Maskenloses Laser Lithografie System. Referenznummer der Bekanntmachung: E_005_231457 cl-ort FMD

Auftragsbekanntmachung

Lieferauftrag

Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1)Name und Adressen
Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal deutsche eVergabe
Hansastr. 27c
München
80686
Deutschland
E-Mail:
NUTS-Code: DE212

Internet-Adresse(n):

Hauptadresse: http://www.fraunhofer.de

Adresse des Beschafferprofils: http://www.deutsche-evergabe.de

I.2)Gemeinsame Beschaffung
I.3)Kommunikation
Die Auftragsunterlagen stehen für einen uneingeschränkten und vollständigen direkten Zugang gebührenfrei zur Verfügung unter: http://www.deutsche-evergabe.de
Weitere Auskünfte erteilen/erteilt die oben genannten Kontaktstellen
Angebote oder Teilnahmeanträge sind einzureichen elektronisch via: http://www.deutsche-evergabe.de
I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers
Andere: Forschungsgesellschaft e. V.
I.5)Haupttätigkeit(en)
Andere Tätigkeit: Forschung und Entwicklung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1)Umfang der Beschaffung
II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

Maskenloses Laser Lithografie System.

Referenznummer der Bekanntmachung: E_005_231457 cl-ort FMD
II.1.2)CPV-Code Hauptteil
42610000
II.1.3)Art des Auftrags
Lieferauftrag
II.1.4)Kurze Beschreibung:

Maskenloses Laser Lithografie System

Das System dient der Durchführung maskenloser optischer Lithografieprozesse mittels Laser Direktbelichtung auf unterschiedlichen Substratmaterialien (SiC, GaAs, GaSb, Diamant). Die Substratgröße variiert zwischen 3 x 3 mm² und 100 mm. Die Belichtung erfolgt auf üblichen I-Line Fotolacken mit einem Empfindlichkeitsbereich von 365 405 nm Wellenlänge. Ein Autofokussystem gleicht die Substratkrümmung durch Nachführung des Fokuspunktes aus. Wegen der relativ langen Schreibzeiten soll das automatische Belichten von mindestens vier 100 mm Wafern möglich sein. Die Belichtungslayouts liegen im GDSII Format vor. Die Aufstellung der Anlage erfolgt in einem Reinraum der ISO Klasse 5.

II.1.5)Geschätzter Gesamtwert
II.1.6)Angaben zu den Losen
Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.2)Beschreibung
II.2.1)Bezeichnung des Auftrags:
II.2.2)Weitere(r) CPV-Code(s)
II.2.3)Erfüllungsort
NUTS-Code: DE13
Hauptort der Ausführung:

79108 Freiburg.

II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Maskenloses Laser Lithografie System

Das System dient der Durchführung maskenloser optischer Lithografieprozesse mittels Laser Direktbelichtung auf unterschiedlichen Substratmaterialien (SiC, GaAs, GaSb, Diamant). Die Substratgröße variiert zwischen 3 x 3 mm² und 100 mm. Die Belichtung erfolgt auf üblichen I-Line Fotolacken mit einem Empfindlichkeitsbereich von 365 405 nm Wellenlänge. Ein Autofokussystem gleicht die Substratkrümmung durch Nachführung des Fokuspunktes aus. Wegen der relativ langen Schreibzeiten soll das automatische Belichten von mindestens vier 100 mm Wafern möglich sein. Die Belichtungslayouts liegen im GDSII Format vor. Die Aufstellung der Anlage erfolgt in einem Reinraum der ISO Klasse 5.

II.2.5)Zuschlagskriterien
Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium; alle Kriterien sind nur in den Beschaffungsunterlagen aufgeführt
II.2.6)Geschätzter Wert
II.2.7)Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des dynamischen Beschaffungssystems
Laufzeit in Monaten: 8
Dieser Auftrag kann verlängert werden: nein
II.2.10)Angaben über Varianten/Alternativangebote
Varianten/Alternativangebote sind zulässig: nein
II.2.11)Angaben zu Optionen
Optionen: nein
II.2.12)Angaben zu elektronischen Katalogen
II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische Angaben

III.1)Teilnahmebedingungen
III.1.1)Befähigung zur Berufsausübung einschließlich Auflagen hinsichtlich der Eintragung in einem Berufs- oder Handelsregister
III.1.2)Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Eignungskriterien gemäß Auftragsunterlagen
III.1.3)Technische und berufliche Leistungsfähigkeit
Eignungskriterien gemäß Auftragsunterlagen
III.1.5)Angaben zu vorbehaltenen Aufträgen
III.2)Bedingungen für den Auftrag
III.2.2)Bedingungen für die Ausführung des Auftrags:

Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter III.1.) aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen, deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen.

III.2.3)Für die Ausführung des Auftrags verantwortliches Personal

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1)Beschreibung
IV.1.1)Verfahrensart
Offenes Verfahren
Beschleunigtes Verfahren
Begründung:

Vorveröffentlichung 2017/S 055-101226.

IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem
IV.1.4)Angaben zur Verringerung der Zahl der Wirtschaftsteilnehmer oder Lösungen im Laufe der Verhandlung bzw. des Dialogs
IV.1.6)Angaben zur elektronischen Auktion
IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja
IV.2)Verwaltungsangaben
IV.2.1)Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren
Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2017/S 055-101226
IV.2.2)Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge
Tag: 27/07/2017
Ortszeit: 23:59
IV.2.3)Voraussichtlicher Tag der Absendung der Aufforderungen zur Angebotsabgabe bzw. zur Teilnahme an ausgewählte Bewerber
IV.2.4)Sprache(n), in der (denen) Angebote oder Teilnahmeanträge eingereicht werden können:
Deutsch
IV.2.6)Bindefrist des Angebots
Das Angebot muss gültig bleiben bis: 01/09/2017
IV.2.7)Bedingungen für die Öffnung der Angebote
Tag: 28/07/2017
Ortszeit: 14:00

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.1)Angaben zur Wiederkehr des Auftrags
Dies ist ein wiederkehrender Auftrag: nein
VI.2)Angaben zu elektronischen Arbeitsabläufen
VI.3)Zusätzliche Angaben:

- Anforderung Unterlagen - erhältlich bei: Die Vergabeunterlagen können ausschließlich über das Vergabeportal der deutschen e-Vergabe unter www.deutsche-evergabe.de abgerufen werden. - Bewerber unterliegen mit der Angebotsabgabe auch den Bestimmungen über nicht berücksichtigte Angebote (§ 134 GWB) - Fragen oder Hinweise der Bieter können nur in deutscher Sprache und ausschließlich per E-Mail an die unter Ziffer I.1 genannte Kontaktstelle gerichtet werden. Soweit relevant, werden Antworten auf Fragen oder Hinweise der Bieter auch an alle anderen Bieter versandt.

VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Villemomblerstraße 76
Bonn
53123
Deutschland
VI.4.2)Zuständige Stelle für Schlichtungsverfahren
VI.4.3)Einlegung von Rechtsbehelfen
Genaue Angaben zu den Fristen für die Einlegung von Rechtsbehelfen:

Solange ein wirksamer Zuschlag (Vertragsschluss) noch nicht erteilt ist, kann als Rechtsbehelf ein Nachprüfungsantrag bei der unter VI.4.1 genannten Stelle gestellt werden. Bewerber/Bieter müssen Vergaberechtsverstöße unverzüglich bei der unter I.1) genannten Vergabestelle rügen, bevor sie einen Nachprüfungsantrag stellen. Wir weisen ausdrücklich auf die Antragsfrist des § 160 Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen (GWB) hin. Bieter, deren Angebote nicht berücksichtigt werden soll, werden vor dem Zuschlag gem. § 134 GWB informiert.

VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt
Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. über Vergabeportal eVergabe
Hansastraße 27c
München
80686
Deutschland
E-Mail:

Internet-Adresse:http://www.fraunhofer.de

VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:
12/07/2017