In-situ Rasterelektronenmikroskop zur Nanodiagnostik (EDX, WDX, GIS, el. Messtechnik) Referenznummer der Bekanntmachung: TU-093/21-201-ZMN
Auftragsbekanntmachung
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Ilmenau
NUTS-Code: DEG0F Ilm-Kreis
Postleitzahl: 98693
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: http://www.tu-ilmenau.de
Adresse des Beschafferprofils: http://www.evergabe-online.de
Abschnitt II: Gegenstand
In-situ Rasterelektronenmikroskop zur Nanodiagnostik (EDX, WDX, GIS, el. Messtechnik)
Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen ein flexibel einsetzbares Rasterelektronenmikroskop für in-situ Anwendungen im Bereich der Nanodiagnostik zu beschaffen. Es sollen physikalische Fragestellungen orts- und zeitaufgelöst beantwortet werden. Dabei spielen unter anderem die kombinatorische in-situ rasterelektronenmikroskopische und elektrische sowie chemische Untersuchung und Charakterisierung u.a. von Gassensoren, von memristiver Elektronik sowie von Batteriematerialien eine Rolle. Diese als Schichten bzw. Bulk-Material vorliegenden Werkstoffe bestehen überwiegend aus Metallen, Metalloxiden, -sulfiden bzw. -nitriden. Zudem sind sowohl durch eine Gasinjektion während der Untersuchung im behandelten Probenbereich elektrische und chemische Messungen zum Nachweis der Veränderung der Schicht- und Bauteileigenschaften vorgesehen. Für den Nachweis von quantitativen Änderungen chemischer Art sind ein EDX und ein WDX System notwendig.
TU Ilmenau
Die Technische Universität Ilmenau beabsichtigt, die technologische Ausstattung im Bereich der Forschung zur Mikro- und Nanotechnologie zu erweitern. Hierzu ist vorgesehen ein flexibel einsetzbares Rasterelektronenmikroskop für in-situ Anwendungen im Bereich der Nanodiagnostik zu beschaffen. Es sollen physikalische Fragestellungen orts- und zeitaufgelöst beantwortet werden. Dabei spielen unter anderem die kombinatorische in-situ rasterelektronenmikroskopische und elektrische sowie chemische Untersuchung und Charakterisierung u.a. von Gassensoren, von memristiver Elektronik sowie von Batteriematerialien eine Rolle. Diese als Schichten bzw. Bulk-Material vorliegenden Werkstoffe bestehen überwiegend aus Metallen, Metalloxiden, -sulfiden bzw. -nitriden. Zudem sind sowohl durch eine Gasinjektion während der Untersuchung im behandelten Probenbereich elektrische und chemische Messungen zum Nachweis der Veränderung der Schicht- und Bauteileigenschaften vorgesehen. Für den Nachweis von quantitativen Änderungen chemischer Art sind ein EDX und ein WDX System notwendig.
Geplante Mindestzahl 2 und Höchstzahl 5
Objektive Kriterien für die Auswahl der begrenzten Zahl von Bewerbern: Mindestanforderungen, Kriteriengewichtung und Ermittlung des Ergebnisses
Zur Teilnahme berechtigt sind die maximal fünf Bewerber, die alle fünf Mindestanforderungen erfüllen haben und die fünf höchsten gewichteten und summierten Wertungen erhalten haben:
(W1) wirtschaftliche Gesamtsituation des Bieters - Absteigende Bewertung der fünf umsatzstärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 10 %,
(W2) Umsatz von Systemen zur Rasterelektronenmikroskopie in Forschungseinrichtungen in den letzten 3 Jahren - Absteigende Bewertung der fünf umsatzstärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 25 %,
(W3) Mitarbeiter und deren Qualifikationsstruktur im Bereich R&D - Absteigende Bewertung der fünf R&D-stärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 15 %,
(T1) Referenzen von derzeit funktionstüchtigen und vergleichbaren Leistungen und Geräten in Europa bzw. weltweit - Absteigende Bewertung der fünf referenzstärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 25 %,
(T2) aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Applikationslabor - Absteigende Bewertung der fünf stärksten Bewerber (5-1 Pkt.) 15 %,
(T3) nächstgelegener Servicestandort - Absteigende Bewertung der Entfernung zum Erfüllungsort (5-1 Pkt.) 10 %,
2021 FGI 0033
Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Angaben
Angaben und Formalitäten, die erforderlich sind, um die Einhaltung der Auflagen zu überprüfen:
(M1) Erklärung, dass sich das Unternehmen weder in Liquidation befindet, noch dass über das Vermögen des Unternehmens das Insolvenz- bzw. Vergleichsverfahren eröffnet oder die Eröffnung beantragt worden ist,
(M2) Auszug aus dem Handelsregister/Gewerbezentralregister (nicht älter als 3 Monate),
(M3) Unbedenklichkeitsbescheinigung des Finanzamtes, der Krankenkassen, der Sozialversicherungsträger, der Berufsgenossenschaften und der Haftpflichtversicherung.
Die Nichterfüllung mindestens eines dieser Mindestanforderungen gilt als Ausschlusskriterium.
Unterlagen, welche
(W1) über die wirtschaftliche Gesamtsituation des Bieters,
(W2) den Umsatz von Systemen zur Rasterelektronenmikroskopie in Forschungseinrichtungen in den letzten 3 Jahren sowie
(W3) die aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Bereich R&D für die Rasterelektronenmikroskopie
aussagekräftige Auskunft geben.
Mindestanforderung (Ausschlusskriterium):
(M4) Der Bewerber muss mindestens eine Referenzinstallation eines Systems zur Rasterelektronenmikroskopie mit einer der Beschaffung entsprechenden bzw. angelehnten Ausstattung in einer Forschungseinrichtung vorweisen können.
(M5) Vorhandensein eines eigenen Applikationslabors zur Rasterelektronenmikroskopie,
Bewertungskriterien:
(T1) Referenzen von derzeit funktionstüchtigen und vergleichbaren Leistungen und Geräten in Europa bzw. weltweit,
(T2) die aktuelle Mitarbeiterzahl und deren Qualifikationsstruktur im Applikationslabor sowie
(T3) nächstgelegener Servicestandort zum Erfüllungsort
Abschnitt IV: Verfahren
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Zum Teilnahmewettbewerb (Erster Teil des Vergabeverfahrens):
Der Teilnahmewettbewerb dient zur Ermittlung der Eignung der Bewerber. Es werden im zweiten Teil des Vergabeverfahrens (Angebotsverfahren) nur Bewerber mit festgestellter Eignung zugelassen. Wird mindestens eine der Mindestanforderungen nicht erfüllt, liegt keine Eignung vor.
Entsprechend Abschnitt IV.1.2. wird aus den geeigneten Bewerbern unter Berücksichtigung der Bewertungsgewichtung eine Auswahl von maximal 5 Bewerbern herbeiführen.
Zum Angebotsverfahren (Zweiter Teil des Vergabeverfahrens):
In einer ersten Phase werden die ausgewählten maximal 5 Bewerber zur Erstellung Lösungskonzeptes und eines ersten verbindlichen Angebots aufgefordert. Diese Angebote sind Grundlage der nächsten Phasen mit Verhandlungsrunden mit maximal 3 Bietern. Im Bedarfsfall können Prozesstests zur Bewertung von Lösungskonzepten vorgesehen werden. In diesen Phasen kann nach Bewertung der vorgelegten Lösungskonzepte und Testergebnisse eine weitere Reduzierung der Teilnehmerzahl erfolgen.
Letztlich werden die im Verfahren verbleibenden Bieter final um ein Angebot gebeten, bevor die Vergabe mit der Auftragserteilung an den Bestbieter abgeschlossen wird.
Die Ausschluss- und Bewertungskriterien werden mit den jeweiligen Aufforderungen zur Angebotserstellung bzw. Prozesstest mitgeteilt.
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland
Telefon: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]9
entsprechend der Regelung gemäß §160 GWB
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Ilmenau
Postleitzahl: 98693
Land: Deutschland
E-Mail: [gelöscht]
Fax: [gelöscht]
Internet-Adresse: http://www.tu-ilmenau.de