Glow discharge optical emission spectroscopy (GDOES) Referenznummer der Bekanntmachung: ING-A3
Auftragsbekanntmachung
Lieferauftrag
Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
Postanschrift: Prüssingstr. 27 B
Ort: Jena
NUTS-Code: DEG03 Jena, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 07745
Land: Deutschland
E-Mail: [removed]
Telefon: [removed]
Fax: [removed]
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: www.innovent-jena.de
Abschnitt II: Gegenstand
Glow discharge optical emission spectroscopy (GDOES)
Bereitstellung eines Arbeitsplatzes zur qualitativen und quantitativen Elementbestimmung von metallischen und nichtmetallischen Substraten mittels Glimmentladungsspektroskopie (glow discharge optical emission spectroscopy; GDOES). Entsprechend des Profils des Auftraggebers wird dieses GDOES für unterschiedliche Anwendungen im Sinne der Materialanalyse für Forschungs- und Drittmittelarbeiten genutzt. Dazu werden insbesondere eine große Variabilität bezüglich der Elementanalyse und hohe Anforderungen an die Analyse von Schichten, Schichtsystemen und Bulkmaterialien mit hoher Auflösung gefordert.
In den Vergabeunterlagen aufgeführt
Der Auftragsgegenstand gliedert sich in folgende Schwerpunkte:
1.1. GDOES Grundangaben des Gehäuses bzw. der Stellfläche (exklusive der Peripheriegeräte, wie bspw. Kühlsystem oder Stickstoffgenerator)
— Breite Maximal: 1 500 mm,
— Tiefe maximal: 890 mm,
— Höhe maximal: 1 300 mm,
— Gewicht maximal 750 kg Ausstattung des GDOES,
— RF-Quelle zur Elementanalyse von metallischen und nichtmetallischen Substraten bei gleichzeitiger Ausformung einer gleichmäßigen Kratergeometrie; RF-Quelle muss einen kontinuierlichen und einen gepulsten Modus ermöglichen (beide Modi müssen während des Sputterns auf Impedanzänderungen in Echtzeit eine automatische Anpassung aufweisen; die Frequenz muss konstant bleiben, typischerweise 13,56 MHz)
— Polychromator und Monochromator zur Detektion der geforderten Elemente
— weiterer Polychromator mit hochdynamischem Detektor für die flexible Erfassung weiterer Elemente
— Analysenkammer mit zwei unabhängig betriebenen Pumpen für Tiefenauflösungen im Nanometerbereich (Beide Pumpen müssen eine angemessene Kontrolle und gleichmäßige Druckverteilung auf der Probenoberfläche während einer Tiefenprofilierung gewährleisten)
— direkte und kontinuierliche Online-Tiefenmessung während des Sputtervorgangs zur Bestimmung der Kratertiefe (zur bspw. Bestimmung der Schichtdicken von Multilayersystemen); Ausschluss der Überlagerung von Messsignal (bspw. interferrometrisch) und Elementemission
— Transfervorrichtung zur Analyse sauerstoffempfindlicher Proben und zur Analyse unter Schutzgasatmosphäre
— hohe Erfassungsdynamik zur exakten Bestimmung der Elementkonzentration für stark alternierende Zusammensetzungen in aufeinander folgenden Schichten (Dabei müssen geringe Elementkonzentrationen des einen Elements synchron zu hohen Elementkonzentrationen eines anderen Elements gemessen werden können. Um diesen Dynamikumfang zu gewährleisten, muss das Gerät mit einem Polychromator ausgestattet sein, der für jedes Element mit einem eigenen hochdynamisch geregelten Detektor ausgestattet ist. Die Detektoren müssen sich automatisch und instantan der Intensität der Elementemission anpassen. Diese Anpassung muss es erlauben eine Messung ohne Voreinstellung der Detektorempfindlichkeit durchzuführen. Für die geforderten Elemente muss diese Erfassungsdynamik gewährleistet sein.)
— optische Positionierhilfe zur optimalen Probenpositionierung (bspw. mittels Laserlicht) Geforderte Elemente
— H, Li, B; C, N, O, F, Na, Mg, Al, Si, P, S, Cl, K, Ca, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, As, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, La, Ce, Nd, W, Pt, Au, Pb, Bi (47 Elemente)
— Messung von H, C, N, O und Cl im Spektralbereich <160 nm, da für diese Elemente die intensivste Emissionslinie in diesem Spektralbereich liegt Peripherie
— Hard- und Software zur Bedienung des GDOES (Computer Win 10 / 64 Bit und Monitor mind. 23“ und HDMI-Anschluss)
— Umlaufkühler für die RF-Quelle Weitere Anforderungen
— kalibriertes Gerät
— Möglichkeit zur Inhouse-Schulung
— Möglichkeit zur jährlichen Service Wartung für die nächsten 10 Jahre 1.2. Lieferung, Aufstellung, Installation des Systems Verpackung und Transport sind vom Bieter vorzunehmen und im Angebot zu berücksichtigen. Hinsichtlich notwendiger Versorgungsmedien und Peripherie wird ein Aufstellplan mit Bedarfs und Anforderungsliste der Medienzuführung erwartet. Sämtliche benötigten Sicherheitsvorrichtungen sind vom Bieter anzugeben. Eine technische Dokumentation inkl. CE-Konformitätserklärung im Sinne der EG Maschinenrichtlinie 2006/42/EG, ISO9001 / WHG Zertifikate, Betriebsanleitung etc. sind anzugeben. Ein Benutzerhandbuch sowie eine technische Dokumentation für das Gerät sind in deutscher und englischer Sprache in digitaler und gedruckter Form mitzuliefern. Diese sollen eine entsprechende Aufbauanleitung beinhalten. Alternativ können zur Aufbauanleitung entsprechende digitale Medien oder Anleitungen für die Inbetriebnahme angeboten werden.
Aufbau eines Messplatzes zur Prozesskontrolle und Schichtanalyse von chemischen, elektrochemischen und plasmachemischen Oberflächenfunktional. …
Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Angaben
Die Bedingungen für die Ausführung des Auftrages für das Verfahren zum Erwerb der Anlagentechnik für die chemische, elektrochemische und plasmachemische Oberflächenbehandlung von vorzugsweise Leichtmetallen erhalten Sie in den Anlagen
Abschnitt IV: Verfahren
Abschnitt VI: Weitere Angaben
Siehe Vergabeunterlagen
Postanschrift: Weimarplatz 4
Ort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland
E-Mail: [removed]
Telefon: [removed]
Fax: [removed]
(1) Etwaige Vergabeverstöße muss der Bewerber/Bieter gemäß § 160 Abs. 3 Nr. 1 GWB innerhalb von 10 Tagen nach Kenntnisnahme rügen.
(2) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, sind nach § 160 Abs. 3 Nr. 2 GWB spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Abgabe der Bewerbung oder der Angebote gegenüber dem Auftraggeber zu rügen.
(3) Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, sind nach § 160 Abs. 3 Nr. 3 GWB spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbungs- oder Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber zu rügen.
(4) Ein Vergabenachprüfungsantrag ist nach § 160 Abs. 3 Nr. 4 GWB innerhalb von 15 Kalendertagen nach der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, bei der Vergabekammer einzureichen.