies ist ein wiederkehrender Auftrag: nein
VI.3)Zusätzliche Angaben:

Bekanntmachungs-ID: CXP4YBRRS36

VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland
VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:
26/01/2022

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