Öffentliche Ausschreibung Erfurt 2021 ZEBS Referenznummer der Bekanntmachung: ZEBS 2021 2021-06-02

ZEBS Referenznummer der Bekanntmachung: ZEBS 2021

Bekanntmachung vergebener Aufträge

Ergebnisse des Vergabeverfahrens

Lieferauftrag

Rechtsgrundlage:

Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1)Name und Adressen

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Erfurt
NUTS-Code: DEG01 Erfurt, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 99099
Land: Deutschland
E-Mail: [removed]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: www.cismst.de

I.2)Informationen zur gemeinsamen Beschaffung

Der Auftrag wird von einer zentralen Beschaffungsstelle vergeben

I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers

Andere: mit öffentlichen Mitteln geförderte Forschungseinrichtung

I.5)Haupttätigkeit(en)

Andere Tätigkeit: Forschung und Entwicklung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1)Umfang der Beschaffung

II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

ZEBS

Referenznummer der Bekanntmachung: ZEBS 2021

II.1.2)CPV-Code Hauptteil

42990000 Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke

II.1.3)Art des Auftrags

Lieferauftrag

II.1.4)Kurze Beschreibung:

Zukunftssichere Entwicklungsumgebung von Beschichtungstechnologien für großflächige Substrate

Leistung: PVD-Cluster-Tool.

II.1.6)Angaben zu den Losen

Aufteilung des Auftrags in Lose: ja

II.1.7)Gesamtwert der Beschaffung (ohne MwSt.)

Wert ohne MwSt.: [Betrag gelöscht] EUR

II.2)Beschreibung

II.2.1)Bezeichnung des Auftrags:

PVD-Cluster-Tool

Los-Nr.: 1

II.2.2)Weitere(r) CPV-Code(s)

42990000 Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke

II.2.3)Erfüllungsort

NUTS-Code: DEG01 Erfurt, Kreisfreie Stadt

Hauptort der Ausführung:

CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH

Konrad-Zuse-Straße 14

99099 Erfurt

II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Leistung: PVD-Cluster-Tool

Vorbemerkung:

Im Auftragsfall umfasst die Leistungsbeschreibung alle erforderlichen Soft- und Hardwarebestandteile, die die ordnungsgemäße Nutzung der zu liefernden Geräte im Sinne der Spezifikation gewährleisten.

Sind bei den zu liefernden Geräten und Komponenten bei der Spezifikation bestimmte Typen angegeben oder ein Vermerk auf einen Hersteller, so sind im Angebot bei Nachweis der Funktionsgleichheit und Bauart Alternativen möglich.

Alle Angebote sind inkl. Lieferung frei Haus, Transportversicherung, Verpackung, Aufstellung, Installation, Inbetriebnahme, Nachweis der technischen und technologischen Funktionstüchtigkeit und Einweisung.

Die Geräte müssen alle gültigen EU-Normen und EU-Sicherheitsvorschriften erfüllen inkl. CE-Kennzeichnung.

Die geplanten Investitionen im Rahmen des Projektes „Zukunftssichere Entwicklungsumgebung von Beschichtungstechnologien für großflächige Substrate“ sind in den stetigen Entwicklungsprozess integriert, der sich zum Ziel setzt, die Marktfähigkeit von bestehenden technologischen Lösungen für essentielle MEMS- und MOEMS-Bauelemente auszubauen und verstärkt auf dem Weltmarkt zu etablieren.

Los-Nr: 1 Bezeichnung: PVD-Cluster-Tool

Lieferumfang:

CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH benötigt eine automatisierte PVD-Beschichtungsanlage für die Bearbeitung von Silizium-Wafern im CMOS-Bereich.

Das modulare Beschichtungstool der neuesten Generation auf der Basis von bewährter und technologisch ausgereifter Anlagentechnik soll eine flexible Prozessführung bei gleichzeitigem hohen Grad an Prozesskontrolle ermöglichen. Das System soll eine möglichst kleine Stellfläche benötigen und ausbaufähig/anschlussfähig für weitere Prozesskammern sein. Der Lieferumfang umfasst neben der ausführlichen Dokumentation, die Inbetriebnahme und Einweisung des Personals am CiS.

Eine Kontrollsoftware, die sowohl Beschichtungsrezepte als auch Beschichtungsparameter verwaltet und regelt, muss anlagenseitig integriert sein.

Raumplan, mit vorhandenen Medien und Transportwege können auf Anfrage zugestellt werden.

Folgende Basiskonfiguration muss enthalten sein:

A. Batch-Sputter-Prozesskammer

— Alle Kammer- und Türmaterialien aus Edelstahl 1.304 oder besser,

— Multimagnetronkammer – Top-Down-Prozess,

— Wassergekühlte Chargenvorrichtung für 6 Stück 150 mm Wafer,

— Substratdrehung – kontinuierlich oder indexiert 360 ^o,

— Pneumatisch betätigter Absperrschieber zwischen Ladeschleuse und Prozesskammer,

— Abnehmbarer Liner (extra als Ersatzsatz),

— Basisdruck im Bereich von 10E-8 mbar.

A1. Vakuumkomponenten

— Regulierbarer Sputterdruck (Baratron),

— Vollbereichsmanomater,

— Vorvakuum- und Turbopumpe,

— Mehrstufige Drosselklappe.

A2. Prozessregelung

— 8"-Magnetrons (3x),

— Softwaregestützter Wechsel zwischen den Magnetrons,

— DC-Generator 3-5kW (angeschlossen an 2 Targets),

— Substratreinigung (Rücksputtern, keine Glimme),

— RF-Generator 1-3kW (angeschlossen an ein Target und Rücksputtersposition/Vorätzer),

— Schichthomogenität über 6"-Wafer +/- 5 %,

— Automatischen Matchbox.

A3. Gasversorgung

— Spülgas N2,

— MFCs (mindestens 3, kalibriert für Ar, O2 und N2),

— Anschlussmöglichkeit für weitere MFCs.

B. Kühlwasserregelung für das Clustersystem

Allgemein: Das Clustertool verfügt über ein Kühlwassersystem mit Temperaturmessung und Durchflussregelung. Relevante Einzelwerte sind anzuzeigen.

C. Dokumentation

Die Dokumentation in deutscher oder englischer Sprache muss die Beschreibung, Bedienung und Wartung aller Komponenten enthalten. Sie ist sowohl in Papierform als auch in digitaler Version

Beizustellen.

D. Steuersoftware

Rezepte müssen einfach generierbar und überschaubar erstellbar sein.

Im laufenden Prozess muss der Abarbeitungsstand der einzelnen Prozessschritte ersichtlich sein.

Relevante Machinen- und Prozessparameter müssen erfasst und gespreichert werden. Die umfangreiche Datenerfassung soll als Unterstützung der Prozessentwicklung dienen.

— Das System soll vollautomatisch betrieben werden können aber auch gegebenenfalls manuell,

— Die Rezeptdatenverwaltung muss dem aktuellen Stand der üblichen Speicherkapazität entsprechen,

— Maschinenbetrieb und Prozessausführung über SPS-Steuerung,

— PC mit windows-basiertem Interface für die Bearbeitung von Rezepten und veschiedenen Datenprotokollierfunktionen,

— Nutzerebenen mit verschiedene Lese- und Schreibrechten müssen definierbar sein (induviduelle Logins und Passwörter),

— Bildschirmüberwachung der laufenden Abscheideprozesse.

D1. Benutzerebenen

Die Benutzeroberfläche ist in verschiedenen Bedienebenen eingeteilt. Es müssen unterschiedlichen Lese- und Schreibrechte vergeben werden.

Mindestvorgabe: Unterteilung in Bediener, Service und Administrator (in diesem Fall entsprechender Entwicklungsingenieur)

D2. Datenerfassung/-protokollierung

— Datenerfassung pro Wafer,

— Erfassung und Hinterlegung von Störungen (maschinen- oder prozessseitig),

— Datenexport als CSV-Datei oder direkt an SQL-Server.

D3. Remote-Dienste

— Remote – Zugriff zur Unterstützung und Fehlerbehebung,

— Software-Updates,

— Rezepterstellung in Kooperation mit dem Anlagenhersteller.

E. Weiteres

— Garantie von 12 Monaten ab Endabnahme der Anlage,

— Transport, Versicherung, Zollgebühren, Aufstellung und Installation beim Kunden und Reisekosten sind im Endpreis inklusive auszuweisen,

— Das Gerät muss über ausreichende Sicherungsfunktionen/Notausschalter verfügen.

F. Liefer- und Anschlussbedingungen

— Verpackung, Versand, Transportversicherung inklusive,

— Aufstellung, Installation, Inbetriebnahme inklusive,

— Nachweis der Funktionsfähigkeit aller Komponenten inklusive,

— Einweisung und Training für 3 Nutzer inklusive Schulungskosten.

II.2.5)Zuschlagskriterien

Preis

II.2.11)Angaben zu Optionen

Optionen: nein

II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union

Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein

II.2.14)Zusätzliche Angaben

Mittelherkunft aus Landesmitteln in Anlehnung an die Richtlinie des Freistaates Thüringen zur Förderung von Forschung, Technologie und Innovation (FTI-Richtlinie) vom 18.8.2015 (ThürStAnz. Nr. 36/2015 vom 7.9.2015, S. 1494-1512), geändert am 17.12.2018, in Kraft getreten am 18.12.2018 (ThürStAnz.-Nr. 3/2019 vom 21.1.2019, S. 201-203)

Vorhabens-Nr.: 2021 WIN 0002

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1)Beschreibung

IV.1.1)Verfahrensart

Offenes Verfahren

IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem

IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)

Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja

IV.2)Verwaltungsangaben

IV.2.1)Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren

Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2021/S 058-146125

IV.2.8)Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems

IV.2.9)Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Auftrags-Nr.: 411208

Los-Nr.: 1

Bezeichnung des Auftrags:

PVD-Cluster-Tool

Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja

V.2)Auftragsvergabe

V.2.1)Tag des Vertragsabschlusses:

25/05/2021

V.2.2)Angaben zu den Angeboten

Anzahl der eingegangenen Angebote: 1

Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein

V.2.3)Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Oestervraa
NUTS-Code: DK05 Nordjylland
Postleitzahl: 9750
Land: Dänemark
E-Mail: [removed]
Telefon: [removed]
Fax: [removed]
Internet-Adresse: http://polyteknik.com

Der Auftragnehmer ist ein KMU: ja

V.2.4)Angaben zum Wert des Auftrags/Loses (ohne MwSt.)

Ursprünglich veranschlagter Gesamtwert des Auftrags/des Loses: [Betrag gelöscht] EUR

Gesamtwert des Auftrags/Loses: [Betrag gelöscht] EUR

V.2.5)Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3)Zusätzliche Angaben:

Bekanntmachungs-ID: CXP4YENRR4Q

VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren

VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren

Offizielle Bezeichnung:[gelöscht]
Postanschrift:[gelöscht]
Ort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland

VI.4.3)Einlegung von Rechtsbehelfen

Genaue Angaben zu den Fristen für die Einlegung von Rechtsbehelfen:

„Der Nachprüfungsantrag ist nach § 160 Abs. 3 GWB unzulässig, soweit:

1) der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von 10 Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Abs. 2 GWB bleibt unberührt,

2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,

3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden,

4) mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind.“

VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:

28/05/2021

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