Los 1 - Mask Aligner Referenznummer der Bekanntmachung: 08.21.O.01
Auftragsbekanntmachung
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Jena
NUTS-Code: DEG03 Jena, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 07745
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: http://www.leibniz-ipht.de
Abschnitt II: Gegenstand
Los 1 - Mask Aligner
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt einen Mask Aligner aus, welcher zur Belichtung von Photoresistschichten durch entsprechende Photomasken mittels UV-Licht eingesetzt werden soll. Weiterhin soll der Mask Aligner für die Vorder- und Rückseitenbelichtung/-justage von diversen Substraten sowie für Flutbelichtungen nutzbar sein.
- Wertungskriterien: technische Spezifikationen 60%, Preis 40%
Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. Albert-Einstein-Straße 9 07745 Jena
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt einen Mask Aligner aus, welcher zur Belichtung von Photoresistschichten durch entsprechende Photomasken mittels UV-Licht eingesetzt werden soll. Weiterhin soll der Mask Aligner für die Vorder- und Rückseitenbelichtung/-justage von diversen Substraten sowie für Flutbelichtungen nutzbar sein.
Optionen bitte separat auspreisen.
Technik:
- Regelbares Ansaugvakuum für das Handling von Wafern mit Membranen,
- Ersatzteil-Kit für Verschleißteile, zur Vermeidung von Ausfallszeiten,
- Ermittlung der optimalen Belichtungsdosis in mindestens 6 Stufen - ohne Entnahme des Substrates und der Maske,
- UV-Sensor für Wellenlänge 400 nm zur Referenzermittlung.
Optikzubehör:
- 10-fach Objektive für Ober- und Unterseitenmikroskop.
Substrathalter (Chucks):
- 1 Stück Chuck für Wafer 100 mm Durchm., geeignet für Vorder - und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung im Randbereich des Wafers nach Vorgabe,
- 1 Stück Chuck für Wafer 150 mm Durchm., geeignet für Vorder- und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung im Randbereich des Wafers nach Vorgabe,
- 1 Stück Chuck für Wafer 150 mm Durchm., geeignet für Vorder- und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung über den gesamten Wafer.
Maskenhalter:
- 1 Stück für 7" x 7",
- 1 Stück für 5" x 5" für Proximitybelichtung.
Zusatzausrüstungen:
Die Nachrüstbarkeit der folgenden Optionen muss bei Bedarf möglich sein:
- Nanoimprint Lithografie,
- Softwaremodul für Bondalignment sowie Bondchucks.
2021 FGI 0020
Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Angaben
- Besonderen Vertragsbedingungen für Lieferleistungen des Leibniz-IPHT Jena
- Eigenerklärungen gemäß ThürVgG
- Eigenerklärung für nicht präqualifizierte Unternehmen
Abschnitt IV: Verfahren
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Bekanntmachungs-ID: CXP4YBRRLC2
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland